化学工学会
第42回秋季大会

2010年9月6日〜8日 同志社大学 今出川キャンパス
  


【口頭発表について】
 ・発表者は各自ノートパソコンを持参し,交代時間1分の間に接続してください。OHPプロジェクタは使用できません。
 ・一般の口頭発表は,F会場の材料・界面討論会「材料創成と界面現象」,およびL会場1日目(バイオ部会ポスターセ ッションフラッシュ発表)を除いて,講演15分,討論4分,交代1分となっております。
 ・展望講演,招待講演などは全体で40分のものなどもございます。

【F会場 材料・界面討論会「材料創成と界面現象」について】

 本シンポジウムの口頭発表は,発表時間12分,質疑応答7分,交代1分となっておりますので,ご注意ください。

【ポスター発表 (W1P##, W2P##, WA2P##)について】
 ・ポスターボードの大きさは,横幅 832 mm,高さ 1640 mm(板面,貼付可能部分)です。会場にポスター掲示用の押しピンを用意しておきますので,ご利用ください。
 ・ポスターセッションはすべて同じ会場(寒梅館地下A会議室)を利用しますので,各自の発表時間直前にポスターを掲示し,発表終了後は速やかにポスターをはずしてください。
 ・分離プロセス部会のポスターセッション(W2P##)終了後に,表彰式が行われます。表彰式は,発表会場の隣の部屋 (WS会場)で午後から行われます。

【バイオ部会ポスターセッション(フラッシュ発表付)について】(L1P##, W1P##)
 ・発表者が必ず確認せねばならない重要な案内(オーガナイザーより)がございます。必ず確認ください。 
 ・フラッシュ発表は一人2分となっていますので,プログラムを確認ください。フラッシュ発表会場(L)とポスター会場(W)は,別の建物にあり徒歩数分の距離があります。フラッシュ発表終了からポスター発表開始まで,約30分の時間がありますので その間に移動ください。会場案内図(PDF)をご確認ください。

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