野田 優(早稲田大学)・下山 裕介(東京工業大学)・川上 雅人(東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ(株))・百瀬 渉(ALDジャパン(株)) |
CVDやALDなどのドライプロセスはエレクトロニクス、エネルギーデバイス、機能性コーティングなど様々な分野で重要な基幹技術となっています。本シンポジウムでは、ドライプロセスを利用した薄膜形成、微粒子合成、微細加工の反応メカニズムを反応工学的見地より理解し、合理的で効率的な反応プロセスや反応装置を議論します。なお、優秀な発表をされた若手研究者には、CVD反応分科会奨励賞を贈呈します。
最終更新日時:2023-05-14 05:35:01
この分類でよく使われ ているキーワード | キーワード | 受理件数 | |
---|---|---|---|
chemical vapor deposition | 3件 | ||
ALD | 2件 | ||
Surface modification | 1件 |
受理 番号 | 講演題目/発表者 | キーワード | 発表形式 |
---|---|---|---|
9 | ミニマルシリコンCVDにおける三塩化ホウ素によるホウ素ドーピング | Minimal Fab Silicon CVD Boron Doping | O |
119 | [展望講演] フラックスコーティング法が拓く結晶材料フロンティア | Flux method Crystalline layer Environmental and energy devices | O |
198 | [招待講演] レーザーを援用した化学気相析出による非酸化物セラミックスの構造と機能 | chemical vapor deposition laser microstructure | O |
221 | [展望講演] 機械学習によるW-ALD成膜速度の予測精度向上と応用展開 (東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ) ○会田 倫崇・ | Machine Learning ALD Simulation | O |
237 | 真空紫外光による機能性保護膜コーティング法 | Vacuum ultraviolet light Polymer coating Surface modification | O |
239 | 触媒原料急熱による単層カーボンナノチューブの気相連続CVD合成 | carbon nanotube chemical vapor deposition nanoparticle catalyst | O |
407 | アルキルアルミニウムを原料としたAlN薄膜合成法の検討 | chemical vapor deposition AlN trimethylaluminium | O |
437 | 浮遊PECVDコーティングプロセスによるZnO-TiO2-CNTの作製 | photocatalytic activity composite material aerosol process | O |
450 | SiC-CVI法における高濃度水素供給を利用した高速含浸条件の検討 | SiC CVI CVD | O |
497 | 超臨界CO2を利用した表面修飾Fe3O4ナノ粒子の洗浄 | carbon dioxide magnetite nanoparticles supercritical washing | O |
528 | 超臨界CO2を媒体とした磁性ナノ粒子合成における温度と圧力の影響 | supercritical CO2 magnetic nanoparticle temperature and pressure | O |
599 | 密度汎関数法によるCu (111)表面におけるCuアセチルアセトナートの解離吸着に関する研究 | Atomic Layer Depositon Density Function Theory Surface Adsorption | O |
617 | CCTBAを用いたCo-ALDプロセスの検討 | ALD cobalt CCTBA | O |
686 | COSMO-SAC法による金属錯体の蒸気圧予測の検討 | vapor pressure metal complex COSMO-SAC | O |