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化学工学会 第83年会

Last modified: 2018-02-27 10:00:00

講演プログラム（会場・日程別） : K会場・第3日

講演要旨は各講演番号からリンクしています。(要ID/PW)
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K 会場(2F 2208) ・ 第 3 日(3月15日(木))

5 反応工学

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
5. 反応工学
オーガナイズドセッション(反応工学部会CVD反応分科会)
(9:00～10:20) (座長 百瀬 健・河瀬 元明)
9:00～ 9:20K301気相浮遊コーティングプロセスによるポリマー被覆カーボンナノチューブの調製
(広大院工) ○(正)島田 学・ (学·技基)西原 啓太・ Hemanth L. R.・ (正)久保 優・ (広大院工/ITS Surabaya) (正)Kusdianto K
PECVD
polymerization reaction
dry coating process
5-h313
9:20～ 9:40K302ディーゼルエンジンを用いたカーボンナノチューブの合成機構および生成機構に関する研究
(東工大院理工) ○(学)鈴木 俊介・ (東工大物質理工) (正)森 伸介
carbon nanotube
diesel engine
growth mechanism
5-h432
9:40～ 10:00K303活性化窒素気相／水相の相界面反応場における無触媒アンモニア合成
(九工大) ○(正)春山 哲也・ (学)酒倉 辰弥・ (学)上村 進太朗・ 日野 睦章・ 清松 将太郎・ 高辻 義行・ 村上 直也
Plasma
Ammonia
Non-catalytic
5-c538
10:00～ 10:20K304熱CVD法による高Al組成fcc-TiAlN膜の合成
(東大院工) ○(学)佐藤 宏樹・ (東大工) 山口 潤・ (東大院工) 平原 智子・ (京セラ) (法)久保 隼人・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (京セラ) (法)谷渕 栄仁・ (東大院工) (正)霜垣 幸浩
CVD
TiAlN
cutting tool
5-h639
(10:40～11:40) (座長 河瀬 元明・百瀬 健)
10:40～ 11:00K306SiC-CVIプロセスにおける高濃度原料供給条件下での製膜モデルの検討(2)
(東大院工) ○(学)中 智明・ (学)佐藤 登・ (学)舩門 佑一・ (IHI) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
CVI
SiC
5-h191
11:00～ 11:20K307CVIにおける繊維へのSiC含浸過程シミュレーション
(東大院工) ○(学)舩門 佑一・ (学)佐藤 登・ (学)中 智明・ (IHI基盤研) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
SiC
CVI
Multiscale
5-h502
11:20～ 11:40[分科会奨励賞] CVD反応分科会奨励賞受賞式
(13:00～14:20) (座長 島田 学・大久保 尚人)
13:00～ 13:20K313Superfine particles を用いた流動層内気固挙動に関する基礎検討
(鹿大院工) ○(正)五島 崇・ (学)島崎 幸也・ (正)水田 敬・ (正)二井 晋
Superfine particles
Fluidized bed
Geldart C particles
5-e409
13:20～ 13:40K314二重円筒型反応器を用いたメタノール水溶液改質反応
(電機大工) ○(正)小林 大祐・ 萩原 満之・ (佐渡精密) 坂下 弘将・ (新エネ研) 小林 新・ 斉藤 泰和・ (東理大工) (正)庄野 厚
Aqueous methanol
Scale-up
Superheated liquid-film
5-e657
13:40～ 14:00K315マイクロリアクタを用いたエステル化反応のメカニズム検討
(日立研開) ○(正)浅野 由花子・ (正)富樫 盛典
Microreactor
Esterification
Reaction Mechanism
5-f10
14:00～ 14:20K316マイクロ流路における気液吸収の研究
(神戸製鋼所) ○(法)緒方 健人・ (正)藤澤 彰利・ (正)松岡 亮・ (正)野一色 公二
gas-liquid
absorption
microchannel
5-f728

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化学工学会 第83年会

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