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化学工学会高松大会

講演プログラム（会場・日程別）

A会場 第2日

最終更新日時：2012-11-27 01:31:10
座長は変更の可能性があります。
講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
A:分離プロセス, 超臨界流体等
(9:30〜10:30)　(座長 島内寿徳・加藤 雅裕)
9:30〜 9:45A201凍結過程におけるペプチドの凝集・会合挙動の解明
(兵庫県大院工) ○(学)畑中 隆伸 ・ (正)中川 究也
freeze drying
freezing
peptide
4-h33
9:45〜 10:00A202プロテインAクロマトグラフィーにおける抗体動的吸着量の推定
(山口大) ○(学)長岡 宏侑 ・ (正)吉本 則子 ・ (正)山本 修一
protein A chromatography
pore diffusion coefficient
dynamic binding capacity
4-i77
10:00〜 10:15A203アパタイトクロマトグラフィーにおけるタンパク質の認識機構と分離特性
(山口大) ○(学)徳永 貴史 ・ (正)吉本 則子 ・ (正)山本 修一
apatite chromatography
binding site
biorecognition
4-i78
10:15〜 10:30A204分子動力学法を用いたシリカ構造がCO2分離特性に及ぼす影響の検討
(広大院工) ○(学)光成 和貴 ・ (正)吉岡 朋久 ・ (正)長澤 寛規 ・ (正)金指 正言 ・ (正)都留 稔了
molecular dynamics simulation
silica membrane
carbon dioxide separation
4-a27
(10:30〜11:30)　(座長 外輪 健一郎・喜多 英敏)
10:30〜 10:45A205膜分離を複合化した光触媒水素製造に用いるシリカ膜の作製
(山口大院理工) ○(学)縫部 優一 ・ (山口大工) 松永 理光 ・ 生田 大心 ・ (山口大院理工) (正)熊切 泉 ・ (正)田中 一宏 ・ (正)喜多 英敏
hydrogen production
membrane gas separation
silica membrane
4-a68
10:45〜 11:00A206高温焼成によりネットワーク構造を制御したシリカ系水素分膜の創製
(広大院工) ○(学)佐々木 孝紀 ・ (正)長澤 寛規 ・ (正)金指 正言 ・ (正)吉岡 朋久 ・ (正)都留 稔了
silica
inorganic membrane
hydrogen separation
4-a53
11:00〜 11:15A207プラズマCVD法を用いた多孔性シリカ膜の作製
(広大院工) ○(学)南澤 俊宏 ・ (正)長澤 寛規 ・ (正)金指 正言 ・ (正)吉岡 朋久 ・ (正)都留 稔了
plasma CVD
silica membrane
gas separation
4-a54
11:15〜 11:30A208ギ酸銅錯体の熱分解による導電性膜の作製
(広大院工) ○(学)橘 洋平 ・ 田中 秀治 ・ (正)矢吹 彰広
printable electronics
copper
film
12-k9
講演プログラム
化学工学会高松大会
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Most recent update: 2012-11-27 01:31:10
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