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化学工学会 第43回秋季大会

講演プログラム（会場・日程別）

U会場 第3日

最終更新日時：2011-08-16 00:00:00
講演
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番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
シンポジウム ＜CVD・ドライプロセス　－構造・機能制御の反応工学－＞
(8:40～10:20)　(座長 森 伸介)
8:40～ 9:00U300超臨界流体を用いたSiO2製膜における流れパターンの影響評価
(デンソー) ○(正)山田 英雄 ・ (東大院工) (正)百瀬 健 ・ (みずほ情報総研) (正)岩崎 拓也 ・ 小野 耕平 ・ (デンソー) 大原 淳士 ・ 北村 康宏 ・ (信州大工) (正)内田 博久 ・ (東大院工) (正)霜垣 幸浩 ・ (正)杉山 正和
supercritical fluid
deposition
SiO2
S-31566
9:00～ 9:20U301基板加熱型超臨界製膜装置の数値流体シミュレーション(III)
(みずほ情報総研) ○(正)岩崎 拓也 ・ 小野 耕平 ・ (デンソー) (正)山田 英雄 ・ (東大院工) (正)百瀬 健 ・ (信州大工) (正)内田 博久 ・ (東大院工) (正)霜垣 幸浩 ・ (正)杉山 正和
Supercritical Fluid Deposition
omputational Flued Dynamics
Convection
S-31704
9:20～ 9:40U302超臨界Cu薄膜堆積プロセスの体系的理解に基づくウェハスケール反応器設計
(東大院工) ○(正)百瀬 健 ・ (正)杉山 正和 ・ (正)霜垣 幸浩
Supercritica Fluid
Deposition
Cu
S-31934
9:40～ 10:00U303Formation of Strontium Oxide Thin Film using Supercritical Fluid Deposition
(U. Tokyo) ○(学)Jung Kyubong ・ (正)Momose Takeshi ・ (正)Shimogaki Yukihiro
Supercritical Fluid Deposition
Oxidizer
Strontium oxide
S-31886
10:00～ 10:20U304超臨界二酸化炭素中における複合酸化物薄膜の作成
(阪府大院工) ○(学)小島 章光 ・ 廣田 祐一郎 ・ 中田 洸樹 ・ (正)岡本 尚樹 ・ (正)齊藤 丈靖 ・ (正)近藤 和夫 ・ (東北大多元研) (正)高見 誠一
supercritical carbon dioxide
thin film
metal oxide
S-31459
(10:20～11:40)　(座長 玉置 直樹)
10:20～ 10:40U305超臨界流体を利用した3次元キャパシタ電極用高段差被覆性Ru及びPt薄膜堆積技術の開発
(東大院工) ○(学)渡邊 圭 ・ (正)百瀬 健 ・ (正)霜垣 幸浩
Ruthenium
Platinum
Supercritical Fluid Deposition
S-31444
10:40～ 11:00U306無電解めっきによるルテニウム薄膜の作成
(阪府大院工) ○(学)吉田 悠佑 ・ (学)高木 康行 ・ (正)岡本 尚樹 ・ (正)齊藤 丈靖 ・ (正)近藤 和夫
electroless plating
ruthnium
barriermetal
S-31490
11:00～ 11:20U307Alドープ酸化亜鉛電極を用いた強誘電体キャパシタの劣化特性評価
(阪府大院工) ○(学)辻 徹 ・ 髙田 瑶子 ・ (正)岡本 尚樹 ・ (正)齊藤 丈靖 ・ (正)近藤 和夫 ・ 吉村 武 ・ 藤村 紀文 ・ (阪大産研) 北島 彰 ・ 大島 明博
ferroelectric material
zinc oxide
pulsed laser deposition
S-31216
11:20～ 12:00U308[展望講演] パワーエレクトロニクス分野におけるCVD技術の展開
(豊田中研) ○(正)小澤 隆弘
power electronics
chemical vapor deposition
S-31930
(13:00～14:00)　(座長 霜垣 幸浩)
13:00～ 13:40U313[展望講演] 太陽電池・燃料電池におけるミクロナノ構造制御とグリーンイノベーションへの展開
(東工大化学) ○(正)伊原 学
fuel cell
solar cell
reaction engineering
S-31636
13:40～ 14:00U315PE-CVD中での高速噴流を用いたシリコン製膜の反応解析
(岐阜大院工) ○(正)西田 哲 ・ 田中 直也 ・ 野村 祐希 ・ 牟田 浩司 ・ 栗林 志頭眞
Si deposition
super sonic jet
CFD
S-311089
(14:00～15:20)　(座長 杉山 正和)
14:00～ 14:20U316RFプラズマCVD法によるTiC薄膜の低温成長と物性評価
(阪府大院工) ○(学)政岡 弘侑 ・ (阪府大工) 松本 佐和子 ・ (阪府大院工) (正)岡本 尚樹 ・ (正)齊藤 丈靖 ・ (正)近藤 和夫 ・ (アルテックス) 咸 智惇
film growth
chemical vapor deposition
titanium carbide
S-31400
14:20～ 14:40U317SiC-CVDプロセス反応機構のマルチスケール解析
(東大院工) ○(学)福島 康之 ・ (IHI基盤技研) 保戸塚 梢 ・ (東大院工) (正)霜垣 幸浩
Silicon Carbide
CVD
reaction kinetics
S-3168
14:40～ 15:00U318質量解析法を用いた3次元構造物へのコンフォーマルコーティングの評価
(東北大WPI材料機構) ○(正)北條 大介 ・ (正)阿尻 雅文
ALD
Mass analysis
Conformal coatings
S-31783
15:00～ 15:20U319金属薄膜触媒を用いた化学気相成長法によるグラフェンの合成
(東大院工) ○(学)増田 竜也 ・ (正)野田 優
CVD
graphene
interlayer
S-31579
(15:20～16:20)　(座長 河瀬 元明)
15:20～ 15:40U320単層カーボンナノチューブのCVD合成におけるゼオライト触媒担体の影響
(東大院工) ○(学)額賀 大輝 ・ (学)茂木 堯彦 ・ 丸山 茂夫 ・ (正)大久保 達也
single-walled carbon nanotube
zeolite
CVD
S-311008
15:40～ 16:00U321鉄系合金バルク表面を用いたカーボンナノチューブ合成法
(京大院工) ○(学)山本 傑 ・ (正)佐野 紀彰 ・ (正)田門 肇
carbon nano tube
chemical vapor deposition
S-31275
16:00～ 16:20U322官能基修飾されたMWCNTs上へのニッケル析出に対する有機系添加物効果
(阪府大院工) ○(学)高木 康行 ・ (正)齊藤 丈靖 ・ (正)岡本 尚樹 ・ (正)近藤 和夫 ・ (阪市工研) 小林 靖之 ・ 藤原 裕
carbon nanotube
nickel
electroless plating
S-31502
(16:20～17:40)　(座長 齊藤 丈靖)
16:20～ 16:40U323カーボンナノファイバーの無触媒低温プラズマCVDにおける基板形状の影響
(東工大院理工) ○(正)森 伸介 ・ (東工大工) 山田 悠介 ・ (東工大院理工) (正)鈴木 正昭
plasma-enhanced CVD
carbon nanofiber
carbon monoxide
S-31699
16:40～ 17:00U324非凝集ナノサイズ粒子の気相堆積による薄膜構造の形成
(広大院工) ○(学)石原 悠 ・ 飯田 大樹 ・ (正)島田 学
Non-agglomerated nanoparticle
Thin film
Aerosol deposition
S-31954
17:00～ 17:20U325基板上付着微粒子による水分介在汚染現象
(広大院工) ○(学)棚橋 克臣 ・ 中西 雅教 ・ (正)島田 学 ・ (東京エレクトロンAT) 長池 宏史 ・ (東京エレクトロン) 守屋 剛
Particle on surface
Microcontamination
Water deposition
S-31961
17:20～ 17:40U326高い光触媒活性示すチタニア微粒子の気相合成
(成蹊大理工) ○(学)塩井 仁彦 ・ (学)山川 桃子 ・ (正)酒井 裕香 ・ (正)山崎 章弘 ・ (正)里川 重夫 ・ (正)加藤 茂 ・ (正)小島 紀徳
gas phase
hydrolysis
photocatalyst
S-31827
講演プログラム
化学工学会 第43回秋季大会
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Most recent update: 2011-08-16 00:00:00
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