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化学工学会 第47回秋季大会

講演プログラム（会場・日程別）

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O 会場

最終更新日時：2015-08-26 10:00:42


第 1 日
講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
部会セッション SE-11. <熱物質流体工学の最前線2015>
(9:00～10:00) (座長 佐伯 隆・前川 宗則)
9:00～ 9:20O101二次元乱流内のエネルギー輸送に関する研究
(神戸大院工) (学)○村尾 育美・ (神戸大自然) (正)日出間 るり・ (神戸大院工) (正)鈴木 洋・ (正)菰田 悦之
two-dimensional flow
velocity field
energy transfer
SE-11730
9:20～ 9:40O102マイクロ急縮小急拡大流路中のコーナー渦観察によるヒアルロン酸溶液の弾性不安定の解析
(神戸大自然) (正)○日出間 るり・ (神戸大院工) 岡 泰規・ (正)鈴木 洋・ (正)菰田 悦之
Elastic instability
Hyaluronate solution
SE-11657
9:40～ 10:00O103曲がりを有する矩形管における急収縮急拡大圧力損失の数値解析
(鹿児島高専) (正)○江崎 秀司・ 椎 保幸・ (熊大) 川崎 雄太郎・ (グローブライド) 中間 走
Sudden Expansion
Sudden Contraction
Pressure Loss
SE-11302
(10:00～11:00) (座長 鈴木 洋・大川原 真一)
10:00～ 10:20O104界面活性剤水溶液による抵抗低減流れの可視化と流れ構造のモデル化
(山口大院) (学)○山本 竣也・ 重村 智史・ 小林 周平・ (正)佐伯 隆
Drag Reduction
Surfactant
Flow Visualization
SE-11839
10:20～ 10:40O105界面活性剤による風波の減衰作用
(京大院) (学)○木村 厚思・ 三輪 将也・ (京大工) (正)高垣 直尚・ (正)黒瀬 良一・ (正)小森 悟
Wave damping
surfactant
fluid
SE-11102
10:40～ 11:00O106金網と多孔板により形成される液流のPIV計測
(福岡大) (正)○内山 弘規・ 森田 淳・ 佐藤 亮太・ (正)松隈 洋介・ 井手 光治
PIV
Hot film anemometer
Flow visualization
SE-11911
(11:00～12:00) (座長 小森 悟・前川 宗則)
11:00～ 11:20O107Front-Tracking法によるレイリー・テイラー不安定の数値シミュレーション
(埼玉大院) (学)○中島 遼太・ (正)本間 俊司・ (正)古閑 二郎
Rayleigh-Taylor Instability
Front-Tracking Method
Numerical simulation
SE-11396
11:20～ 11:40O108焼結ガラスビーズ多孔体への液滴浸潤の数値解析
(福岡大工) (学)○久保川 悠生・ (学)土田 将人・ (正)内山 弘規・ (正)松隈 洋介
packed bed
penetration
Lattice Boltzmann method
SE-11138
11:40～ 12:00O109微細流路内の気液自由界面上に誘起したマランゴニ対流の可視化とその速度計測
(芝浦工大) (正)○山田 崇・ (芝浦工大院) 中村 仁・ (学)島野 太貴・ (芝浦工大) (正)小野 直樹
Marangoni effect
PIV
Capillary channel
SE-11723
(13:00～13:40) (司会 岩田 修一)
13:00～ 13:40O113[招待講演] 超音波ドップラーレオメトリーの開発
(北大院工) ○村井 祐一・ 田坂 裕司・ 白鳥 貴久
Ultrasound
Doppler
Rheometry
SE-1130
(13:40～14:20) (司会 谷口 貴志)
13:40～ 14:20O115[招待講演] せん断流および電場下における非相溶高分子ブレンドの3次元構造とレオロジー
(北大院工) 折原 宏
Immiscible polymer blend
Three-dimensional structure
Rheology
SE-1188
(14:20～15:00) (座長 大川原 真一・前川 宗則)
14:20～ 14:40O117芳香族アミドオイルゲル化剤; PMDAのレオロジー特性と粒子‐オイル分散系の安定化
(山口大院) (学)○有田 泰輔・ 伊藤 磨美・ (正)佐伯 隆・ (ダイセル) (法)坂西 裕一・ (コスモ石油ルブリカンツ) 寺内 隆二・ 栃木 弘・ 渡辺 佳久
Organogelator
Rheology
Stability
SE-11856
14:40～ 15:00O118流通系圧力振動脱泡法における圧力振動印加部の検討
(名工大院) (学)○水越 彩加・ (正)岩田 修一・ (正)森 秀樹・ (正)南雲 亮
defoaming
pressure-oscillation
shear-thinning fluid
SE-11463
(15:00～16:00) (座長 松隈 洋介・大川原 真一)
15:00～ 15:20O119ラグランジュ的手法による固体の溶融に関する数値シミュレーション
(東大院工) (学)○高畑 和弥・ (学)孫 暁松・ (正)酒井 幹夫
MPS
phase transition
heat transfer
SE-11612
15:20～ 15:40O120温度差と濃度差に起因するマランゴニ対流の共存効果による対流構造依存性に関する数値解析
(琉大工) (正)○水口 尚・ (琉大院理工) 西銘 孝輝・ 吉野 達也・ (阪大院基工) (正)岡野 泰則
Marangoni convection
Floating zone technique
Si/Ge
SE-11617
15:40～ 16:00O121Development of a new contact model for adhesive particles in the discrete particle simulation
(U. Tokyo) (学)○Basinskas G.・ (正)Sakai M.
adhesive contact model
discrete element method
SE-11118
(16:00～17:00) (座長 水口 尚・前川 宗則)
16:00～ 16:20O122底面中央からのエアレーションをともなう矩形容器内における気液二相流の数値解析
(岡山理大院) (学)○山口 太一・ (岡山理大) (正)平野 博之・ (正)桑木 賢也
Gas-Liquid flow
Two Phase Flow
Numerical Simulation
SE-11832
16:20～ 16:40O123圧縮仕事を要しない省エネ蒸留システムの熱および蒸留特性
(関西化学) (正)○片岡 邦夫・ (正)野田 秀夫・ (正)向田 忠弘・ (法)西村 午良・ (正)山路 寛司
HIDiC
Energy conservation
Ethanol distillation
SE-11319
16:40～ 17:00O124螺旋型ミニチャネルによる粗粒の分離・分級
(東工大院理工) (学)○金城 勝大・ (正)大川原 真一・ (正)吉川 史郎
Coarse particle separation/classification
Spiral mini-channel
CFD
SE-11491

第 2 日
講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
部会シンポジウム SY-2. <プロセス安全管理の課題とアプローチ>
(9:20～10:40) (座長 武田 和宏)
9:20～ 9:40O202安全部会WGテーマとシンポジウム趣旨
(東工大) (正)渕野 哲郎
Process Safety Management
Lifecycle Safety
Research Theme
SY-291
9:40～ 10:00O203事故事例へのメトリクスの活用に向けて
(立命館大MOT) (正)青山 敦
Process Safety Management
Lagging Metrics
SY-2674
10:00～ 10:20O204設備保全WG報告書の概要
(東工大) (正)渕野 哲郎
Plant Maintenance
Business Process Model
Technology Requirement Specification
SY-292
10:20～ 10:40O205プロセス/プラント設計につながるプロセスケミストリー
(農工大) (正)北島 禎二
Process Chemistry
Process/Plant Design Engineering
Business Process Model
SY-2423
(10:40～12:00) (座長 青山 敦)
10:40～ 11:00O206プロセス安全情報の活用
(安衛研) (正)島田 行恭
Process Safety Information
Process Safety Management
Plant Lifecycle
SY-2196
11:00～ 11:20O207事故解析ガイドライン作成WGの計画
(東工大) (正)渕野 哲郎
Incident Investigation
Process Hazard Analysis
Lifecycle Engineering
SY-2183
11:20～ 11:40O208化学産業事故調査報告書における安全文化
(慶應SDM) (正)宇野 研一
Safety Culture
Chemical Industry
Accident
SY-2314
11:40～ 12:00O209行動特性の把握で事故防止
(旭硝子) (法)南川 忠男
Process Safety
SY-245
部会シンポジウム SY-9. <CVD・ドライプロセス　－構造・機能制御の反応工学－>
(13:00～14:00) (座長 玉置 直樹)
13:00～ 13:40O213[展望講演] 3Dメモリ時代のプロセス技術展望
(東芝) 服部 圭
semiconductor fabrication
process technology
3D memory
SY-9129
13:40～ 14:00O215超臨界溶体の温度勾配を利用したアントラセン製膜における過飽和度および濃度の影響
(東大院工) (学)○豊倉 祥太・ (正)下山 裕介・ (正)霜垣 幸浩・ (正)百瀬 健
Supercritical CO2
anthracene
crystallization
SY-9156
(14:00～15:00) (座長 河瀬 元明)
14:00～ 14:20O216コンフォーマルな超臨界流体堆積におけるCO2圧力の影響
(東大院工) (学)○チョウ ユウ・ (正)百瀬 健・ (正)下山 裕介・ (正)霜垣 幸浩
supercritical fluid deposition
pressure
kinetics
SY-9543
14:20～ 14:40O217超臨界溶体急速膨張法によるTIPSペンタセン薄膜創製と有機薄膜トランジスタの特性評価
(信州大院理工) (学)○夏目 実佳・ (学)高橋 佑汰・ (信州大院総工) (学)藤井 竜也・ (信州大工) (正)内田 博久
Supercritical carbon dioxide
TIPS-pentacene thin films
Organic thin film transistor (OTFT)
SY-9668
14:40～ 15:00O218超臨界二酸化炭素を用いた酸化鉄薄膜の作成
(阪府大院) (学)○角 嘉人・ (阪府大) (学)刀禰 正利・ (阪府大院) (正)岡本 尚樹・ (正)齊藤 丈靖・ (正)近藤 和夫・ (東北大多元研) (正)高見 誠一
supercritical CO2
FeRAM
iron oxide
SY-9758
(15:00～16:00) (座長 下山 裕介)
15:00～ 15:20O219[招待講演] 高圧CO2添加による粘度低下を利用した高圧噴霧成膜技術
(産総研・化学プロセス研究部門) ○川﨑 慎一朗・ (東北大) 鈴木 明
high pressure carbon dioxide
spray deposition
viscosity
SY-9131
15:20～ 15:40O220超臨界流体を用いたTiO2ナノ細孔へのCuInS2埋め込み成膜
(東北大多元研) (学)○安井 容二・ (学)中安 祐太・ (東大工) (正)百瀬 健・ (東北大多元研) (正)笘居 高明・ (正)本間 格
supercritical fluid deposition
nanostructure
compound semiconductor
SY-9442
15:40～ 16:00O221プラズマCVD法を用いたシリカ系ガスバリア膜の作製とガス透過速度の測定
(京大工) (学·技基)○大津 啓幸・ (学)竹田 依加・ (正)河瀬 元明
plasma CVD
silica-based film
gas barrier
SY-9757
(16:00～17:00) (座長 羽深 等)
16:00～ 16:20O222プラズマCVD法で作製したシリカ膜の化学構造と膜特性
(京大工) (学)○竹田 依加・ (学)出口 利樹・ (学·技基)大津 啓幸・ (正)河瀬 元明
plasma CVD
chemical structure
film properties
SY-9815
16:20～ 16:40O223異なる炭素源を用いたプラズマCVDによるカーボンナノウォールの合成とその特性評価
(東工大院理工) (学)○新川 大樹・ (正)森 伸介
carbon nanowall
carbon monoxide
SY-9897
16:40～ 17:00O224グラフェンの実用的CVD合成:供給変調による合成時間短縮と大粒径・高被覆率化
(早大院先進理工) (学)○大川 朝陽・ (正)長谷川 馨・ (正)野田 優
Graphene
Chemical vapor deposition
Nucleation and growth
SY-9605

第 3 日
講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
部会シンポジウム SY-9. <CVD・ドライプロセス　－構造・機能制御の反応工学－>
(9:00～10:00) (座長 池田 圭)
9:00～ 9:20O301微細トレンチにおける製膜物質の反応性解析手法の改良
(東大院工) (学)○舩門 佑一・ (学)嶋 紘平・ (学)佐藤 登・ 杉浦 秀俊・ (学)中原 拓也・ (IHI基盤研) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
reactivity analysis
fine trench
Chemical Vapor Deposition
SY-9861
9:20～ 9:40O302超高アスペクト比ミクロキャビティを用いたSiC-CVI法のモデリング
(東大院工) (学)○嶋 紘平・ (学)佐藤 登・ (学)舩門 佑一・ 杉浦 秀俊・ (学)中原 拓也・ (IHI基盤研) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
CVD
SiC
methyltrichlorosilane
SY-9747
9:40～ 10:00O303原料炭化水素種と基板金属種が熱分解炭素の CVD 速度に与える影響
(京大工) (学·技基)○馬場 翔平・ (学)岩井 豊彦・ (学)長田 翔・ (正)河瀬 元明
CVD
Pyrolysis
Carbon
SY-9278
(10:00～11:00) (座長 森 伸介)
10:00～ 10:20O304導入ガスを切り替えるCVDプロセスの非定常ガス流れシミュレーション
(アテナシス) (正)池田 圭
CVD
ALD
simulation
SY-9608
10:20～ 10:40O305SiHCl3によるシリコン成膜時の副生成物形成機構
(横国大院工) 桜井 あゆみ・ 齋藤 あゆ美・ (正)○羽深 等
Silicon epitaxial growth
trichlorosilane
by-products
SY-911
10:40～ 11:00O306塩素-ケイ素含化合物を用いたCVDでの下流堆積物生成反応モデルの構築
(東大院工) (学)○佐藤 登・ (学)嶋 紘平・ (学)舩門 佑一・ 杉浦 秀俊・ (学)中原 拓也・ (IHI基盤研) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)百瀬 健・ (学位授与機構) 越 光男・ (東大院工) (正)霜垣 幸浩
silicon-chlorine compounds
by-products
elementary reaction simulation
SY-9840
(11:00～12:00) (座長 霜垣 幸浩)
11:00～ 11:20O307有機半導体材料昇華精製プロセスの解析
(東大院工) (学)○岩男 拓哉・ (正)山口 由岐夫・ (東大環安セ/東大院工) (正)辻 佳子
sublimation
purification
organic semiconductors
SY-9468
11:20～ 11:40O308気相法によるAg-TiO2ナノ粒子混合堆積膜の作製
(広大院工) (学·技基)○増田 英高・ 田井 悠介・ (正)久保 優・ (正)島田 学
PECVD
Nanoparticle synthesis
PVD
SY-9273
11:40～ 12:00O309[招待講演] 半導体プロセス用有機金属原料の設計、合成およびALDへの適用
(エア・リキード) Dussarrat Christian
atomic layer deposition
conformal growth
reaction mechanism
SY-9132
(13:00～14:00) (座長 野田 優)
13:00～ 13:40O313[展望講演] 化合物半導体ナノワイヤのヘテロエピタキシャル成長と展望
(北大量子集積エレクトロニクス研究セ) ○冨岡 克広・ 本久 順一・ 福井 孝志
compound semiconductor
nanowire
heteroepitaxial growth
SY-9128
13:40～ 14:00O315熱CVD 法で作製した酸化亜鉛薄膜の特性
(東海大院工) (学)○黒田 晋吾・ (東海大工) 久保 史香・ 横山 優貴・ 渡邉 雅俊・ (東海大院工) 大久保 達生・ (正)秋山 泰伸
CVD
Zinc oxide
transparent conductive film
SY-9767
(14:00～15:00) (座長 秋山 泰伸)
14:00～ 14:20O316異なる酸素圧力で作製した導電性酸化物電極を有する強誘電体キャパシタの電気特性
(阪府大院工) (学)○高田 瑶子・ (学)天野 泰河・ (正)岡本 尚樹・ (正)齊藤 丈靖・ (正)近藤 和夫・ 吉村 武・ 藤村 紀文・ (阪大産研) 樋口 宏二・ 北島 彰
Ferroelectric capacitor
pulsed laser deposition
oxygen pressure
SY-9645
14:20～ 14:40O317p型ダイヤモンド上にEB蒸着法で形成したTi化合物/Pt/Au電極のTLM評価
(阪府大院工) (学)○鈴木 聡一郎・ (正)岡本 尚樹・ (正)齊藤 丈靖・ (正)近藤 和夫・ (産総研) 松本 翼・ 牧野 俊晴・ 小倉 政彦・ 加藤 宙光・ 竹内 大輔・ 山崎 聡・ 大串 秀世
diamond
contact resistance
electron beam evaporated
SY-9787
14:40～ 15:00O318[招待講演] 窒化物薄膜の微細構造制御とラジカルを用いた低温での成膜方法
(北見工大) ○武山 真弓・ 佐藤 勝・ 野矢 厚
nitride thin film
sputtering
radical nitridization
SY-9130
(15:00～15:40) (座長 齊藤 丈靖)
15:00～ 15:20O319急速蒸着とその場溶融結晶化による大粒径結晶Si薄膜作製法の開発
(早大先進理工) (学)○山崎 悠平・ (正)長谷川 馨・ (正)大沢 利男・ (正)野田 優
crystalline silicon thin films
vapor deposition
liquid phase crystallization
SY-9643
15:20～ 15:40O320CVDによるα-Al2O3薄膜の配向性制御
(東大工) (学)○西澤 慧・ (東大院工) (正)百瀬 健・ (京セラ) 谷渕 栄仁・ (東大院工) (正)霜垣 幸浩
CVD
Al2O3
crystal-orientation
SY-9827
講演発表プログラム
化学工学会 第47回秋季大会
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Most recent update: 2015-08-26 10:00:42
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