SCEJSCEJ 化学工学会第53回秋季大会 2022.9.14(水) - 9.16(金) 信州大学 長野(工学)キャンパス / オンライン English page
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Last Update: 2022-05-28 13:48:46

ST-24. [CR,SF,MI] [部会横断型シンポジウム] CVD/ALD・ドライプロセス −構造・機能制御の反応工学− <ライブ配信併用>

オーガナイザー: 野田 優(早稲田大学)下山 裕介(東京工業大学)川上 雅人(東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ(株))百瀬 渉(ALDジャパン(株))

CVDやALDなどのドライプロセスはエレクトロニクス、エネルギーデバイス、機能性コーティングなど様々な分野で重要な基幹技術となっています。本シンポジウムでは、ドライプロセスを利用した薄膜形成、微粒子合成、微細加工の反応メカニズムを反応工学的見地より理解し、合理的で効率的な反応プロセスや反応装置を議論します。なお、優秀な発表をされた若手研究者には、CVD反応分科会奨励賞を贈呈します。


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