Last Update: 2022-05-28 13:48:46
ST-24. [CR,SF,MI] [部会横断型シンポジウム] CVD/ALD・ドライプロセス −構造・機能制御の反応工学− <ライブ配信併用>
野田 優(早稲田大学)・下山 裕介(東京工業大学)・川上 雅人(東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ(株))・百瀬 渉(ALDジャパン(株)) |
CVDやALDなどのドライプロセスはエレクトロニクス、エネルギーデバイス、機能性コーティングなど様々な分野で重要な基幹技術となっています。本シンポジウムでは、ドライプロセスを利用した薄膜形成、微粒子合成、微細加工の反応メカニズムを反応工学的見地より理解し、合理的で効率的な反応プロセスや反応装置を議論します。なお、優秀な発表をされた若手研究者には、CVD反応分科会奨励賞を贈呈します。
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