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化学工学会 第85年会

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11) エレクトロニクス

11-c. 微細加工技術（エッチング、薄膜形成、等）

最終更新日時：2020-09-26 15:59:01

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534RFプラズマCVDによる窒素、チタンおよびその他金属を含む多元金属化合物膜の作製と評価
(阪府大工) (学)○松島 広朗・ (阪府大院工) 冨士 和樹・ (正)齋藤 丈靖・ (正)岡本 尚樹		RF plasma CVD
Ti-based film
multicomponent
P
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