English page RELOAD
化学工学会 第51回秋季大会 (2020)
講演プログラム検索結果 : 西田 哲 : 1件
全てのセッションはオンライン学会会場で実施されます。
(9/10) 講演要旨を公開しました(参加登録者、ご招待者限定)。講演番号をクリックしてください。
(ID/PWは事前参加登録者には9/10に,当日参加登録者には9/23に(オンライン学会会場のID/PWと併せて)お知らせしました。)
(8/8) SY-69のフラッシュ発表は中止となりました。
(8/24,8/27) SY-74のX306,X307、HQ-11のD301の時間が変わりました。
(9/10) 講演要旨を公開しました(参加登録者、ご招待者限定)。講演番号をクリックしてください。
(ID/PWは事前参加登録者には9/10に,当日参加登録者には9/23に(オンライン学会会場のID/PWと併せて)お知らせしました。)
(8/8) SY-69のフラッシュ発表は中止となりました。
(8/24,8/27) SY-74のX306,X307、HQ-11のD301の時間が変わりました。
司会・座長氏名 が『西田 哲』と一致するセッション：1件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。また、フラッシュ付きポスターの場合、フラッシュとポスターの２件となります。
| 講演 時刻 | 講演 番号 | 講演題目／発表者 | キーワード | 分類 番号 | 受理 番号 |
|---|---|---|---|---|---|
| 第 2 日 | 座長 | ||||
| K213 | [招待講演] 高品質GaN基板を実現するHVPE成長新技術;マスクレス3D法 | GaN substrate, HVPE low dislocation density | ST-22 | 112 | |
| K214 | MTS/H2を原料としたSiC-CVDプロセスにおけるSiCl4添加効果の検討 | CVD SiC Recycle | ST-22 | 556 | |
| K215 | テトラメチルシランを用いた塩素フリーな化学気相含浸法によるSiCf/SiCの製造 | SiC chemical vapor infiltration tetramethylsilane | ST-22 | 822 | |
| K216 | 二酸化炭素を用いた超臨界溶体急速膨張(RESS)法による有機薄膜創製と薄膜特性評価 | RESS Organic thin films Supercritical CO2 | ST-22 | 781 | |
| 表示設定: |
|---|
講演発表プログラム
講演プログラム一覧(横長)
(同 縦長表示)
セッション一覧
講演プログラムの検索
化学工学会 第51回秋季大会 (2020)
(C) 2023 公益社団法人化学工学会 The Society of Chemical Engineers, Japan. All rights reserved.For more information contact 化学工学会 第51回秋季大会 実行委員会
E-mail: inquiry-51f
www3.scej.org