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化学工学会 第51回秋季大会 (2020)

講演プログラム検索結果 : 薄膜 : 17件

全てのセッションはオンライン学会会場で実施されます。
(9/10) 講演要旨を公開しました(参加登録者、ご招待者限定)。講演番号をクリックしてください。
(ID/PWは事前参加登録者には9/10に,当日参加登録者には9/23に(オンライン学会会場のID/PWと併せて)お知らせしました。)
(8/8) SY-69のフラッシュ発表は中止となりました。
(8/24,8/27) SY-74のX306,X307、HQ-11のD301の時間が変わりました。

講演題目 が『薄膜』を含む講演：17件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。また、フラッシュ付きポスターの場合、フラッシュとポスターの２件となります。

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
第 1 日
9:00～ 9:20		B101Mg二次電池用負極としてのビスマス薄膜の電析
(阪府大) ○(学)成本 夏輝・ (正)岡本 尚樹・ (正)齊藤 丈靖
Mg secondary ion battery
bismuth
electrodeposition
SY-77888
第 1 日
16:40～ 17:00		E124セラミックスナノコンポジット極小曲面薄膜の合成
(名大院工) ○(正)髙見 誠一・ 高井 陸斗・ 吉原 典昭
minimal surface
nanocomposite film
ceramic nanoparticle
SY-80532
第 1 日
16:40～ 17:00		F124噴霧合成法による多孔質基板上へのHKUST-1薄膜の作製
(広大院先進理工) ○(学)谷口 秀政・ (正)久保 優・ (正)島田 学
HKUST-1
spray syntheis
nanofiltration
SY-78600
第 1 日
17:20～ 17:40		F126二元型超音波霧化法成膜によるCuInS2薄膜の作製と構造・物性制御
(東大院工) ○(学)居城 晃平・ (東大環安セ/東大院工) (正)坂井 延寿・ (正)辻 佳子
CuInS2
ultrasonic spray method
solar cells
SY-78147
第 1 日
17:20～ 17:40		J126バンク基板上における薄膜形成過程に関する数値解析
(九大院工) ○(学)吉水 宏文・ Wang Jinghong・ (正)弘中 秀至・ (正)深井 潤
Evaporation
Liquid film
Marangoni force
SY-56493
第 2 日
9:00～ 10:25		PA203超音波霧化プロセスを利用したペロブスカイト太陽電池用薄膜の作製
(東大院工) ○(学)山本 匡養・ (東大環安セ/東大院工) (正)坂井 延寿・ (正)辻 佳子
perovskite solar cell
spin coating
mist chemical vapor deposition
SY-79136
第 2 日
9:00～ 10:25		PA229シングルモードマイクロ波加熱ポリオール法による銀薄膜の直接合成
(宇都宮大院工) ○(学)鵜澤 雄大・ (宇都宮大工) (正)鈴木 昇・ (正)佐藤 正秀
microwave
polyol synthesis
silver thin film
SY-79744
第 2 日
9:20～ 9:40		K202固体原料併用PECVD法における分散媒が合成された複合薄膜に及ぼす影響
(広大院先進理工) ○(正)島田 学・ (広大院工) (技基)高橋 一真・ (広大院先進理工) (正)久保 優
titanium dioxide
carbon nanotube
photocatalyst
ST-22213
第 2 日
10:35～ 12:00		PA268転写法によるメルカプトシラン修飾銅薄膜の創製と熱界面材料への応用
(宇都宮大院工) ○(学)古高 宏樹・ (宇都宮大工) (正)鈴木 昇・ (正)佐藤 正秀
Copper thin film
Thermal interface material
SY-79748
第 2 日
10:40～ 11:00		K206ペロブスカイト薄膜の中心金属種が構造に与える影響
(京大工) ○(学·技基)松田 萌・ (学)村上 誉紀・ (学)松村 南月・ (正)河瀬 元明
CVD
perovskite
central metals
ST-22414
第 2 日
14:00～ 14:20		K216二酸化炭素を用いた超臨界溶体急速膨張(RESS)法による有機薄膜創製と薄膜特性評価
(金沢大院自然) ○(学)坂本 有衣・ 小林 貴紀・ 清澤 匠・ (学)釜田 若奈・ (金沢大理工) (正)内田 博久
RESS
Organic thin films
Supercritical CO2
ST-22781
第 2 日
14:40～ 15:00		I218マイクロカプセル外表面でのシリカ薄膜形成にシラン修飾剤が及ぼす影響
(神戸大院工) ○(学)安村 充・ 島田 大樹・ (正)谷屋 啓太・ (正)堀江 孝史・ (正)日出間 るり・ (正)菰田 悦之・ (正)市橋 祐一・ (正)大村 直人・ (正)鈴木 洋・ (正)西山 覚
3-Aminopropyltriethoxysilane
SiO2 Thin Film
Silica Microcapsule
SY-63662
第 2 日
14:40～ 15:00		K218ミストCVD法によるAlOx薄膜の作製とFETゲート絶縁膜への応用
(埼玉大院理工) ○(学)Arifuzzaman Rajib・ 志田 知洋・ Abdul Kuddus・ 上野 啓司・ 白井 肇
mist-CVD
AlOx
ST-22306
第 2 日
15:00～ 15:20		K219超音波霧化法によるSiO2, Al2O3絶縁薄膜の作製
(東大院工) ○(学)木下 清佳・ (東大環安研セ) (正)坂井 延寿・ (東大環安セ/東大院工) (正)辻 佳子
insulator
thin-film-transistor
mist chemical vapor deposition
ST-22135
第 3 日
10:30～ 11:30		PA334凝集したNaAゼオライト粉末の導入による多孔質SUS管表面の平滑化とPd薄膜形成
(徳島大院先端教育部) ○(学·技基)寺﨑 勝薫・ (学·技基)稲津 佳希・ (徳島大院社会産業理工) (正)加藤 雅裕・ (正)霜田 直宏・ (正)杉山 茂
Pd thin membrane
Porous SUS tube
Aggregated NaA zeolite powder
SY-5795
第 3 日
11:20～ 11:40		R308シリカフィラーへの架橋PMMAによる均一薄膜コーティング
(山形大院理工) ○(学)鳥海 望・ (正)木俣 光正
silica filler
PMMA
crosslinked polymer
SY-54260
第 3 日
13:00～ 13:20		K313[招待講演] プラズマ化学気相成長法によるケイ素および窒素を添加したダイヤモンドライクカーボン薄膜の特性評価
(弘前大院理工) 中澤 日出樹
diamond-like carbon
plasma-enhanced chemical vapor deposition
silicon
ST-22248

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