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ST) 部会横断型シンポジウム

ST-27. CVD/ALD・ドライプロセス －構造・機能制御の反応工学－

オーガナイザー: 三宅 雅人（立命館大学）・長澤 寛規（広島大学）・藤原 翔（埼玉大学）

CVDやALDなどのドライプロセスはエレクトロニクス、エネルギーデバイス、機能性コーティングなど様々な分野で重要な基幹技術となっています。特に近年は産業のコメとも呼ばれる半導体産業の重要性が再認識され、メカニズムの理解に立脚したプロセスの構築と制御が増々求められています。本シンポジウムでは、ドライプロセスを利用した薄膜形成、微粒子合成、微細加工の反応メカニズムを反応工学的見地より理解し、合理的で効率的な反応プロセスや反応装置を議論します。

最終更新日時：2026-06-27 19:33:02

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番号		講演題目／発表者キーワード発表形式
31[展望講演] 気相中での微粒子のナノ構造化と機能性材料への展開
(広大先進理工) (正)荻 崇		Spray process
Nanostructured particle
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97[招待講演] 物性測定からAI物性推算へ:熱力学研究の新たな展開
(埼玉大) (正)松川 博亮		Thermodynamic Properties
Machine Learning
Phase Equilibria
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165リチウムイオン電池のLMO-NCM混合正極の一括直接再生法の開発
(早大先進理工) (学)○北島 大樹・ (正)前 智太郎・ (早大先進理工/早大理工総研) (正)野田 優		Direct recycling
Mixed cathode
lithium-ion battery
O
211[招待講演] TEL開発AIツールによる成膜プロセス最適化事例の紹介
(東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ) 伊藤 聡		AI tools
ALD/CVD
Process informatics
O
331カーボンナノチューブの気相合成における触媒源加熱とガス混合の影響評価
(早大先進理工) (学)○安藤 弘燿・ 根岸 希々花・ 直塚 悠希・ (早大理工総研) (正)大沢 利男・ (早大先進理工) (正)野田 優		carbon nanotube
floating catalyst chemical vapor deposition
computational fluid dynamics
O
346気相燃焼法によるハイスループット触媒探査法の開発
(埼玉大院理工) (正)○藤原 翔・ (金沢大) 青山 航大・ (金沢大院自) (正)大坂 侑吾・ (正)辻口 拓也・ (正)児玉 昭雄		Flame spray pyrolysis
High-Throughput Synthesis
CO2 methanation
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347[展望講演] 半導体デバイスの最先端とは何か？ デバイスとパッケージの微細化・3D化の歴史から考える
(広大半導体研) 青砥 なほみ		Semiconductor
Logic
Memory
O
528Structural Control of ZnO Nanorods for Application to Perovskite Solar Cells
(UTokyo) (中)○Wang Yuhui・ (正)Tsuji Yoshiko		ZnO nanorods
Hydrothermal growth
Perovskite solar cells
O
545浮遊PECVD法によるZnO-TiO2-CNTナノ複合物の合成と機能評価
(広大院先進理工) (学)○益田 玲絵奈・ 川本 壮人・ (正)久保 優・ (正)島田 学		nanoparticle coating
aerosol process
gas sensor
O
679ALDにおける原料オンデマンド供給を可能にする高速開閉バルブの動作制御Ⅱ～流量応答の解析～
(熊大院自) (学)○石田 栞大・ 西里 洋・ (学)小田 翔太・ (熊大院自/堀場エステック) 中家 佑吾・ (熊大半導体) 奈須 錦一・ (正)平山 幹郎・ (熊大先端) 岡島 寛・ (熊大半導体) (正)百瀬 健		Atomic Layer Deposition
Sustainable
Valve
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762合成ガスとCNTの生成のためのNi-Mo2C/MgO触媒へのCeO2の助触媒効果
(京大院エネ) (海学)○Saconsint Supanida・ (京大院工) (正)佐野 紀彰・ (正)鈴木 哲夫		carbon nanotube
carbon dioxide
catalyst
O
828TMA/NH3系FM-CVDによる低温AlN製膜と高熱伝導率化の検討(2)結晶粒径の影響
(東大院工) (学)○畠山 大樹・ (正)大高 雄平・ (正)佐藤 登・ (正)玉置 直樹・ (正)山口 潤・ (正)筑根 敦弘・ (正)霜垣 幸浩		AlN
CVD
3DIC
O
943プラズマCVD法によるB・Mo添加TiCN膜の作製と評価
(大公大) (学)○黒木 利津・ (正)齊藤 丈靖・ (正)岡本 尚樹・ 川本 実加		DC plasma CVD
TiSiCN
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