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化学工学会 第85年会

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13) 環境

13-b. 排水処理技術

最終更新日時：2020-09-26 15:59:01

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Osmium1件

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21膜分離活性汚泥法において膜表面の親水性がファウリングに及ぼす影響
(ユアサメンブレンシステム) (正)○佐野 利夫・ (熊大くまもと水循環セ) 伊藤 紘晃・ Duc Luong Van・ 濱 武英・ 川越 保徳		Membrane bioreactor
Membrane fouling
Surface hydrophilicity
O
66Immobilization of arsenate using Fe0-Fe3O4 nanoparticles
(Waseda U.) (学)○Zubair Yusuf Olalekan・ Fuchida Shigeshi・ (正)Tokoro Chiharu		Removal Performance
Solid-Liquid separation
Adsorption mechanism
P
72超音波と超臨界二酸化炭素を併用したオスミウム含有廃液処理の検討
(東大院新領域) (学)○萱村 剛志・ (東大環安研セ) (正)澤井 理・ (東大院新領域) (正)布浦 鉄兵		Osmium
Ultrasonic
Supercritical carbon dioxide
P
134[優秀論文賞] 天然ガスかん水の1槽型部分亜硝酸化-Anammox処理におけるアルカリ使用量の削減
(関天瓦斯) (法)○横田 信幸・ (法)渡辺 泰継・ (農工大院工) (正)細見 正明・ (正)寺田 昭彦		Brine
Wastewater treatment
Partial nitrification-Anammox
O
237水酸化マグネシウムを用いた廃水中のフッ素除去機構の解明および定量モデル化
(早大院創造理工) (学)○土屋 宏典・ (早大理工) 淵田 茂司・ (正)所 千晴		Magnesium Hydroxide
Fluorine
Quantitative model
P
322フェノールの水熱酸化分解における鉄系材料の触媒効果
(阪市大院工) (学)○川上 貴史・ (正)米谷 紀嗣		Fenton Reaction
Hydrothermal Oxidation Decomposition
Phenol
P
323水中パルス放電によるヒドロキシラジカルの生成と 有害汚染物質の分解
(阪市大院工) (学)○松浦 理紗子・ (正)米谷 紀嗣		pulsed discharge
P
388界面活性剤無添加フローテーションによる低環境負荷染色排水処理
(北見工大工) 児玉 康輝・ Lyu Xiaoye・ 澤井 亮佑・ 木谷 優輝・ (学)大岩 真子・ (正)○齋藤 徹		Wastewater treatment
Basic dyes
Flotation
O
633Characterization and Application of Non-ionic Surfactant assisted TiO2 Based Composite for Enhanced Degradation of Organic Pollutant in Seawater
(U. Tsukuba) (学)○Sharma Aditya・ (学)Ma Qiansu・ (学)Liu Na・ (学)Zheng Hanying・ (正)Yang Yingnan		Polyethylene glycol
P/Ag/Ag2O/Ag3PO4/TiO2 photocatalyst
Salinity
P
685乳酸の代謝に着目した混合培養系における水素発酵プロセスのpH調整用のNaOH削減
(横国大理工) (正)○中村 一穂・ 大越 優斗・ (学)彦坂 莉希・ (正)和久井 健司・ 谷生 重晴		Hydrogen fermentation
co-culture
lactate
O
799多孔性シリカとペプチドとから成るSe(IV)およびSe(VI)認識能を有する吸着担体
(秋田大院理工) (米)Stevens Morlu・ (正)横田 早希・ 山崎 正貴・ (正)○後藤 猛		Selenium
Adhesive peptide
Molecular imprinting technology
O
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