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化学工学会 第50回秋季大会

Last modified: 2018-09-04 10:00:00

講演プログラム検索結果 : 霜垣 幸浩 : 6件

講演要旨は各講演番号からリンクしています。(要ID/PW)
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発表者または座長 が『霜垣 幸浩』と一致する講演：5件該当しました。
司会・座長氏名 が『霜垣 幸浩』と一致するセッション：1件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。また、フラッシュ付きポスターの場合、フラッシュとポスターの２件となります。

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
第 1 日
15:40～ 16:20		EC121[展望講演] CVD/ALDプロセスの反応工学
(東大院工) (正)霜垣 幸浩
CVD
ALD
Process Design
SY-64362
第 2 日
13:00～ 14:00		   座長 霜垣 幸浩
CD213[展望講演] 熱CVD法を用いた切削工具用硬質膜の開発と展望
(京セラ) (法)谷渕 栄仁
CVD
Cutting tool
Hard coating
ST-25468
CD215アルキルアルミニウムを用いたアルミナ膜の新規合成法の開発
(京大院工) ○(学·技基)中村 琢海・ (学)猪口 和明・ (学)長田 翔・ (京大工) (学)屋嘉比 亮・ (正)河瀬 元明
CVD
alkyl aluminum
alumina
ST-25882
第 2 日
14:00～ 14:20		CD216熱CVD法による高Al組成fcc-TiAlN膜の合成(2)
(東大院工) ○(学)山口 潤・ 平原 智子・ (京セラ) (法)久保 隼人・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (京セラ) (法)谷渕 栄仁・ (東大院工) (正)霜垣 幸浩
CVD
TiAlN
cutting tool
ST-25561
第 2 日
14:40～ 15:00		CD218SiC-CVIプロセスにおける表面反応過程の理論検討
(東大院工) ○(学)佐藤 登・ (正)中 智明・ (学)根藤 佳史・ (正)舩門 佑一・ (IHI) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
SiC
CVI
Surface Reaction
ST-25919
第 3 日
9:00～ 9:20		CD301超臨界流体薄膜堆積による高アスペスト比構造への銅の均一製膜指針
(東大院工) ○(学)藤田 翔太郎・ (正)出浦 桃子・ (東工大院理工) (正)下山 裕介・ (東大院工) (正)霜垣 幸浩・ (正)百瀬 健
Supercritical fluid deposition
Diffusion coefficient
Kinetics
ST-25905
第 3 日
9:40～ 10:00		CD303Tetracene thin film formation for organic photovoltaics by temperature-driven supercritical fluid deposition
(東大院工) ○(学)黎 彦劭・ (正)出浦 桃子・ (東工大院理工) (正)下山 裕介・ (東大院工) (正)霜垣 幸浩・ (正)百瀬 健
Temperature-driven Supercritical Fluid Deposition
Crystallization
Tetracene
ST-251058

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