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化学工学会 第51回秋季大会 (2020)

講演プログラム検索結果 : 川上 雅人 : 1件

全てのセッションはオンライン学会会場で実施されます。
(9/10) 講演要旨を公開しました(参加登録者、ご招待者限定)。講演番号をクリックしてください。
(ID/PWは事前参加登録者には9/10に,当日参加登録者には9/23に(オンライン学会会場のID/PWと併せて)お知らせしました。)
(8/8) SY-69のフラッシュ発表は中止となりました。
(8/24,8/27) SY-74のX306,X307、HQ-11のD301の時間が変わりました。

司会・座長氏名 が『川上 雅人』と一致するセッション：1件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。また、フラッシュ付きポスターの場合、フラッシュとポスターの２件となります。

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
第 2 日
14:20～ 15:20		   座長 川上 雅人
K217TiAlN-CVDプロセスの反応モデル構築に向けた速度過程解析(2)
(東大院工) ○(学)山口 潤・ 平原 智子・ (京セラ) (法)久保 隼人・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (京セラ) (法)谷渕 栄仁・ (東大院工) (正)霜垣 幸浩
CVD
TiAlN
cutting tool
ST-22153
K218ミストCVD法によるAlOx薄膜の作製とFETゲート絶縁膜への応用
(埼玉大院理工) ○(学)Arifuzzaman Rajib・ 志田 知洋・ Abdul Kuddus・ 上野 啓司・ 白井 肇
mist-CVD
AlOx
ST-22306
K219超音波霧化法によるSiO2, Al2O3絶縁薄膜の作製
(東大院工) ○(学)木下 清佳・ (東大環安研セ) (正)坂井 延寿・ (東大環安セ/東大院工) (正)辻 佳子
insulator
thin-film-transistor
mist chemical vapor deposition
ST-22135

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化学工学会 第51回秋季大会 (2020)

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