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化学工学会 第51回秋季大会 (2020)

講演プログラム検索結果 : 杉目 恒志 : 4件

全てのセッションはオンライン学会会場で実施されます。
(9/10) 講演要旨を公開しました(参加登録者、ご招待者限定)。講演番号をクリックしてください。
(ID/PWは事前参加登録者には9/10に,当日参加登録者には9/23に(オンライン学会会場のID/PWと併せて)お知らせしました。)
(8/8) SY-69のフラッシュ発表は中止となりました。
(8/24,8/27) SY-74のX306,X307、HQ-11のD301の時間が変わりました。

発表者または座長 が『杉目 恒志』と一致する講演：3件該当しました。
司会・座長氏名 が『杉目 恒志』と一致するセッション：1件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。また、フラッシュ付きポスターの場合、フラッシュとポスターの２件となります。

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
第 2 日
9:00～ 10:25		PA209流動層による金属硝酸塩ミストからの触媒担持と長尺カーボンナノチューブの流動層合成
(早大先進理工) ○(学)白川 寛人・ (早大理工総研) Li Mochen・ (早大先進理工) (正)杉目 恒志・ (正)大沢 利男・ (正)野田 優
Carbon nanotube
Fluidized bed
Chemical vapor deposion
SY-79234
第 3 日
9:00～ 9:20		K301アセチレンの高温熱分解によるナノ粒子・ナノチューブ炭素複合体の連続合成
(早大先進理工) ○(学)浦田 結文・ 大田原 綾哉・ (正)大沢 利男・ (正)杉目 恒志・ (デンカ) 名古 裕輝・ 岡田 拓也・ (早大先進理工) (正)野田 優
Carbon nanoparticle
Carbon nanotube
CVD
ST-22175
第 3 日
9:20～ 9:40		K302X線管用カーボンナノチューブ電界放出電子源の作製と階層構造制御
(早大先進理工) ○(学)安井 浩太郎・ 北川 紗映・ (正)杉目 恒志・ (明電舎) 越智 隼人・ 高橋 大造・ (早大先進理工) (正)野田 優
carbon nanotube
electron field emitter
hierarchical structure control
ST-22230
第 3 日
13:00～ 14:20		   座長 杉目 恒志
K313[招待講演] プラズマ化学気相成長法によるケイ素および窒素を添加したダイヤモンドライクカーボン薄膜の特性評価
(弘前大院理工) 中澤 日出樹
diamond-like carbon
plasma-enhanced chemical vapor deposition
silicon
ST-22248
K314プラズマCVD法で作製したシリカ系ガスバリア膜の残留応力
(京大工) ○(正)河瀬 元明・ (学)平田 桑一朗・ (学)脇坂 知樹
CVD
Residual stress
Silica gas barrier film
ST-2213
K315SiC-CVIプロセスにおける表面反応のモデル化に向けた反応過程の理論検討
(東大院工) ○(学)佐藤 登・ (学)大高 雄平・ (学)安治 遼祐・ (IHI) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
CH3SiCl3
SiC CVI
surface reaction
ST-22665
K316SiC-CVIプロセスにおける理論的検討に基づいた表面反応モデルの構築
(東大院工) ○(学)佐藤 登・ (学)根東 佳史・ (学)大高 雄平・ (学)安治 遼祐・ (正)福島 康之・ (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
SiC-CVI
Surface reaction mechanism
CH3SiCl3
ST-22682

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化学工学会 第51回秋季大会 (2020)

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