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化学工学会 第51回秋季大会 (2020)

講演プログラム検索結果 : CVD : 10件

全てのセッションはオンライン学会会場で実施されます。
(9/10) 講演要旨を公開しました(参加登録者、ご招待者限定)。講演番号をクリックしてください。
(ID/PWは事前参加登録者には9/10に,当日参加登録者には9/23に(オンライン学会会場のID/PWと併せて)お知らせしました。)
(8/8) SY-69のフラッシュ発表は中止となりました。
(8/24,8/27) SY-74のX306,X307、HQ-11のD301の時間が変わりました。

キーワード が『CVD』と一致する講演:10件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。また、フラッシュ付きポスターの場合、フラッシュとポスターの2件となります。

講演
時刻
講演
番号
講演題目/発表者キーワード分類
番号
受理
番号
第 1 日
9:0010:30
PA107詳細化学反応速度モデルとOpenFOAMを用いたCVD反応器の熱流体解析
(名大院工) ○(学·技基)古田 凌(海)チョウ イ(正)町田 洋(正)則永 行庸
CVD
Simulation
OpenFOAM
SY-64717
第 1 日
12:4013:40
PA107詳細化学反応速度モデルとOpenFOAMを用いたCVD反応器の熱流体解析
(名大院工) ○(学·技基)古田 凌(海)チョウ イ(正)町田 洋(正)則永 行庸
CVD
Simulation
OpenFOAM
SY-64717
第 2 日
10:4011:00
K206ペロブスカイト薄膜の中心金属種が構造に与える影響
(京大工) ○(学·技基)松田 萌(学)村上 誉紀(学)松村 南月(正)河瀬 元明
CVD
perovskite
central metals
ST-22414
第 2 日
13:2013:40
K214MTS/H2を原料としたSiC-CVDプロセスにおけるSiCl4添加効果の検討
(東大院工) ○(学)大高 雄平(学)安治 遼祐(学)佐藤 登(IHI) (正)福島 康之(東大院工) (正)出浦 桃子(正)百瀬 健(正)霜垣 幸浩
CVD
SiC
Recycle
ST-22556
第 2 日
14:2014:40
K217TiAlN-CVDプロセスの反応モデル構築に向けた速度過程解析(2)
(東大院工) ○(学)山口 潤平原 智子(京セラ) (法)久保 隼人(東大院工) (正)出浦 桃子(正)百瀬 健(京セラ) (法)谷渕 栄仁(東大院工) (正)霜垣 幸浩
CVD
TiAlN
cutting tool
ST-22153
第 2 日
15:0015:20
I219水蒸気添加が熱分解炭素CVDに及ぼす影響
(京大工) ○(学·技基)南 遼河(学·技基)松田 萌(正)河瀬 元明
CVD
Carbon
Steam
SY-63251
第 3 日
9:009:20
K301アセチレンの高温熱分解によるナノ粒子・ナノチューブ炭素複合体の連続合成
(早大先進理工) ○(学)浦田 結文大田原 綾哉(正)大沢 利男(正)杉目 恒志(デンカ) 名古 裕輝岡田 拓也(早大先進理工) (正)野田 優
Carbon nanoparticle
Carbon nanotube
CVD
ST-22175
第 3 日
10:0010:20
K304シリコンミニマルCVD装置内ガス移動の水晶振動子による観察
(横国大院) 大谷 真奈(正)羽深 等(ミニマルファブ) 池田 伸一石田 夕起原 史朗
CVD
QCM
Minimal
ST-2262
第 3 日
10:4011:00
K306多結晶SiC-CVDの高速・均一化に向けた反応機構解析
(東大院工) ○(学)奥 友則(正)出浦 桃子(正)百瀬 健(正)霜垣 幸浩
Reaction model
SiC
CVD
ST-22499
第 3 日
13:2013:40
K314プラズマCVD法で作製したシリカ系ガスバリア膜の残留応力
(京大工) ○(正)河瀬 元明(学)平田 桑一朗(学)脇坂 知樹
CVD
Residual stress
Silica gas barrier film
ST-2213

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