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SY) 部会シンポジウム

SY-80. [エレクトロニクス部会シンポジウム] エレクトロニクス材料とプロセス技術

オーガナイザー: 羽深 等(横浜国立大学)齊藤 丈靖(大阪公立大学)岩本 猛(三菱電機(株))

エレクトロニクス材料とプロセス技術に関わる研究・開発の講演を公募します。めっき、電池材料、結晶、高分子、セラミックスを始め様々な材料とプロセスがエレクトロニクスには不可欠です。幅広い分野に亘るエレクトロニクス材料と、その使い方に関わる講演を募集いたします。多数ご参加下さい。

最終更新日時:2025-12-05 14:18:01

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キーワード受理件数
Rocket1件
Material informatics1件
VUV1件
Ar etching1件
aluminum1件
Molecular imprint1件
PECVD1件
Surface treatment1件
ionic liquid1件
electrodeposition1件

受理
番号
講演題目/発表者キーワード発表形式
5SiCxNyOzプラズマCVD成膜におけるArエッチングの影響
(横国大院理工) (正)羽深 等
PECVD
Ar etching
O
131[展望講演] 小規模データを活かすマテリアルズインフォマティクスによる材料創製
(慶應大理工) 緒明 佑哉
Material informatics
O
132[展望講演] 『速い、安い、巧い』分子インプリント高分子センサ- 社会実装に向けた挑戦と展望 -
(芝浦工大工) (正)吉見 靖男
Molecular imprint
O
214[招待講演] 神奈川大学におけるロケット開発の成果と⽇本におけるロケット技術の今と展望
(神奈川大工) 高野 敦
Rocket
O
482還元性雰囲気下での真空紫外光照射による酸化銅表面の改質
(阪公大院工) (学)○片山 魁人(正)齊藤 丈靖(正)岡本 尚樹(ウシオ電機) (正)遠藤 真一
Surface treatment
VUV
O
662[招待講演] イオン液体電解質を用いるアルミニウム電析の現状と将来展望
(岩手大理工) (正)宇井 幸一
aluminum
electrodeposition
ionic liquid
O

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