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化学工学会 第50回秋季大会
Last modified: 2018-09-04 10:00:00
講演プログラム（会場・日程別） : CD会場・第2日
講演要旨は各講演番号からリンクしています。(要ID/PW)
閲覧に必要なID/PWは受付でお配りするプログラム集冊子の1ページに記載しているほか、
事前参加登録者・ご招待者には9月4日にメールでお知らせしています。 詳細
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CD 会場 ・ 第 2 日
| 講演 時刻 | 講演 番号 | 講演題目／発表者 | キーワード | 分類 番号 | 受理 番号 |
|---|---|---|---|---|---|
| ST-25 [部会横断型シンポジウム] CVD・ドライプロセス -デバイス構造・機能制御の反応工学- | |||||
| (13:00～14:00) (座長 | |||||
| CD213 | [展望講演] 熱CVD法を用いた切削工具用硬質膜の開発と展望 | CVD Cutting tool Hard coating | ST-25 | 468 | |
| CD215 | アルキルアルミニウムを用いたアルミナ膜の新規合成法の開発 | CVD alkyl aluminum alumina | ST-25 | 882 | |
| (14:00～15:00) (座長 | |||||
| CD216 | 熱CVD法による高Al組成fcc-TiAlN膜の合成(2) | CVD TiAlN cutting tool | ST-25 | 561 | |
| CD217 | 4H-SiC CVDトレンチ埋込成長機構及びHClガス添加効果の検討 | 4H-SiC trench filling HCl | ST-25 | 142 | |
| CD218 | SiC-CVIプロセスにおける表面反応過程の理論検討 | SiC CVI Surface Reaction | ST-25 | 919 | |
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化学工学会 第50回秋季大会
(C) 2023 公益社団法人化学工学会 The Society of Chemical Engineers, Japan. All rights reserved.For more information contact 化学工学会 第50回秋季大会 実行委員会
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