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SY) 部会シンポジウム

SY-76. [エレクトロニクス部会シンポジウム] エレクトロニクス材料とプロセス技術

オーガナイザー: 齊藤 丈靖(大阪公立大学)羽深 等(横浜国立大学)岩本 猛(三菱電機(株))岡本 尚樹(大阪公立大学)

エレクトロニクス材料とプロセス技術に関わる研究・開発の講演を公募します。めっき、電池材料、結晶、高分子、セラミックスを始め様々な材料とプロセスがエレクトロニクスには不可欠です。幅広い分野に亘るエレクトロニクス材料と、その使い方に関わる講演を募集いたします。多数ご参加下さい。

最終更新日時:2026-06-27 19:33:02

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キーワード受理件数
Wafer drying1件
Integrated circuits1件
VUV1件
Pattern collapse1件
Element technologies of EUVL1件
quartz crystal microbalance1件
EUV Lithography1件
Next Generation EUVL1件
CMOS1件
Sulfide All-Solid-State Batteries1件
hybrid bonding1件
surface treatment1件
SiC1件
Solid Electrolytes1件
gas process1件

受理
番号
講演題目/発表者キーワード発表形式
46[招待講演] 硫化物全固体電池の実用化に向けた課題と最新技術動向
(産総研) 乙山 美紗恵
Sulfide All-Solid-State Batteries
Solid Electrolytes
O
80[展望講演] 極限環境用 SiC CMOS 集積回路・イメージセンサの研究開発
(広大RISE) 黒木 伸一郎
SiC
CMOS
Integrated circuits
O
637[招待講演] 半導体乾燥工程の課題とパターン倒壊抑制技術の動向
(Screenホールディングス) 中野 佑宇唯
Pattern collapse
Wafer drying
O
698[展望講演] EUVLの現状と今後の展開
(兵庫県大) 渡邊 健夫
EUV Lithography
Element technologies of EUVL
Next Generation EUVL
O
906水晶振動子を活用するガスプロセス管理
(横国大) (正)羽深 等
quartz crystal microbalance
gas process
O
926真空紫外光照射による銅の還元およびシリコン絶縁膜への水酸基の導入
(阪公大院工) (正)○齊藤 丈靖片山 魁人赤松 法星遠藤 真一(正)岡本 尚樹
VUV
surface treatment
hybrid bonding
O

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化学工学会 第57回秋季大会 (東広島)

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