English page
SCEJ

化学工学会 第85年会

Last modified: 2020-03-02 11:00:00

講演プログラム検索結果 : Tsukune Atsuhiro : 1件

講演要旨は各講演番号からリンクしています。
(講演要旨閲覧に必要なID/PWは参加登録者・ご招待者にメールでお知らせします。)
※ IChES 2020 のプログラムは こちら です。

司会・座長氏名 が『Tsukune Atsuhiro』と一致するセッション：1件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
オーガナイズドセッション(反応工学部会CVD反応分科会)
第 3 日
13:00～ 14:40		   座長 野田 優・筑根 敦弘
J313SiC-CVIプロセスにおける表面反応のモデル化に向けた反応過程の理論検討
(東大院工) ○(学)佐藤 登・ (学)大高 雄平・ (学)安治 遼祐・ (IHI) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
CH3SiCl3
SiC CVI
surface reaction
5-h222
J314Time-evolution of film thickness profiles by level set method during CVD multiscale simulation
(東大院工) ○(学)Zhang Jin・ (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
multiscale simulation
chemical vapor deposition
level set method
5-h462
J315固体原料併用PECVD法における分散媒が合成された複合薄膜に及ぼす影響
(広大院工) ○(正)島田 学・ (技基)高橋 一真・ (正)久保 優
titanium dioxide
carbon nanotube
photocatalyst
5-h572
J316プラズマCVD法シリカ系ガスバリア膜の残留応力
(京大工) ○(正)河瀬 元明・ (学)平田 桑一朗・ (学·技基)脇坂 知樹
CVD
residual stress
silica gas barrier film
5-h608
J317ヨウ化鉛メチルアンモニウムペロブスカイト膜のCVDプロセスの開発
(京大工) ○(正)河瀬 元明・ (学)村上 誉紀・ (学)松田 萌
CVD
methylammonium lead iodide
lead melt
5-h614

講演発表プログラム
講演プログラム一覧(横長)  (同 縦長表示)
セッション一覧
講演プログラムの検索
化学工学会 第85年会

(C) 2023 公益社団法人化学工学会 The Society of Chemical Engineers, Japan. All rights reserved.
For more information contact 化学工学会 第85年会 実行委員会
E-mail: inquiry-85awww3.scej.org