
Last modified: 2022-03-04 12:00:00
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| 講演 時刻 | 講演 番号 | 講演題目/発表者 | キーワード | 分類 番号 | 受理 番号 |
|---|---|---|---|---|---|
| 第 3 日 | PD374 | プラズマCVDによるSiOx系薄膜の製膜とその評価 | CVD Plasma coating | 5-h | 303 |
| オーガナイズドセッション(反応工学部会CVD反応分科会) | |||||
| 第 3 日 | 座長 | ||||
| L318 | Co-ALDプロセスにおける原料の比較検討 | ALD cobalt precursor | 5-h | 585 | |
| L319 | 密度汎関数法による銅(II)アセチルアセトナートの銅(111)表面への吸着に関する研究 | Atomic Layer Depositon Density Function Theory Surface Adsorption | 5-h | 110 | |
| L320 | 溶融ビスマスを用いたヨウ化メチルアンモニウムビスマスペロブスカイトのCVD | CVD perovskite methylammonium bismuth iodide | 5-h | 649 | |
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