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化学工学会第87年会(神戸)

Last modified: 2022-03-04 12:00:00

講演プログラム検索結果 : 添加 : 14件

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講演題目 が『添加』を含む講演：14件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
第 1 日
13:20～ 13:40		O114架橋剤無添加での温度応答性ポリマー粒子のワンポット水相合成
(茨城大院理工) ○(正)山内 紀子・ (茨城大工) 近村 紗梨那・ (茨城大院理工) (正)多田 昌平・ (正)小林 芳男
Polymer
Temperature responsiveness
Non-crosslinked particle
12-c333
第 1 日
14:20～ 14:40		N117下水汚泥焼却灰の高温付着性への鉄添加効果の解析
(三機工業) ○(正)刀根 康一郎・ (正)伊東 賢洋・ 小関 多賀美・ (農工大院) (正)堀口 元規・ (学)伊藤 敦貴・ (正)岡田 洋平・ (正)神谷 秀博
sewage sludge incineration ash
ash adhesion at high temperatures
duct blockage
13-i98
第 2 日
10:20～ 11:20		PB242カーボンブラックを添加した光熱変換吸着剤による大気中二酸化炭素の回収
(東工大物質理工) ○(学)片岡 大志・ (正)織田 耕彦・ (正)下山 裕介
direct air capture
photothermal release
adsorbent
4-e448
第 2 日
10:40～ 11:00		L206メチルシクロヘキサン脱水素における白金触媒へのセレン添加効果
(九大院工) ○(正)大島 一真・ (学)伊藤 大弥・ (正)山本 剛・ (正)岸田 昌浩・ (日鉄エンジ) (法)加藤 讓・ (法)森田 健太郎・ (法)大橋 亜珠香
Methylcyclohexane dehydrogenation
Pt/TiO2 catalyst
selenium promoter
5-a18
第 2 日
13:20～ 14:20		PC241炭素材料による触媒添加MgH2の水素吸放出サイクル安定性の向上
(早大先進理工) ○(学)浜沢 朋希・ (正)野田 優・ (正)花田 信子
MgH2
Hydrogen storage
Carbon materials
9-e327
第 2 日
14:00～ 14:20		L216SiO2添加が60wt%Ni/CeO2触媒の細孔構造および触媒活性に与える影響
(山形大院理工) ○(正)藤原 翔・ 榧野 宗悟
Flame spray pyrolysis
Ni catalyst
CO2 methanation
5-a206
第 2 日
14:20～ 15:20		PC232Al系添加剤を用いた高温場における灰付着性制御
(農工大) ○(学)奥泉 達也・ (正)堀口 元規・ (正)岡田 洋平・ (正)神谷 秀博
ash
adhesion
combustion
9-c256
第 3 日
10:20～ 11:20		PD340Ru/CeO2触媒へのZr成分添加がCO2のauto-methanation特性に及ぼす影響
(静大院工) ○(学)尾崎 練・ (静大) (正)赤間 弘・ (静大院工) (正)渡部 綾・ (正)福原 長寿
Auto-methanation
CeO2-ZrO2 mixed catalyst
Ru-type catalyst
5-a490
第 3 日
10:40～ 11:00		N306ジメチルエーテルの超臨界二酸化炭素への添加による脂質抽出の促進
(名大院工) ○(正)神田 英輝・ 福田 祐士・ (正)Wahyudiono・ (正)後藤 元信
Entrainer
Cosolvent
supercritical extraction
8-c651
第 3 日
13:20～ 14:20		PE339サッチ分解菌マイクロカプセルの保護剤添加による固定化菌体の活性維持
(鹿大院) ○(学)吉崎 祐二朗・ (正)大角 義浩・ (正)武井 孝行・ (正)吉田 昌弘
thatch degradation
microcapsules
protective
12-f74
第 3 日
13:20～ 14:20		PE351カリミョウバンの滴下冷却晶析における種晶添加条件の検討
(新潟大院自) ○(学·技基)五十嵐 紀亮・ (新潟大工) (正·修習)三上 貴司
semi-batch cooling
K-alum
seeding
12-g326
第 3 日
13:20～ 14:20		PE367潤滑油添加剤としてのポリアクリレート(PA)の金属表面への吸着挙動に関する分子シミュレーション
(工学院大先進工) ○(学)伊藤 陸・ (学)樋口 隼人・ (学)廣澤 史也・ (ENEOS) (法)真鍋 義隆・ (法)角谷 真夕子・ (工学院大先進工) (正)宮川 雅矢・ (正)高羽 洋充
polyacrylate
molecular dynamics
adsorption
12-m550
第 3 日
14:20～ 15:20		PE344Te存在下におけるZMH種晶添加によるスケーリング抑制効果の検討
(早大院先進理工) ○(学)諏江 霞純・ (正)平沢 泉
Encrusration
Crystallization
Seeding
12-g101
第 3 日
16:20～ 16:40		L323MTS/H2を原料としたSiC-CVIにおけるSiCl4添加による微細構造内製膜均一化の原因考察
(東大院工) ○(学)大高 雄平・ (東大工) 木村 俊介・ (東大院工) (正)佐藤 登・ (IHI) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
SiC
CVI
CMC
5-h511

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