SCEJ 48th Autumn Meeting (Tokushima, 2016): List of the applications (topics)

ST-17. 【部会横断型シンポジウム】CVD・ドライプロセス　－構造・機能制御の反応工学－

オーガナイザー:

杉山正和（東京大学）・島田　学（広島大学）・川上雅人（東京エレクトロン）

CVDをはじめとするドライプロセスは，エレクトロニクス，太陽電池，MEMS，機能性コーティング等の分野において，基幹技術となっている。本シンポジウムでは，CVDと類縁技術を利用した薄膜形成，微粒子合成，微細加工における製品の構造と機能を制御するために，反応メカニズムの理解による論理的な最適化を目指し議論することを目的とします。なお，優秀な発表をされた若手研究者には，CVD反応分科会奨励賞を贈呈します。

最終更新日時：2016-11-29 11:54:01

この分類でよく使われているキーワード	キーワード	受理件数
CVD	5件
carbon nanotube	3件
SiC	3件
Methyltrichlorosilane	2件
supercritical fluid deposition	2件
TiO2	1件

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キーワード

受理件数

CVD

5件

carbon nanotube

3件

SiC

3件

Methyltrichlorosilane

2件

supercritical fluid deposition

2件

TiO2

1件

受理番号	講演題目／発表者	キーワード	発表形式
20	ドデカン/エタノール混合燃料を用いたディーゼルエンジンにおけるカーボンナノチューブの合成 (東工大院理工) (学)○鈴木俊介・ (正)森伸介	carbon nanotube diesel engine flame synthesis	O
35	[展望講演] III-V族半導体量子ドット成長のその場観察と成長メカニズム (阿南高専) 塚本史郎	MBE STM in-situ	O
176	[展望講演] Li-ion電池の現状と課題、正極材に求められる特性 (日亜化学) 住友威史	Li-ion Large format battery Positive Electrode Materials	O
263	[優秀論文賞] エアロゾルナノ粒子堆積によって作製した多孔質TiO₂薄膜の形態と空隙率に焼成が与える影響 (広大院工) (正)○久保優・萬谷勇樹・ (正)島田学	Phase transformation Plasma-enhanced CVD Sintering	O
264	気固原料PECVD法による高アスペクト比粒子包埋膜の合成 (広大院工) (学)○重松祐紀・ (正)久保優・ (正)島田学	Nanocomposite film Carbon nanotube Abnormal growth	O
267	Effect of heat treatments on the photocatalytic activity of Ag-TiO₂ nanocomposite films prepared by a one-step gas-phase deposition process (広大院工) (正)○Kusdianto K.・ Jiang Dianping・ (正)Kubo Masaru・ (正)Shimada Manabu	PECVD Annealing Crystal-phase	O
303	C5～C7炭化水素からの炭素CVDにおける金属基板への浸炭速度の解析 (京大工) (正)○河瀬元明・ (学)馬場翔平	CVD Carbon Solid-phase diffusion	O
395	[招待講演] 分子篩炭素のin silico合成による気体分離特性制御の検討 (京大工) (正)○田中秀樹・足立平・山根康之・ (正)宮原稔	CVD Molecular simulation Air separation	O
412	[招待講演] 複雑形状への高性能水蒸気不透過を実現する全ALD構成バリア膜の開発 (アルバック超材研) ○座間秀昭・本田和広	atomic layer despoition gas barrier film water vapor transmission rate	O
429	再利用サファイア基板上へのCuの急速エピタキシーとCVDによるグラフェンの精密合成 (早大先進理工) (学)○永井款也・ (正)長谷川馨・ (正)野田優	graphene chemical vapor deposition epitaxial growth	O
533	プラズマジェットCVD法によるシリコンナノ粒子凝集体の高速製膜に関する研究 (岐阜大院工) 永井祐輔・細川寛人・ (岐阜大工) (正)○西田哲・小宮山正治	CVD plasma nanoparticle	O
601	[招待講演] ミストを用いた大気圧下で大面積に亘り高品質な機能薄膜を作製する技術の開発 (高知工大) ○川原村敏幸・ Giang T. Dang・須和祐太・佐藤翔太・松﨑俊祐	mist CVD Leidenfrost effect metal oxide functional thin film	O
626	熱CVD法による立方晶窒化ホウ素膜合成に向けた検討 (東大工) (学)○佐藤宏樹・ (正)百瀬健・ (京セラ) 谷渕栄仁・ (東大工) (正)霜垣幸浩	CVD boron nitride coating	O
634	化学的表面処理を施したWC-Co基板上へのTiC硬質膜の作製と評価 (阪府大院工) (学)○田中千尋・ (学)鈴木聡一郎・ (正)岡本尚樹・ (正)齊藤丈靖・ (阪大産研) 樋口宏二・北島彰	adhesion strength TiC hard coating Cemented carbide	O
641	超音波霧化プロセスによるペロブスカイト太陽電池の作製 (東大院工) (学)○小南雄紀・ (東大環安セ/東大院工) (正)辻佳子	perovskite solar cell TiO2 spray-deposition	O
678	Ultra-porous carbon electrode fabricated from supercritical drying and application for lithium-air battery (東工大院理工) (学)○Kunanusont Nattanai・ (東工大物質理工) (正)下山裕介	porous carbon electrode supercritical drying lithium-air battery	O
718	SiC-CVIプロセスの初期成長に対する下地材料の影響 (東大院工) (学)○嶋紘平・ (学)佐藤登・ (学)舩門佑一・ (IHI基盤研) (正)福島康之・ (東大院工) (正)百瀬健・ (正)霜垣幸浩	CVD SiC methyltrichlorosilane	O
769	超臨界流体を用いた銅薄膜堆積における流体中反応を活用した下地選択性の制御 (東大院工) (正)○百瀬健・河村洋佑・ (正)下山裕介・ (正)霜垣幸浩	Supercritical fluid deposition Cu underlayer selectivity	O
868	モノメチルトリクロロシランを用いたSiC-CVDプロセス最適化のための総括反応モデル構築 (3) (東大院工) (学)○舩門佑一・ (学)佐藤登・ (学)嶋紘平・ (学)中智明・ (IHI基盤研) (正)福島康之・ (東大院工) (正)百瀬健・ (正)霜垣幸浩	SiC Methyltrichlorosilane Modelization	O
903	スパッタによるAlドープZnO電極を有する強誘電体キャパシタの作製と評価 (阪府大院工) (学)○高田瑶子・ (学)玉野梨加・ (正)岡本尚樹・ (正)齊藤丈靖・吉村武・藤村紀文・ (阪大産研) 樋口宏二・北島彰	ferroelectric capacitor Al-doped ZnO sputtering	O
912	Si-Cu/カーボンナノチューブ/Cu複合電極の急速蒸着とリチウム二次電池負極応用 (早大先進理工) (学)○青井慈喜・ (正)長谷川馨・ (正)野田優	lithium secondary battery physical vapor deposition carbon nanotube	O
924	超臨界流体を用いたBi₄Ti₃O₁₂製膜における反応機構解析 (東大院工) (学)○チョウユウ・ (正)下山裕介・ (正)百瀬健・ (正)霜垣幸浩	supercritical fluid deposition reaction mechanism Bi4Ti3O12	O
972	均一含浸を目指したSiC-CVIプロセスへのHClガス添加効果 (東大院工) (学)○中智明・ (学)佐藤登・ (学)嶋紘平・ (学)舩門佑一・ (IHI基盤研) (正)福島康之・ (東大院工) (正)百瀬健・ (正)霜垣幸浩	SiC CVI	O
1002	高純度・高配向性Co薄膜形成を目指したホットワイヤALDプロセスの最適化 (東大院工) (学)○中智明・ (学)嶋紘平・ (正)百瀬健・ (正)霜垣幸浩	Hot-wire-assisted ALD Cobalt	O

受理
番号

講演題目／発表者

キーワード

発表形式

ドデカン/エタノール混合燃料を用いたディーゼルエンジンにおけるカーボンナノチューブの合成
(東工大院理工) (学)○鈴木俊介・ (正)森伸介

carbon nanotube
diesel engine
flame synthesis

[展望講演] III-V族半導体量子ドット成長のその場観察と成長メカニズム
(阿南高専) 塚本史郎

MBE
STM
in-situ

176

[展望講演] Li-ion電池の現状と課題、正極材に求められる特性
(日亜化学) 住友威史

Li-ion
Large format battery
Positive Electrode Materials

263

[優秀論文賞] エアロゾルナノ粒子堆積によって作製した多孔質TiO₂薄膜の形態と空隙率に焼成が与える影響
(広大院工) (正)○久保優・萬谷勇樹・ (正)島田学

Phase transformation
Plasma-enhanced CVD
Sintering

264

気固原料PECVD法による高アスペクト比粒子包埋膜の合成
(広大院工) (学)○重松祐紀・ (正)久保優・ (正)島田学

Nanocomposite film
Carbon nanotube
Abnormal growth

267

Effect of heat treatments on the photocatalytic activity of Ag-TiO₂ nanocomposite films prepared by a one-step gas-phase deposition process
(広大院工) (正)○Kusdianto K.・ Jiang Dianping・ (正)Kubo Masaru・ (正)Shimada Manabu

PECVD
Annealing
Crystal-phase

303

C5～C7炭化水素からの炭素CVDにおける金属基板への浸炭速度の解析
(京大工) (正)○河瀬元明・ (学)馬場翔平

CVD
Carbon
Solid-phase diffusion

395

[招待講演] 分子篩炭素のin silico合成による気体分離特性制御の検討
(京大工) (正)○田中秀樹・足立平・山根康之・ (正)宮原稔

CVD
Molecular simulation
Air separation

412

[招待講演] 複雑形状への高性能水蒸気不透過を実現する全ALD構成バリア膜の開発
(アルバック超材研) ○座間秀昭・本田和広

atomic layer despoition
gas barrier film
water vapor transmission rate

429

再利用サファイア基板上へのCuの急速エピタキシーとCVDによるグラフェンの精密合成
(早大先進理工) (学)○永井款也・ (正)長谷川馨・ (正)野田優

graphene
chemical vapor deposition
epitaxial growth

533

プラズマジェットCVD法によるシリコンナノ粒子凝集体の高速製膜に関する研究
(岐阜大院工) 永井祐輔・細川寛人・ (岐阜大工) (正)○西田哲・小宮山正治

CVD
plasma
nanoparticle

601

[招待講演] ミストを用いた大気圧下で大面積に亘り高品質な機能薄膜を作製する技術の開発
(高知工大) ○川原村敏幸・ Giang T. Dang・須和祐太・佐藤翔太・松﨑俊祐

mist CVD
Leidenfrost effect
metal oxide functional thin film

626

熱CVD法による立方晶窒化ホウ素膜合成に向けた検討
(東大工) (学)○佐藤宏樹・ (正)百瀬健・ (京セラ) 谷渕栄仁・ (東大工) (正)霜垣幸浩

CVD
boron nitride
coating

634

化学的表面処理を施したWC-Co基板上へのTiC硬質膜の作製と評価
(阪府大院工) (学)○田中千尋・ (学)鈴木聡一郎・ (正)岡本尚樹・ (正)齊藤丈靖・ (阪大産研) 樋口宏二・北島彰

adhesion strength
TiC hard coating
Cemented carbide

641

超音波霧化プロセスによるペロブスカイト太陽電池の作製
(東大院工) (学)○小南雄紀・ (東大環安セ/東大院工) (正)辻佳子

perovskite solar cell
TiO2
spray-deposition

678

Ultra-porous carbon electrode fabricated from supercritical drying and application for lithium-air battery
(東工大院理工) (学)○Kunanusont Nattanai・ (東工大物質理工) (正)下山裕介

porous carbon electrode
supercritical drying
lithium-air battery

718

SiC-CVIプロセスの初期成長に対する下地材料の影響
(東大院工) (学)○嶋紘平・ (学)佐藤登・ (学)舩門佑一・ (IHI基盤研) (正)福島康之・ (東大院工) (正)百瀬健・ (正)霜垣幸浩

CVD
SiC
methyltrichlorosilane

769

超臨界流体を用いた銅薄膜堆積における流体中反応を活用した下地選択性の制御
(東大院工) (正)○百瀬健・河村洋佑・ (正)下山裕介・ (正)霜垣幸浩

Supercritical fluid deposition
Cu
underlayer selectivity

868

モノメチルトリクロロシランを用いたSiC-CVDプロセス最適化のための総括反応モデル構築 (3)
(東大院工) (学)○舩門佑一・ (学)佐藤登・ (学)嶋紘平・ (学)中智明・ (IHI基盤研) (正)福島康之・ (東大院工) (正)百瀬健・ (正)霜垣幸浩

SiC
Methyltrichlorosilane
Modelization

903

スパッタによるAlドープZnO電極を有する強誘電体キャパシタの作製と評価
(阪府大院工) (学)○高田瑶子・ (学)玉野梨加・ (正)岡本尚樹・ (正)齊藤丈靖・吉村武・藤村紀文・ (阪大産研) 樋口宏二・北島彰

ferroelectric capacitor
Al-doped ZnO
sputtering

912

Si-Cu/カーボンナノチューブ/Cu複合電極の急速蒸着とリチウム二次電池負極応用
(早大先進理工) (学)○青井慈喜・ (正)長谷川馨・ (正)野田優

lithium secondary battery
physical vapor deposition
carbon nanotube

924

超臨界流体を用いたBi₄Ti₃O₁₂製膜における反応機構解析
(東大院工) (学)○チョウユウ・ (正)下山裕介・ (正)百瀬健・ (正)霜垣幸浩

supercritical fluid deposition
reaction mechanism
Bi4Ti3O12

972

均一含浸を目指したSiC-CVIプロセスへのHClガス添加効果
(東大院工) (学)○中智明・ (学)佐藤登・ (学)嶋紘平・ (学)舩門佑一・ (IHI基盤研) (正)福島康之・ (東大院工) (正)百瀬健・ (正)霜垣幸浩

SiC
CVI

1002

高純度・高配向性Co薄膜形成を目指したホットワイヤALDプロセスの最適化
(東大院工) (学)○中智明・ (学)嶋紘平・ (正)百瀬健・ (正)霜垣幸浩

Hot-wire-assisted ALD
Cobalt

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