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化学工学会 第84年会

Last modified: 2019-03-12 11:30:00

講演要旨は各講演番号からリンクしています。(要ID/PW)
閲覧に必要なID/PWは受付でお配りするプログラム集冊子の1ページに記載しているほか、
事前参加登録者・ご招待者には2月27日にメールでお知らせしています。詳細
HC-13, HC-17, K-1にプログラム変更があります。

講演プログラム一覧表 (第 2 日)

会場 第 2 日 (3月14日(木))
午前午後
交流棟
Z交流棟6階 大講義室 [特別企画シンポジウム] デジタルで拓く次世代プラント
Z215-Z223
13:40～17:40
教室棟
A教室棟3階 301 SS-1 日本の産業を支える技術イノベーション 0-d 化学工学会技術賞 SS-2 循環型社会を目指す開発型企業の取り組み
A201-A208
9:00～12:00		 A212-A213
13:00～13:25		 A216-A224
13:40～17:20
B教室棟3階 302 SS-3 化学関連産業の経営課題　化学関連産業はＳＤＧｓにどう取り組むか　－経営の視点から－
B216-B223
13:40～17:30
C教室棟3階 303 HC-12 「社会実装学研究会」～社会実装への化学工学の挑戦～
C201-C218
9:00～17:00
E教室棟4階 403 4 分離プロセス 13 環境
E201-E209
9:00～12:00		 E213-E224
13:00～17:00
F教室棟4階 404 4 分離プロセス
F201-F224
9:00～17:00
G教室棟4階 405 12 材料・界面 7 バイオ
G201-G209
9:00～12:00		 G213-G224
13:00～17:00
H教室棟4階 406 8 超臨界流体 3 熱工学
H201-H217
9:00～14:40		 H219-H224
15:00～17:00
I教室棟4階 407 6 システム・情報・シミュレーション
14 広領域		 HC-16 女性技術者フォーラム
I201-I209
9:00～12:00		 I213-I222
13:00～16:20
J教室棟4階 408国際シンポジウム
K-1 第9回 日中化工シンポジウム ―化学プロセスAI・IoT化と安全―
J213-J223
13:00～17:00
K教室棟5階 502 SS-7 海外留学生と企業との就職に関する交流会
K201-K211
9:00～12:30
L教室棟5階 503 SS-7 海外留学生と企業との就職に関する交流会
L201-L211
9:00～12:30
交流棟
Q交流棟2階 ラウンジ
R交流棟3階 カフェテリア 懇親会
18:00～20:00
S交流棟4階 401 5 反応工学
S213-S224
13:00～17:00
T交流棟4階 402 2 粒子・流体プロセス ポスター表彰 第2日
T201-T224
9:00～17:00		 17:10～17:40
P交流棟6階 ホワイエ一般研究発表・ポスターセッション
ポスターセッションB 第2日 午前 (基礎物性, バイオ, 環境) ポスターセッションC 第2日 午後 (エレクトロニクス, 材料・界面, 広領域) ポスター表彰 第2日 (T会場)
PB201-PB291
9:20～11:20		 PC201-PC274
13:20～15:20		 17:10～17:40
懇親会(交流棟3階,R会場と同一)
交流棟3階 カフェテリア 懇親会
18:00～20:00

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