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化学工学会 第84年会

Last modified: 2019-03-12 11:30:00

講演プログラム検索結果 : 基板 : 6件

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講演題目 が『基板』を含む講演：6件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
第 1 日
13:20～ 15:20		PA1742層多孔質Si基板ナノ表面制御と超高速成膜による太陽電池用薄膜Siの電気特性評価
(東工大応化) ○(学)柴原 竜太朗・ (正)長谷川 馨・ (INSA Lyon) Alain Fave・ Erwann Fourmond・ (早大先進理工) (正)野田 優・ (東工大応化) (正)伊原 学
solar cell
Si film
Electric characterization
9-e1246
第 1 日
16:00～ 16:20		S122大気圧プラズマCVD法によるプラスチック基板へのTiO2薄膜の作製と紫外線遮蔽膜への応用
(広大院工) ○(正)長澤 寛規・ 許 静・ (正)金指 正言・ (正)都留 稔了
Atmospheric-pressure plasma
TiO2 thin film
UV-shielding
5-h1350
第 2 日
11:00～ 11:20		C207カーボンナノチューブの化学気相合成の環境影響評価:基板法と流動層法
(Waseda U.) ○(海)Teah Heng Yi・ (学)Sato Toshihiro・ (学)Namiki Katsuya・ (学)Asaka Mayu・ (学)Feng Kaisheng・ (正)Noda Suguru
Carbon Nanotube
Life Cycle Assessment
CVD Synthesis
HC-121022
第 2 日
13:20～ 15:20		PC210溶液剪断法によるTIPSペンタセン薄膜創製に対する基板表面処理の影響
(金沢大院自然) ○(学)藤田 智紀・ (金沢大理工) (正)内田 博久
Organic thin film transistor
Solution-sheared deposition
Substrate surface conditions
11-b1465
第 3 日
11:00～ 11:20		T307位相シフトエリプソメータによる固体基板上液滴のナノスケール濡れ挙動の可視化計測
(東北大院工) ○(正)庄司 衛太・ (学)米村 建哉・ (東北大工) (学)金子 峻大・ (東北大院工) (正)久保 正樹・ (正)塚田 隆夫・ (東北大流体研) 小宮 敦樹
precursor film
wetting
phase-shifting ellipsometry
2-a1109
第 3 日
16:00～ 16:20		H322バイセル集合体を利用する基板上脂質膜の調製ならびに評価
(阪大院基工) ○(学)田口 翔悟・ (阪大基工) (学)妹尾 雄司・ (阪大院基工) (正)菅 恵嗣・ (正)岡本 行広・ (ソウル国大) Jung Ho-Sup・ (阪大院基工) (正)馬越 大
Bicelle
Supported Lipid Bilayer
Phase Separation
12-a1406

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