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化学工学会 第84年会

Last modified: 2019-03-12 11:30:00

講演プログラム検索結果 : 有機修飾 : 4件

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講演題目 が『有機修飾』を含む講演：4件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
第 1 日
13:20～ 15:20		PA146高温高圧水・オクタン酸を用いた有機修飾ベーマイト合成の連続化へ向けた研究
(産総研) ○(正)藤井 達也・ (正)川﨑 慎一朗
continuous
crystal growth
organic modification
8-e948
第 2 日
13:20～ 15:20		PC233ニュートリノレス二重β崩壊検出を企図した液体シンチレータに装荷する有機修飾SrMoO4ナノ粒子合成に用いる修飾剤の検討
(東北大院工) ○(学)荒井 紗瑛・ (東北大WPI-AIMR) (正)横 哲・ (正)成 基明・ (東北大IMRAM) (正)笘居 高明・ (東北大WPI-AIMR) (正)阿尻 雅文・ (東北大院工) (正)越水 正典・ 藤本 裕・ 浅井 圭介
hydrothermal
neutrinoless double beta decay
liquid scintillator
12-d57
第 2 日
13:20～ 15:20		PC247有機修飾Bi2O3ナノ粒子の合成とプラスチックシンチレータへの応用
(東北大院工) ○(学)間木 ありさ・ (東北大工) 加賀美 佳・ (学)荒井 紗瑛・ (東北大WPI) (正)横 哲・ (東北大NICHe) (正)成 基明・ (東北大工) (正)笘居 高明・ (東北大WPI) (正)阿尻 雅文・ (東北大工) (正)越水 正典・ 藤本 裕・ (高エネ研) 岸本 俊二・ 春木 理恵・ (量研機構) 錦戸 文彦・ (東北大工) 浅井 圭介
nanoparticles
scintillators
12-d1184
第 3 日
15:20～ 15:40		H320溶媒中における有機修飾酸化物ナノ粒子の分散性評価とその制御
(東北大多元研) ○(正)笘居 高明・ (学)木村 統志・ (学·技基)田島 直哉・ (東北大AIMR) (正)横 哲・ (東北大NICHe) (正)成 基明・ (東北大AIMR) (正)阿尻 雅文
nanoparticles
dispersibility
organic modification
12-a989

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