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化学工学会 第56回秋季大会

講演プログラム検索結果 : 島田 学 : 3件

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発表者または座長 が『島田 学』と一致する講演：2件該当しました。
司会・座長氏名 が『島田 学』と一致するセッション：1件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。また、フラッシュ付きポスターの場合、フラッシュとポスターの２件となります。

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
第 1 日
13:40～ 14:00		EE115気相作製したTiO2ナノ粒子薄膜のガス検知特性評価
(広大院先進理工) ○(学·技基)原 拓己・ (学·技基)田中 直輝・ (正)久保 優・ (正)島田 学
gas sensor
aerosol particle deposition
plasma CVD
ST-26672
第 2 日
9:00～ 11:00		   座長 清水 秀治・島田 学
EE201ALDプロセスにおけるQCMを用いた吸着速度解析への壁面吸着および輸送現象の影響評価
(東大院工) ○(正)山口 潤・ (学)呉 宇軒・ (正)佐藤 登・ (正)玉置 直樹・ (正)筑根 敦弘・ (正)霜垣 幸浩
ALD
Atomic Layer Deposition
QCM
ST-26806
EE202Al2O3-ALDにおけるTMA吸着速度の温度依存性
(東大工) ○(学)Wu Yuxuan・ (正)山口 潤・ (正)佐藤 登・ (正)筑根 敦弘・ (正)霜垣 幸浩
Atomic Layer Depositon
Quartz Crystal Microbalance
Surface Adsorption
ST-26336
EE203TMAを原料とするAl2O3-ALDの動的モンテカルロ・ニューラルネットワークポテンシャル計算
(東大工) ○(学)Zou Yichen・ (学)Wu Yuxuan・ (正)山口 潤・ (正)佐藤 登・ (正)筑根 敦弘・ (正)霜垣 幸浩
ALD
KMC
NNP
ST-26726
EE204Mo(CO)6を原料としたMo-CVD/ALDの反応機構解析
(東大院工) ○(学)永井 総雅・ 小原 聡顕・ (東大院工) (正)山口 潤・ (正)佐藤 登・ (正)大髙 雄平・ (正)玉置 直樹・ (正)筑根 敦弘・ (正)霜垣 幸浩
Mo(CO)6
step coverage
interconnect
ST-26405
EE205[招待講演] 原子層堆積のためのプリカーサーおよびその堆積工程の開発
(高純度化学研) 水谷 文一
Atomic Layer Deposition
Precursor
ABC-type ALD
ST-26606
第 3 日
11:40～ 12:00		ED309静電紡糸法によるMOF複合ナノファイバーの作製と色素吸着評価
(広大院先進理工) ○(学)山﨑 颯太・ (正)久保 優・ (正)島田 学
Metal-organic framework
Electrospinning
Nanofiber
SY-81752

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