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化学工学会 第57回秋季大会 (東広島)

Last modified: 2026-07-16 06:38:20

講演プログラム（会場・日程別） : G会場・第1日

司会・座長は調整中のため表示しておりません。
また一部調整中のセッションがあります。
講演プログラム一覧表で黄色背景のセッションがライブ配信併用セッションです。
(それ以外のセッションは全て現地のみ開催です。)

G 会場(K棟 2F K210) ・ 第 1 日(9月14日(月))

ST-27

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
ST-27 CVD/ALD・ドライプロセス －構造・機能制御の反応工学－
(13:20～16:00)
13:20～ 14:00G114[展望講演] 半導体デバイスの最先端とは何か？ デバイスとパッケージの微細化・3D化の歴史から考える
(広大半導体研) 青砥 なほみ
Semiconductor
Logic
Memory
ST-27347
14:00～ 14:20G116ALDにおける原料オンデマンド供給を可能にする高速開閉バルブの動作制御Ⅱ～流量応答の解析～
(熊大院自) ○(学)石田 栞大・ 西里 洋・ (学)小田 翔太・ (熊大院自/堀場エステック) 中家 佑吾・ (熊大半導体) 奈須 錦一・ (正)平山 幹郎・ (熊大先端) 岡島 寛・ (熊大半導体) (正)百瀬 健
Atomic Layer Deposition
Sustainable
Valve
ST-27679
14:20～ 14:40G117TMA/NH3系FM-CVDによる低温AlN製膜と高熱伝導率化の検討(2)結晶粒径の影響
(東大院工) ○(学)畠山 大樹・ (正)大高 雄平・ (正)佐藤 登・ (正)玉置 直樹・ (正)山口 潤・ (正)筑根 敦弘・ (正)霜垣 幸浩
AlN
CVD
3DIC
ST-27828
14:40～ 15:00休憩
15:00～ 15:20G119プラズマCVD法によるB・Mo添加TiCN膜の作製と評価
(大公大) ○(学)黒木 利津・ (正)齊藤 丈靖・ (正)岡本 尚樹・ 川本 実加
DC plasma CVD
TiSiCN
ST-27943
15:20～ 15:40G120[招待講演] TEL開発AIツールによる成膜プロセス最適化事例の紹介
(東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ) 伊藤 聡
AI tools
ALD/CVD
Process informatics
ST-27211
15:40～ 16:00G121[招待講演] 物性測定からAI物性推算へ:熱力学研究の新たな展開
(埼玉大) (正)松川 博亮
Thermodynamic Properties
Machine Learning
Phase Equilibria
ST-2797

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化学工学会 第57回秋季大会 (東広島)

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