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化学工学会 第86年会

Last modified: 2023-05-15 19:09:22

講演プログラム（会場・日程別） : K会場・第3日

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K 会場() ・ 第 3 日(3月22日(月))

5 反応工学

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
5. 反応工学
(9:00～10:20) (座長 松岡 淳・山田 剛史)
9:00～ 9:20K301連動した2台のポンプによる液液スラグ流の発生
(阪府大工) 阿部 秀隆・ ○(正)武藤 明徳
Slug flow
extraction
tube reactor
5-f371
9:20～ 9:40K302液液スラグ流における5-ヒドロキシメチルフルフラールの反応抽出に対する界面活性剤の影響
(岡山大院環生) ○(正)島内 寿徳・ (学)佐藤 汰一・ (慶應大理工) (正)藤岡 沙都子・ (正)寺坂 宏一・ (岡山大院環生) (正)木村 幸敬
Slug flow
surfactant
extraction
5-f628
9:40～ 10:00K303N2-H2プラズマの圧力スイングと放電・ガス吸排気周期との同期によるアンモニア合成
(東工大) ○(正)森 伸介・ (学)里 彰真
Plasma
Ammonia
Pressure swing
5-c608
10:00～ 10:20K304銅担持CHA型ゼオライトのワンポット合成およびCOを利用したメタン部分酸化反応
(東大生研) ○(正)茂木 堯彦・ Sogukkanli Sibel・ (正)小倉 賢
one-pot synthesis
zeolite
methane
5-a618
(10:40～12:00) (座長 森貞 真太郎・池田 歩)
10:40～ 11:00K306固体高分子形燃料電池の多孔質部材の構造・輸送解析(6)　電子染色法による撥水層の構造解析
(豊田中研) ○(法)松岡 世里子・ (正)加藤 悟
MPL
SEM
Electron-Staining
5-i114
11:00～ 11:20K307シビアアクシデント向け水素処理材の反応特性評価
(東芝ESS) ○(法)三澤 玲菜・ (正)山田 昂・ (法)辻井 秀二・ (正)山田 和矢・ (法)岡部 寛史・ (法)鴻上 弘毅
hydorogen oxidation
solid-gas reaction
metal oxide
5-i484
11:20～ 11:40K308超音波照射による温度応答性コポリマーの応答温度の制御
(東北大院工) (海)イ スンファン・ ○(正)久保 正樹・ (正)塚田 隆夫
ultrasound
polymer
thermo-responsive
5-b500
11:40～ 12:00K309流通型装置を用いた超音波キャビテーション作用のマイクロバブルによる影響に関する検討
(長岡高専) ○(正)村上 能規・ 土田 一喜
untrasound
microbobble
active oxygen
5-b420
13:40～ 14:00K315理論的検討に基づいたSiC-CVIプロセスにおける炭素種の表面反応モデル構築
(東大院工) ○(正)佐藤 登・ (学)根東 佳史・ (学)大高 雄平・ (IHI) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
SiC CVI
surface reaction mechanism
CH3SiCl3
5-h538
14:00～ 14:20K316Multiscale simulation framework for chemical vapor deposition in nonlinear surface reaction kinetics case
(東大院工) ○(学)Zhang Jin・ (正)Deura Momoko・ (正)Momose Takeshi・ (正)Shimogaki Yukihiro
multiscale simulation
chemical vapor deposition
nonlinear reaction kinetics
5-h518
14:20～ 14:40K317MTS/H2を原料としたSiC-CVIにおける擬0次反応と犠牲層を併用したトレンチ内均一製膜
(東大院工) ○(学)大高 雄平・ (正)佐藤 登・ (学)根東 佳史・ (IHI) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
SiC
CVD
CVI
5-h383
(15:00～16:20) (座長 星野 友・萩尾 健史)
15:00～ 15:20K319三塩化ホウ素ガスとジクロロシランガスによる S-B 膜形成
(横国大) 大谷 真奈・ 室井 光子・ ○(正)羽深 等
Silicon-boron
CVD
BCL3
5-h42
15:20～ 15:40K320火炎噴霧熱分解により調製したコア-シェル型Ni-SiO2触媒のSiO2シェル生成機構
(山形大院理工) (正)藤原 翔
Flame spray pyrolysis
Ni catalyst
SiO2 shell
5-h424
15:40～ 16:00K321FeとAl源の気相供給による14cm長カーボンナノチューブフォレストの成長
(早大理工総研) ○(正)杉目 恒志・ (早大先進理工) 佐藤 俊裕・ 仲川 黎・ (静大工) 林 竜弘・ (正)井上 翼・ (早大先進理工) (正)野田 優
carbon nanotube
chemical vapor deposition
catalyst
5-h27
16:00～ 16:20CVD反応分科会奨励賞授賞式

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