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SCEJ

化学工学会 第86年会

Last modified: 2023-05-15 19:09:22

講演プログラム（会場・日程別） : K会場

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K 会場()

K 会場 ・ 第 1 日 | K 会場 ・ 第 2 日 | K 会場 ・ 第 3 日
1 基礎物性 | 5 反応工学

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
K 会場() ・ 第 1 日(3月20日(土))
1. 基礎物性
13:00～ 13:20K113マイクロ波非平衡局所加熱による液液界面の表面改質
(兵庫県大工) 薗部 智史・ 柴田 洋輔・ ○(正)朝熊 裕介・ (Curtin U.) Hyde Anita・ Phan Chi
Microwave
Interfacial modification
Interfacial tension
1-a168
(13:20～14:40) (座長 瀬戸 弘一・立元 雄治)
13:20～ 13:40K114分子シミュレーションを用いた自己組織化イオン液晶のナノチャネルにおける水和様態解析
(兵庫県大院シミュ) ○(正)石井 良樹・ (阪大院基工) (正)松林 伸幸・ (北里大理) 渡辺 豪・ (東大院物性) 原田 慈久・ (東大院工) 加藤 隆史・ (兵庫県大院シミュ) 鷲津 仁志
Ionic Liquid Crystal
Self-Assembly
Nanochannels
1-a351
13:40～ 14:00K115新しい活量係数式の純物質相互作用対パラメータの改良と多成分系への適用
(九大工) (正)岩井 芳夫
interaction number parameter
new activity coefficient equation
multicomponent system
1-a89
14:00～ 14:20K116Wilson式定数の温度変化
(東理大) (正)大江 修造
vapor-liquid equilibria
Wilson parameter
temperature dependence
1-a358
14:20～ 14:40K117医薬品+シクロデキストリン+水系固液平衡の活量係数式による算出
(日大理工) ○(正)栃木 勝己・ (正)松田 弘幸・ (学)佐久間 悠人・ (正)栗原 清文
Solid-Liquid Equilibria
Drug Containing System
Activity Coefficient Equation
1-a198
(15:00～16:20) (座長 安田 昌弘・宮川 雅矢)
15:00～ 15:20K119結晶化度および組成の異なるゴム状プロピレン共重合体に対する1-ブテン溶解度・拡散係数の測定と推算
(東北大院工) (学·技基)青山 裕紀・ (東北工大工) ○(正)佐藤 善之・ (東北大院工) (正)猪股 宏
Crystallinity
Solubility
Diffusivity
1-a432
15:20～ 15:40K120ASOG-ThermConductモデルによる液混合物熱伝導率の算出
(日大理工) ○(正)栃木 勝己・ (正)松田 弘幸・ (正)栗原 清文・ (中央大理工) (正)船造 俊孝・ (GNAU U.) V. K. Rattan
Thermal Conductivity
ASOG-ThermConduct model
Prediction
1-a137
15:40～ 16:00K121純物質の蒸気圧の推算法
(東理大理) (正)大江 修造
vapor pressure
boiling point
organic compound
1-a360
16:00～ 16:20K122超音波流速分布計測による過渡的レオロジー物性の評価
(北大) ○(正)田坂 裕司・ 芳田 泰基・ (学)大家 広平・ 村井 祐一
Rheometry
Transient properties
Ultrasonic wave
1-a164
16:20～ 16:40K123ガス分離性液体を志向したイオン液体/分子性液体混合時の分子間相互作用に関する量子化学的考察
(中央大理工/JST ACT-X) ○(正)黒木 菜保子・ (中央大理工) (学)渡部 尚汰郎・ (中央大理工/分子研) (正)森 寛敏
non aqueous solutions of ionic liquids
ab initio simulations
intermolecular interaction
1-a472
K 会場() ・ 第 2 日(3月21日(日))
5. 反応工学
9:00～ 9:20K2012-クロロプロペンの接触水素化による化成品前駆体合成
(徳島大院社会産業理工) ○(正)杉山 茂・ (徳島大院先端教育部) (学·技基)円藤 詩乃・ (徳島大院社会産業理工) (正)霜田 直宏・ (正)加藤 雅裕
2-chloropropene
hydrogenation
palladium
5-a1
9:20～ 9:40K202Selective Production of vicinal-butanediols from erythritol via aqueous phase hydrodeoxygenation over carbon supported Cu catalyst prepared from ion-exchange resin
(Tokyo Tech) ○(海)Wang Weican・ Nakagawa Koji・ (正)Fujitsuka Hiroyasu・ (AIST) (正)Fumoto Eri・ (Hokkaido U.) (正)Yoshikawa Takuya・ (正)Nakasaka Yuta・ (正)Masuda Takao・ (Tokyo Tech) (正)Tago Teruoki
erythritol
hydrodeoxygenation
carbon supported Cu catalyst
5-g483
9:40～ 10:00K203鉄硫化物触媒によるH2S共存下のプロパン脱水素の反応機構解析
(静大院) ○(正)渡部 綾・ 依田 裕太・ 平田 望・ 河野 芳海・ (正)福原 長寿
Propane dehydrogenation
Redox
Lattice sulfide
5-a414
10:00～ 10:20K204機械学習と特徴量エンジニアリングを用いた接触分解反応の生成物組成予測
(信州大繊維) ○(正)嶋田 五百里・ (正)長田 光正・ (正)福長 博・ (信州大先鋭材料研) (正)古山 通久
machine learning
feature engineering
catalytic cracking
5-a403
10:40～ 11:00K206Cu担持量がCO2/NH3/H2O系におけるCu/TiO2光触媒のCO2還元性能に及ぼす影響
(三重大院) ○(正)西村 顕・ (三重大) (学)榊原 慶人・ (三重大院) 小塩 明
Photocatalyst
CO2 Reduction Performance
Reductants Combination
5-c31
11:00～ 11:20K207第一原理計算による水素酸素再結合反応の触媒活性の評価
(東芝ESS) ○(正)山田 昂・ (法)辻井 秀二・ (正)柳生 基茂・ (法)岡部 寛史
First-principle caliculation
hydrogen-oxygen recombination reaction
activation energy
5-a463
11:20～ 11:40K208担持貴金属触媒上での亜ヒ酸の水中酸化機構の検討
(九大院工) ○(正)岸田 昌浩・ (学)浦田 誉幸・ (学)居藤 恭吾・ (九大工) 近藤 弘偉・ (九大院工) (正)山本 剛
Arsenite oxidation
wastewater treatment
supported noble metal catalysts
5-a598
11:40～ 12:00K209[研究賞] 結晶サイズ制御と金属微粒子内包構造によるゼオライト系固体触媒の高活性化に関する研究
(東工大) (正)多湖 輝興
The SCEJ Award for Outstanding Research Achievement
0-b651
13:00～ 13:20K213[研究賞] 規則性ナノ空間材料の設計と反応分離への応用
(阪大院基工) (正)西山 憲和
The SCEJ Award for Outstanding Research Achievement
0-b652
(13:20～14:40) (座長 川喜田 英孝・佐野 紀彰)
13:20～ 13:40K214水素製造反応の瞬時起動を志向したアンモニア酸化分解のコールドスタート(2)
(京大触媒電池) ○(正)佐藤 勝俊・ (名大院工) 松永 隆宏・ (正)永岡 勝俊
hydrogen
energy carrier
renewable energy
5-a367
13:40～ 14:00K215スパイラル形構造体触媒システムによる発電機からの実排出CO2ガスのメタン変換特性
(静大工) ○(正)赤間 弘・ (静大院) 谷口 智哉・ (正)渡部 綾・ (正)福原 長寿
CO2 methanation
Structured catalyst
Engine exhaust
5-a473
14:00～ 14:20K216CO2メタン化反応用Ni/CeO2触媒の反応場の検討
(茨城大院理工) ○(正)多田 昌平・ (東大院工) 永瀬 寛典・ (正)菊地 隆司
CO2 methanation
Ni
CeO2
5-a329
14:20～ 14:40K217メタン直接分解膜反応器の開発
(RITE) ○(正)瀬下 雅博・ 佐々 和明・ 安原 健一郎・ 山口 祐一郎・ (正)中尾 真一
Methane decomposition
Membrane reactor
Hydrogen permeable membrane
5-d226
K 会場() ・ 第 3 日(3月22日(月))
(9:00～10:20) (座長 松岡 淳・山田 剛史)
9:00～ 9:20K301連動した2台のポンプによる液液スラグ流の発生
(阪府大工) 阿部 秀隆・ ○(正)武藤 明徳
Slug flow
extraction
tube reactor
5-f371
9:20～ 9:40K302液液スラグ流における5-ヒドロキシメチルフルフラールの反応抽出に対する界面活性剤の影響
(岡山大院環生) ○(正)島内 寿徳・ (学)佐藤 汰一・ (慶應大理工) (正)藤岡 沙都子・ (正)寺坂 宏一・ (岡山大院環生) (正)木村 幸敬
Slug flow
surfactant
extraction
5-f628
9:40～ 10:00K303N2-H2プラズマの圧力スイングと放電・ガス吸排気周期との同期によるアンモニア合成
(東工大) ○(正)森 伸介・ (学)里 彰真
Plasma
Ammonia
Pressure swing
5-c608
10:00～ 10:20K304銅担持CHA型ゼオライトのワンポット合成およびCOを利用したメタン部分酸化反応
(東大生研) ○(正)茂木 堯彦・ Sogukkanli Sibel・ (正)小倉 賢
one-pot synthesis
zeolite
methane
5-a618
(10:40～12:00) (座長 森貞 真太郎・池田 歩)
10:40～ 11:00K306固体高分子形燃料電池の多孔質部材の構造・輸送解析(6)　電子染色法による撥水層の構造解析
(豊田中研) ○(法)松岡 世里子・ (正)加藤 悟
MPL
SEM
Electron-Staining
5-i114
11:00～ 11:20K307シビアアクシデント向け水素処理材の反応特性評価
(東芝ESS) ○(法)三澤 玲菜・ (正)山田 昂・ (法)辻井 秀二・ (正)山田 和矢・ (法)岡部 寛史・ (法)鴻上 弘毅
hydorogen oxidation
solid-gas reaction
metal oxide
5-i484
11:20～ 11:40K308超音波照射による温度応答性コポリマーの応答温度の制御
(東北大院工) (海)イ スンファン・ ○(正)久保 正樹・ (正)塚田 隆夫
ultrasound
polymer
thermo-responsive
5-b500
11:40～ 12:00K309流通型装置を用いた超音波キャビテーション作用のマイクロバブルによる影響に関する検討
(長岡高専) ○(正)村上 能規・ 土田 一喜
untrasound
microbobble
active oxygen
5-b420
13:40～ 14:00K315理論的検討に基づいたSiC-CVIプロセスにおける炭素種の表面反応モデル構築
(東大院工) ○(正)佐藤 登・ (学)根東 佳史・ (学)大高 雄平・ (IHI) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
SiC CVI
surface reaction mechanism
CH3SiCl3
5-h538
14:00～ 14:20K316Multiscale simulation framework for chemical vapor deposition in nonlinear surface reaction kinetics case
(東大院工) ○(学)Zhang Jin・ (正)Deura Momoko・ (正)Momose Takeshi・ (正)Shimogaki Yukihiro
multiscale simulation
chemical vapor deposition
nonlinear reaction kinetics
5-h518
14:20～ 14:40K317MTS/H2を原料としたSiC-CVIにおける擬0次反応と犠牲層を併用したトレンチ内均一製膜
(東大院工) ○(学)大高 雄平・ (正)佐藤 登・ (学)根東 佳史・ (IHI) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
SiC
CVD
CVI
5-h383
(15:00～16:20) (座長 星野 友・萩尾 健史)
15:00～ 15:20K319三塩化ホウ素ガスとジクロロシランガスによる S-B 膜形成
(横国大) 大谷 真奈・ 室井 光子・ ○(正)羽深 等
Silicon-boron
CVD
BCL3
5-h42
15:20～ 15:40K320火炎噴霧熱分解により調製したコア-シェル型Ni-SiO2触媒のSiO2シェル生成機構
(山形大院理工) (正)藤原 翔
Flame spray pyrolysis
Ni catalyst
SiO2 shell
5-h424
15:40～ 16:00K321FeとAl源の気相供給による14cm長カーボンナノチューブフォレストの成長
(早大理工総研) ○(正)杉目 恒志・ (早大先進理工) 佐藤 俊裕・ 仲川 黎・ (静大工) 林 竜弘・ (正)井上 翼・ (早大先進理工) (正)野田 優
carbon nanotube
chemical vapor deposition
catalyst
5-h27
16:00～ 16:20CVD反応分科会奨励賞授賞式

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