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化学工学会 第86年会

講演プログラム検索結果 : CVD : 5件

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キーワード が『CVD』と一致する講演：5件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
第 1 日
12:40～ 13:00		J112対向拡散CVD法による耐熱性シリカ膜の開発
(RITE) ○(正)浦井 宏美・ (正)瀬下 雅博・ 山口 祐一郎・ (正)中尾 真一
CVD
Silica membrane
thermal stability
4-a228
第 1 日
13:20～ 14:20		PA139HMDSOを主原料としたプラズマCVDによる製膜中の発光分析
(岐阜大院自) ○(学)久保庭 惇・ (岐阜大工) 小宮山 正治・ (正)西田 哲
CVD
film
plasma
5-h24
第 1 日
14:20～ 15:20		PA128塩素フリーSiC-CVIにおける粉体抑制・均一埋め込みに向けたプロセス検討
(東大院工) ○(学)根東 佳史・ (学)安治 遼祐・ (学)大高 雄平・ (正)佐藤 登・ (IHI) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
SiC
CVI
CVD
5-h506
第 3 日
14:20～ 14:40		K317MTS/H2を原料としたSiC-CVIにおける擬0次反応と犠牲層を併用したトレンチ内均一製膜
(東大院工) ○(学)大高 雄平・ (正)佐藤 登・ (学)根東 佳史・ (IHI) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
SiC
CVD
CVI
5-h383
第 3 日
15:00～ 15:20		K319三塩化ホウ素ガスとジクロロシランガスによる S-B 膜形成
(横国大) 大谷 真奈・ 室井 光子・ ○(正)羽深 等
Silicon-boron
CVD
BCL3
5-h42

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