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化学工学会 第91年会 (京都)

講演プログラム検索結果 : Shoji Eita : 4件

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ローマ字氏名 が『Shoji Eita』と一致する講演：4件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
K会場
第 1 日
13:00～ 13:20		K113表面修飾固体／混合溶媒界面の構造に及ぼすアルコール溶媒種の影響
(東北大院工) ○(学·技基)佐藤 悠都・ (正)斎藤 高雅・ (正)庄司 衛太・ (東北大流体研) 菊川 豪太・ Surblys Donatas・ (東北大学際研/東北大多元研) (正)笘居 高明・ (東北大院工) (正)久保 正樹
surface-modified nanoparticles
interfacial properties
molecular dynamics simulation
12-a372
H会場
第 1 日
13:45～ 14:15		H115[部会賞] フロンティア賞受賞講演:高分散ナノ粒子を含むナノフルイド液滴の超拡張濡れ
(東北大工) ○(正)庄司 衛太・ 星野 瑛・ 琵琶 哲志・ (正)久保 正樹・ (東北大NICHe) (正)塚田 隆夫・ (東北大FRIS) (正)笘居 高明・ (東北大WPI-AIMR) (正)阿尻 雅文
nanofluid
wetting
ellipsometry
X-51265
P会場
第 2 日
13:30～ 15:30		PC223表面修飾Ag／エポキシ樹脂前駆体界面の親和性評価に関する分子動力学解析
(東北大院工) ○(学)黒沢 陽一朗・ (正)斎藤 高雅・ (農工大農) (正)岡田 洋平・ (早大WCANS) (正)犬束 学・ (早大理工) (正)所 千晴・ (東北大院工) (正)庄司 衛太・ (東北大金研) (正)久保 百司・ (東北大院工) (正)久保 正樹
epoxy resin
interfacial affinity
molecular dynamics
12-a172
K会場
第 3 日
15:00～ 15:20		K319両親媒性リガンドを用いた表面修飾Ag／有機溶媒界面の構造に関する分子動力学解析
(東北大院工) ○(正)斎藤 高雅・ (学)澤内 寛人・ (農工大院農) (正)岡田 洋平・ (東北大院工) (正)庄司 衛太・ (正)久保 正樹
nanoparticle
ligand
molecular dynamics simulation
12-d344

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