化学工学会 第52回秋季大会 (岡山)
Last modified: 2023-05-16 07:28:20
講演プログラム(会場・日程別) : VC会場・第2日
ST-25,SY-56,SY-64,SY-65,SY-70は双方向ライブ配信利用予定からオンライン実施に変更されました(本変更を最後とします)。
双方向ライブ配信利用は
プログラム一覧表で黄色・赤色背景のセッションです。
赤色のセッションは岡山のライブ配信会場にオーガナイザー不在の予定です。黄色は不在となる可能性があります。いずれの場合も会場は開設しますのでご来場いただいて発表・聴講いただけます。
[
アクセス][
フロアマップ]
講演要旨は講演番号からリンクしています(クリックかタップしてください)。
参加登録者(一般公開企画のみ参加者を除く)およびご招待者にメールでお知らせしたID/PWが必要です。
VC 会場 ・ 第 2 日
ST-22
講演 時刻 | 講演 番号 | 講演題目/発表者 | キーワード | 分類 番号 | 受理 番号 |
ST-22 [部会横断型シンポジウム] CVD・ドライプロセス -構造・機能制御の反応工学- |
(9:00~11:40) (座長 齊藤 丈靖・玉置 直樹) |
9:00~ 9:40 | VC201 | [展望講演] 反応性プラズマを用いたナノ粒子の成長制御とその応用展開
(九大シス情) 古閑 一憲 | CVD nano-particles growth control
| ST-22 | 514 |
9:40~ 10:00 | VC203 | One-step fabrication of CuO-loaded TiO2 nanoparticulate thin film for photocatalytic application under visible light irradiation
(Hiroshima U.) ○(学)Hudandini Meditha・ Jiang Dianping・ (ITS) Kusdianto K・ (Hiroshima U.) (正)Kubo Masaru・ (正)Shimada Manabu | PECVD-PVD nanocomposite heterojunction
| ST-22 | 154 |
10:00~ 10:20 | VC204 | Ti[N(CH3)2]4を用いたプラズマCVD法によるTiCN膜の作製
(阪府大院工) ○(学)竹内 陸・ (正)岡本 尚樹・ (正)齊藤 丈靖 | plasma CVD TDMAT TiCN
| ST-22 | 863 |
10:20~ 10:50 | 休憩
| | | |
10:50~ 11:20 | VC206 | [招待講演] プラズマ照射下の空間ミクロかつ時間マクロな構造変化の再現計算への挑戦
(核融合研) 伊藤 篤史 | CVD plasma numerical simulation
| ST-22 | 519 |
11:20~ 11:40 | VC208 | 理論的検討に基づいたTiAlN-CVDプロセスにおける気相素反応機構構築
(東大院工) ○(正)佐藤 登・ (学)山口 潤・ (京セラ) (法)久保 隼人・ (法)杉山 貴悟・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (京セラ) (法)谷渕 栄仁・ (東大院工) (正)霜垣 幸浩 | TiAlN CVD Elementary reaction model
| ST-22 | 785 |
講演発表プログラム
講演プログラム一覧(横長)
(同 縦長表示)
セッション一覧
講演プログラムの検索
化学工学会 第52回秋季大会 (岡山)
(C) 2023 公益社団法人化学工学会 The Society of Chemical Engineers, Japan. All rights reserved.
For more information contact 化学工学会 第52回秋季大会 実行委員会
E-mail: inquiry-52fwww3.scej.org