講演 時刻 | 講演 番号 | 講演題目/発表者 | キーワード | 分類 番号 | 受理 番号 |
VC 会場 ・ 第 1 日 |
ST-22 [部会横断型シンポジウム] CVD・ドライプロセス -構造・機能制御の反応工学- |
(10:40~12:00) (座長 玉置 直樹・河瀬 元明) |
10:40~ 11:20 | VC106 | [展望講演] 半導体メモリの技術・経済・産業の現在と発展する未来
| CVD semiconductor memory industry
| ST-22 | 517 |
11:20~ 11:40 | VC108 | 次世代半導体用配線材料としての MAX化合物の製膜と評価
| Max Phase semiconductor
| ST-22 | 864 |
11:40~ 12:00 | VC109 | ビスマスを原料とした太陽電池用ペロブスカイト薄膜CVDプロセスの開発
| CVD perovskite methylammonium bismuth iodide
| ST-22 | 375 |
(13:20~14:40) (座長 河瀬 元明・舩門 佑一) |
13:20~ 13:40 | VC114 | 超臨界CO2を反応場とした有機修飾酸化鉄ナノ結晶の直接合成
| Supercritical carbon dioxide iron oxide nanocrystals organic modification
| ST-22 | 629 |
13:40~ 14:00 | VC115 | 超臨界流体薄膜堆積法で作製した酸化チタンの光触媒活性と結晶性への添加物の効果
| supercritical fluid deposition photocatalyst crystallinity
| ST-22 | 142 |
14:00~ 14:20 | VC116 | パルス供給ALDにおける原料気化特性の検討
| ALD precursor vaporization
| ST-22 | 594 |
14:20~ 14:40 | VC117 | 三塩化ホウ素ガスとモノメチルシランガスによる薄膜形成
| Chemical vapor deposition Silicon-Boron film Mechanism
| ST-22 | 40 |
14:40~ 15:10 | 休憩
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(15:10~17:00) (座長 三宅 雅人・川上 雅人) |
15:10~ 15:40 | VC119 | [招待講演] 長尺・高密カーボンナノチューブ(CNT)・アレイから作製するCNT乾式紡績糸の物性制御とエネルギー・メカニカルデバイスへの応用
| Carbon nanotube (CNT) arrays Dry Spinning CNT yarns Energy and mechanical devices
| ST-22 | 516 |
15:40~ 16:00 | VC121 | [注目講演] Enhanced CO2-assisted growth of single-wall carbon nanotube arrays with Fe/AlOx catalyst annealed without CO2
| chemical vaper deposition thermal annealing single-wall carbon nanotubes
| ST-22 | 672 |
16:00~ 16:20 | VC122 | SiCf/SiC CMC合成のための排出ガス改質再利用を含むSiC含浸プロセスの提案
| SiC reuse CVI
| ST-22 | 689 |
16:20~ 16:40 | VC123 | 多結晶SiC-CVDプロセス設計を目指した総括反応モデルの構築と検証
| Chemical Vapor Deposition silicon carbide macrocavity method
| ST-22 | 792 |
16:40~ 17:00 | VC124 | CVI法を用いたセラミックス基複合材料製造反応器内の数値シミュレーション
| CVI Numerical simulation MTS
| ST-22 | 562 |
VC 会場 ・ 第 2 日 |
(9:00~11:40) (座長 齊藤 丈靖・玉置 直樹) |
9:00~ 9:40 | VC201 | [展望講演] 反応性プラズマを用いたナノ粒子の成長制御とその応用展開
| CVD nano-particles growth control
| ST-22 | 514 |
9:40~ 10:00 | VC203 | One-step fabrication of CuO-loaded TiO2 nanoparticulate thin film for photocatalytic application under visible light irradiation
| PECVD-PVD nanocomposite heterojunction
| ST-22 | 154 |
10:00~ 10:20 | VC204 | Ti[N(CH3)2]4を用いたプラズマCVD法によるTiCN膜の作製
| plasma CVD TDMAT TiCN
| ST-22 | 863 |
10:20~ 10:50 | 休憩
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10:50~ 11:20 | VC206 | [招待講演] プラズマ照射下の空間ミクロかつ時間マクロな構造変化の再現計算への挑戦
| CVD plasma numerical simulation
| ST-22 | 519 |
11:20~ 11:40 | VC208 | 理論的検討に基づいたTiAlN-CVDプロセスにおける気相素反応機構構築
| TiAlN CVD Elementary reaction model
| ST-22 | 785 |
VC 会場 ・ 第 3 日 |
HQ-14 若手研究者が考える未来の化学工学研究 |
(13:00~13:05) |
13:00~ 13:05 | 開会挨拶
(山口大院創成科学) (正)通阪 栄一・ (正)石井 治之 | | | |
(13:05~13:45) (司会 通阪 栄一) |
13:05~ 13:25 | VC313 | [依頼講演] ゲノム操作技術を用いた有用物質生産のためのセルエンジニアリング
| Biopharmaceutical production Genome manipulation Transgene expression
| HQ-14 | 743 |
13:25~ 13:45 | VC314 | [依頼講演] マイクロ流体デバイスを用いた脂質ナノ粒子作製とRNA送達への応用
| Microfluidics Lipid nanoparticles RNA delivery
| HQ-14 | 589 |
(13:45~14:05) |
13:45~ 14:05 | 総合討論
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(14:05~14:45) (司会 石井 治之) |
14:05~ 14:25 | VC316 | [依頼講演] 複合型蒸留プロセスにおける構造最適化
| Linear programming Heterogeneous azeotropic distillation Process optimization
| HQ-14 | 335 |
14:25~ 14:45 | VC317 | [依頼講演] 化学工学が取り組む廃棄物資源のエネルギー利用
| waste resources energy carbonization
| HQ-14 | 571 |
(14:45~15:05) |
14:45~ 15:05 | 総合討論
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(15:05~15:45) (司会 石井 治之) |
15:05~ 15:25 | VC319 | [依頼講演] ゼオライトの高効率合成法の開発と応用展開
| zeolite synthesis adsorption
| HQ-14 | 23 |
15:25~ 15:45 | VC320 | [依頼講演] スコロダイト合成過程における超音波照射が粒子のサイズや形状に与える影響
| scorodite ultrasound arsenic storage material
| HQ-14 | 681 |
(15:45~17:00) |
15:45~ 16:05 | 総合討論
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16:05~ 17:00 | 意見交換会
(岡山大院自) (正)渡邉 貴一 | | | |