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化学工学会 第52回秋季大会 (岡山)

Last modified: 2023-05-16 07:28:20

講演プログラム(会場・日程別) : VC会場

ST-25,SY-56,SY-64,SY-65,SY-70は双方向ライブ配信利用予定からオンライン実施に変更されました(本変更を最後とします)。
双方向ライブ配信利用はプログラム一覧表で黄色・赤色背景のセッションです。
赤色のセッションは岡山のライブ配信会場にオーガナイザー不在の予定です。黄色は不在となる可能性があります。いずれの場合も会場は開設しますのでご来場いただいて発表・聴講いただけます。
[アクセス][フロアマップ]
講演要旨は講演番号からリンクしています(クリックかタップしてください)。
参加登録者(一般公開企画のみ参加者を除く)およびご招待者にメールでお知らせしたID/PWが必要です。

VC 会場(オンライン)

VC 会場 ・ 第 1 日 | VC 会場 ・ 第 2 日 | VC 会場 ・ 第 3 日
ST-22 | HQ-14

講演
時刻
講演
番号
講演題目/発表者キーワード分類
番号
受理
番号
VC 会場(オンライン)第 1 日(9月22日(水))
ST-22 [部会横断型シンポジウム]
CVD・ドライプロセス -構造・機能制御の反応工学-
(10:40~12:00) (座長 玉置 直樹河瀬 元明)
10:4011:20VC106[展望講演] 半導体メモリ技術経済産業現在発展する未来
CVD
semiconductor memory
industry
ST-22517
11:2011:40VC108次世代半導体用配線材料としての MAX化合物製膜評価
Max Phase
semiconductor
ST-22864
11:4012:00VC109ビスマス原料とした太陽電池用ペロブスカイト薄膜CVDプロセス開発
CVD
perovskite
methylammonium bismuth iodide
ST-22375
(13:20~14:40) (座長 河瀬 元明舩門 佑一)
13:2013:40VC114超臨界CO2反応場とした有機修飾酸化鉄ナノ結晶直接合成
Supercritical carbon dioxide
iron oxide nanocrystals
organic modification
ST-22629
13:4014:00VC115超臨界流体薄膜堆積法作製した酸化チタン光触媒活性結晶性への添加物効果
supercritical fluid deposition
photocatalyst
crystallinity
ST-22142
14:0014:20VC116パルス供給ALDにおける原料気化特性検討
ALD
precursor
vaporization
ST-22594
14:2014:40VC117三塩化ホウガスモノメチルシランガスによる薄膜形成
Chemical vapor deposition
Silicon-Boron film
Mechanism
ST-2240
14:4015:10休憩
(15:10~17:00) (座長 三宅 雅人川上 雅人)
15:1015:40VC119[招待講演] 長尺高密カーボンナノチューブ(CNT)・アレイから作製するCNT乾式紡績糸物性制御エネルギーメカニカルデバイスへの応用
Carbon nanotube (CNT) arrays
Dry Spinning CNT yarns
Energy and mechanical devices
ST-22516
15:4016:00VC121[注目講演] Enhanced CO2-assisted growth of single-wall carbon nanotube arrays with Fe/AlOx catalyst annealed without CO2
chemical vaper deposition
thermal annealing
single-wall carbon nanotubes
ST-22672
16:0016:20VC122SiCf/SiC CMC合成のための排出ガス改質再利用を含むSiC含浸プロセス提案
SiC
reuse
CVI
ST-22689
16:2016:40VC123多結晶SiC-CVDプロセス設計目指した総括反応モデル構築検証
(東大院工) ○(学)師井 滉平(学)奥 友則(正)出浦 桃子(正)百瀬 健(正)霜垣 幸浩
Chemical Vapor Deposition
silicon carbide
macrocavity method
ST-22792
16:4017:00VC124CVI法を用いたセラミックス基複合材料製造反応器内数値シミュレーション
(名大) ○(学)小川 達也(正)福本 一生(正)町田 洋(正)則永 行庸
CVI
Numerical simulation
MTS
ST-22562
VC 会場(オンライン)第 2 日(9月23日(木))
(9:00~11:40) (座長 齊藤 丈靖玉置 直樹)
9:009:40VC201[展望講演] 反応性プラズマを用いたナノ粒子成長制御とその応用展開
CVD
nano-particles
growth control
ST-22514
9:4010:00VC203One-step fabrication of CuO-loaded TiO2 nanoparticulate thin film for photocatalytic application under visible light irradiation
PECVD-PVD
nanocomposite
heterojunction
ST-22154
10:0010:20VC204Ti[N(CH3)2]4を用いたプラズマCVD法によるTiCN膜の作製
plasma CVD
TDMAT
TiCN
ST-22863
10:2010:50休憩
10:5011:20VC206[招待講演] プラズマ照射下空間ミクロかつ時間マクロ構造変化再現計算への挑戦
CVD
plasma
numerical simulation
ST-22519
11:2011:40VC208理論的検討に基づいたTiAlN-CVDプロセスにおける気相素反応機構構築
TiAlN
CVD
Elementary reaction model
ST-22785
VC 会場(オンライン)第 3 日(9月24日(金))
HQ-14 若手研究者が考える未来の化学工学研究
(13:00~13:05)
13:0013:05開会挨拶
(山口大院創成科学) (正)通阪 栄一 (正)石井 治之
(13:05~13:45) (司会 通阪 栄一)
13:0513:25VC313[依頼講演] ゲノム操作技術を用いた有用物質生産のためのセルエンジニアリング
Biopharmaceutical production
Genome manipulation
Transgene expression
HQ-14743
13:2513:45VC314[依頼講演] マイクロ流体デバイスを用いた脂質ナノ粒子作製とRNA送達への応用
Microfluidics
Lipid nanoparticles
RNA delivery
HQ-14589
(13:45~14:05)
13:4514:05総合討論
(14:05~14:45) (司会 石井 治之)
14:0514:25VC316[依頼講演] 複合型蒸留プロセスにおける構造最適化
Linear programming
Heterogeneous azeotropic distillation
Process optimization
HQ-14335
14:2514:45VC317[依頼講演] 化学工学が取り組む廃棄物資源エネルギー利用
waste resources
energy
carbonization
HQ-14571
(14:45~15:05)
14:4515:05総合討論
(15:05~15:45) (司会 石井 治之)
15:0515:25VC319[依頼講演] ゼオライト高効率合成法開発応用展開
zeolite
synthesis
adsorption
HQ-1423
15:2515:45VC320[依頼講演] スコロダイト合成過程における超音波照射粒子サイズ形状に与える影響
scorodite
ultrasound
arsenic storage material
HQ-14681
(15:45~17:00)
15:4516:05総合討論
16:0517:00意見交換会
(岡山大院自) (正)渡邉 貴一

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