Last modified: 2023-05-16 07:24:56
プラズマプロセッシングは新規材料合成や環境問題解決のための先端基盤技術として注目されており,プラズマによるナノ粒子合成,機能性薄膜の作製,表面処理,有害物質処理に加え,水素製造を含めたエネルギー分野などの幅広い分野に応用されている。本シンポジウムでは,プラズマプロセッシングの基礎と応用に関する討論をもとに,化学工学における新たな展開を探る。なお,学生による優秀な発表に対して,プラズマシンポジウム最優秀学生賞を贈呈する。
表彰式は同日15:40~16:00
講演 時刻 | 講演 番号 | 講演題目/発表者 | キーワード | 分類 番号 | 受理 番号 |
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AC 会場 ・ 第 2 日 | |||||
(9:00~10:20) (座長 | |||||
AC201 | ジケトピペラジンから鎖状オリゴペプチド合成におけるパルス放電の影響 | Pulsed Discharge Oligopeptides Diketopiperazines | ST-27 | 422 | |
AC202 | ロングDCアークを用いたナノグラフェンの合成 | Thermal plasma Nanographene Nanomaterial synthesis | ST-27 | 526 | |
AC203 | CO2/COガスから炭素粒子への無触媒還元法 | Carbon dioxide Plasma jet | ST-27 | 98 | |
AC204 | ゼオライト充填プラズマリアクターによるリークアンモニア分解挙動 | Ammonia packed-bed reactor DBD plasma | ST-27 | 115 | |
(10:40~11:20) (司会 | |||||
AC206 | [招待講演] 噴流層型プラズマリアクターによる粒子改質・ガス改質 | Plasma-Enhanced Spouted Bed Particle Modification Gas Reforming | ST-27 | 851 | |
(13:00~13:40) (司会 | |||||
AC213 | [招待講演] 3次元フラッシュメモリ向け高アスペクトホールのエッチングプロセス | Plasma Process 3D Flash Memory Etching | ST-27 | 850 | |
(13:40~14:40) (座長 | |||||
AC215 | ダイオード整流型交流アークを用いたプレーナー熱プラズマジェットの変動特性 | thermal plasma fluctuation AC arc plasma | ST-27 | 654 | |
AC216 | 6相交流アークの放電領域における変動特性 | thermal plasma multiphase AC arc arc fluctuation | ST-27 | 688 | |
AC217 | 高周波熱プラズマを用いた二元合金ナノ粒子の合成 | thermal plasma nanoparticles magnetic material | ST-27 | 666 | |
(14:40~15:40) (座長 | |||||
AC218 | アンモニア合成反応における触媒とプラズマの相乗効果に関する研究 | plasma ammonia catalyst | ST-27 | 781 | |
AC219 | CO2放電分解用竪型プラズマリアクターの開発 | Carbon dioxide DBD plasma Molten electrode | ST-27 | 97 | |
AC220 | マイクロギャッププラズマリアクターによるCO2ガス放電分解挙動 ※AC220は今井 勉が登壇予定です。 | Carbon dioxide DBD plasma | ST-27 | 93 | |
(15:40~16:00) | |||||
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