司会・座長氏名 が『玉置 直樹』と一致するセッション:2件該当しました。
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講演 時刻 | 講演 番号 | 講演題目/発表者 | キーワード | 分類 番号 | 受理 番号 |
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第 1 日 | 座長 | ||||
VC106 | [展望講演] 半導体メモリの技術・経済・産業の現在と発展する未来 | CVD semiconductor memory industry | ST-22 | 517 | |
VC108 | 次世代半導体用配線材料としての MAX化合物の製膜と評価 | Max Phase semiconductor | ST-22 | 864 | |
VC109 | ビスマスを原料とした太陽電池用ペロブスカイト薄膜CVDプロセスの開発 | CVD perovskite methylammonium bismuth iodide | ST-22 | 375 | |
第 2 日 | 座長 | ||||
VC201 | [展望講演] 反応性プラズマを用いたナノ粒子の成長制御とその応用展開 | CVD nano-particles growth control | ST-22 | 514 | |
VC203 | One-step fabrication of CuO-loaded TiO2 nanoparticulate thin film for photocatalytic application under visible light irradiation | PECVD-PVD nanocomposite heterojunction | ST-22 | 154 | |
VC204 | Ti[N(CH3)2]4を用いたプラズマCVD法によるTiCN膜の作製 | plasma CVD TDMAT TiCN | ST-22 | 863 | |
(VC205) | 休憩 | ||||
VC206 | [招待講演] プラズマ照射下の空間ミクロかつ時間マクロな構造変化の再現計算への挑戦 | CVD plasma numerical simulation | ST-22 | 519 | |
VC208 | 理論的検討に基づいたTiAlN-CVDプロセスにおける気相素反応機構構築 | TiAlN CVD Elementary reaction model | ST-22 | 785 |
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化学工学会 第52回秋季大会 (岡山)