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化学工学会 第54回秋季大会 (福岡)

講演プログラム検索結果 : Moriyama Norihiro : 7件

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ローマ字氏名 が『Moriyama Norihiro』と一致する講演：7件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。また、フラッシュ付きポスターの場合、フラッシュとポスターの２件となります。

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
第 1 日
13:40～ 14:00		K115架橋型オルガノシリカ膜の細孔構造制御と低温下におけるO2分離への応用
(広大院先進理工) ○(学)和泉 亮平・ (正)金指 正言・ (大陽日酸) (法)石﨑 一俊・ (広大院先進理工) (正)森山 教洋・ (正)長澤 寛規・ (正)都留 稔了
membrane
air separation
low temperature
SY-61541
第 1 日
14:00～ 14:20		K116フッ素系シリカ多孔膜の炭化水素透過特性
(広大院先進理工) ○(学)山本 健斗・ (正)金指 正言・ (正)森山 教洋・ (正)長澤 寛規・ (正)都留 稔了
Hydrocarbon
C4 separation
Silica membrane
SY-61489
第 1 日
14:20～ 14:40		K117オルガノシリカ膜による水蒸気回収と潜熱の有効利用
(広大先進理工) ○(正)森山 教洋・ (学)久保 卓也・ (正)長澤 寛規・ (正)金指 正言・ (正)都留 稔了
Organosilica
Vapor permeation
Steam recovery
SY-61396
第 1 日
14:40～ 15:00		K118表面特性を制御した酸化グラフェン膜の作製と水蒸気透過特性評価
(広大院先進理工) ○(学)竹中 里彩・ (正)森山 教洋・ (正)長澤 寛規・ (正)金指 正言・ (正)都留 稔了
Graphene oxide
Water vapor
Dehumidification
SY-61531
第 2 日
10:20～ 10:40		X205フッ素系スルホン酸高分子/セラミック複合膜のNH3分離特性と反応への応用
(広大院先進理工) ○(学·技基)脇本 倖太朗・ (学)Wei-Wei Yan・ (正)森山 教洋・ (正)長澤 寛規・ (正)金指 正言・ (正)都留 稔了
Polymer/ceramic composite membranes
Ammonia
separation
ST-27491
第 2 日
14:20～ 14:40		G217造孔剤を用いた大気圧プラズマCVDによるナノポーラス膜の作製
(広大院先進理工) ○(学)波村 龍人・ (正)長澤 寛規・ (正)森山 教洋・ (正)金指 正言・ (正)都留 稔了
Atmospheric Pressure Plasma
porogen
silica membrane
ST-28389
第 2 日
14:40～ 15:00		G218Direct型大気圧プラズマCVDにより構造制御したシリカ膜のガス透過および浸透気化特性
(広大院先進理工) ○(学·技基)鴨川 陽輔・ (正)長澤 寛規・ (正)森山 教洋・ (正)金指 正言・ (正)都留 稔了
plasma
CVD
silica membrane
ST-28390

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