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化学工学会 第54回秋季大会 (福岡)

講演プログラム検索結果 : Nagasawa Hiroki : 9件

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ローマ字氏名 が『Nagasawa Hiroki』と一致する講演：7件該当しました。
司会・座長氏名 が『Nagasawa Hiroki』と一致するセッション：2件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。また、フラッシュ付きポスターの場合、フラッシュとポスターの２件となります。

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
第 1 日
13:40～ 14:00		K115架橋型オルガノシリカ膜の細孔構造制御と低温下におけるO2分離への応用
(広大院先進理工) ○(学)和泉 亮平・ (正)金指 正言・ (大陽日酸) (法)石﨑 一俊・ (広大院先進理工) (正)森山 教洋・ (正)長澤 寛規・ (正)都留 稔了
membrane
air separation
low temperature
SY-61541
第 1 日
14:00～ 14:20		K116フッ素系シリカ多孔膜の炭化水素透過特性
(広大院先進理工) ○(学)山本 健斗・ (正)金指 正言・ (正)森山 教洋・ (正)長澤 寛規・ (正)都留 稔了
Hydrocarbon
C4 separation
Silica membrane
SY-61489
第 1 日
14:20～ 14:40		K117オルガノシリカ膜による水蒸気回収と潜熱の有効利用
(広大先進理工) ○(正)森山 教洋・ (学)久保 卓也・ (正)長澤 寛規・ (正)金指 正言・ (正)都留 稔了
Organosilica
Vapor permeation
Steam recovery
SY-61396
第 1 日
14:20～ 16:00		   座長 吉岡 朋久・長澤 寛規
K117オルガノシリカ膜による水蒸気回収と潜熱の有効利用
(広大先進理工) ○(正)森山 教洋・ (学)久保 卓也・ (正)長澤 寛規・ (正)金指 正言・ (正)都留 稔了
Organosilica
Vapor permeation
Steam recovery
SY-61396
K118表面特性を制御した酸化グラフェン膜の作製と水蒸気透過特性評価
(広大院先進理工) ○(学)竹中 里彩・ (正)森山 教洋・ (正)長澤 寛規・ (正)金指 正言・ (正)都留 稔了
Graphene oxide
Water vapor
Dehumidification
SY-61531
K119後処理MFIゼオライト膜による炭化水素分離
(芝浦工大工) ○(正)野村 幹弘・ 片野 槙・ 倉田 陽生・ (学)松岡 正秀・ (学)栗林 雄太・ (学)イルマリザ カラリン
MFI zeolite membrane
alkoxide treatment
hydrocarbon separation
SY-61253
K120Al位置がZSM-5膜の透過分離性能に与える影響
(早大先進理工) ○(学)近藤 拓海・ (正)酒井 求・ (早大先進理工/早大ナノライフ/早大理工総研) (正)松方 正彦
zeolite
Al distribution
membrane
SY-61900
K121パラジウム被膜バナジウム複合膜による水素透過のモデル化
(東理大) ○(学)仁保 貴晴・ (太陽鉱工) 吉永 英雄・ (東理大) (正)村上 裕哉・ (正)松川 博亮・ (正)大竹 勝人・ (正)庄野 厚
Hydrogen
Permeation
Composite membrane
SY-61906
第 1 日
14:40～ 15:00		K118表面特性を制御した酸化グラフェン膜の作製と水蒸気透過特性評価
(広大院先進理工) ○(学)竹中 里彩・ (正)森山 教洋・ (正)長澤 寛規・ (正)金指 正言・ (正)都留 稔了
Graphene oxide
Water vapor
Dehumidification
SY-61531
第 2 日
10:20～ 10:40		X205フッ素系スルホン酸高分子/セラミック複合膜のNH3分離特性と反応への応用
(広大院先進理工) ○(学·技基)脇本 倖太朗・ (学)Wei-Wei Yan・ (正)森山 教洋・ (正)長澤 寛規・ (正)金指 正言・ (正)都留 稔了
Polymer/ceramic composite membranes
Ammonia
separation
ST-27491
第 2 日
13:40～ 15:00		   座長 長澤 寛規・須網 暁
G215多相交流アークにおける温度変動特性の二方向同期計測
(九大工) ○(学)十河 りつ・ 一二 碧利・ (正)田中 学・ (正)渡辺 隆行・ (パナソニック) 大熊 崇文・ (正)永井 久雄・ 丸山 大貴
thermal plasma
multiphase AC arc
arc fluctuation
ST-28607
G216高速表面処理に用いるプレーナー熱プラズマの温度特性
(九大院工) ○(学)竹中 凌・ 十河 優太・ (正)田中 学・ (正)渡辺 隆行・ (東北院工) 茂田 正哉・ (タソーアーク) 松浦 次雄
thermal plasma
AC arc plasma
planar thermal plasma
ST-28666
G217造孔剤を用いた大気圧プラズマCVDによるナノポーラス膜の作製
(広大院先進理工) ○(学)波村 龍人・ (正)長澤 寛規・ (正)森山 教洋・ (正)金指 正言・ (正)都留 稔了
Atmospheric Pressure Plasma
porogen
silica membrane
ST-28389
G218Direct型大気圧プラズマCVDにより構造制御したシリカ膜のガス透過および浸透気化特性
(広大院先進理工) ○(学·技基)鴨川 陽輔・ (正)長澤 寛規・ (正)森山 教洋・ (正)金指 正言・ (正)都留 稔了
plasma
CVD
silica membrane
ST-28390
第 2 日
14:20～ 14:40		G217造孔剤を用いた大気圧プラズマCVDによるナノポーラス膜の作製
(広大院先進理工) ○(学)波村 龍人・ (正)長澤 寛規・ (正)森山 教洋・ (正)金指 正言・ (正)都留 稔了
Atmospheric Pressure Plasma
porogen
silica membrane
ST-28389
第 2 日
14:40～ 15:00		G218Direct型大気圧プラズマCVDにより構造制御したシリカ膜のガス透過および浸透気化特性
(広大院先進理工) ○(学·技基)鴨川 陽輔・ (正)長澤 寛規・ (正)森山 教洋・ (正)金指 正言・ (正)都留 稔了
plasma
CVD
silica membrane
ST-28390

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