J会場 - 講演プログラム（会場・日程別） - 化学工学会第90年会 (東京)

`化学工学会第90年会 (東京)`

Last modified: 2025-01-18 14:10:04

講演プログラム（会場・日程別） : J会場

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J 会場(講義棟 4F 402)

J 会場・第 1 日 | J 会場・第 2 日 | J 会場・第 3 日
5 反応工学 | 11 エレクトロニクス | 5 反応工学

講演時刻	講演番号	講演題目／発表者	キーワード	分類番号	受理番号
J 会場(講義棟 4F 402) ・第 1 日(3月12日(水))
5. 反応工学
(13:00～14:40)
13:00～ 13:20	J113	Expansion of operating window of gas-liquid segmented flow in microchannels using a high-speed valve (京大院工) ○(海)Leung Chiyuen・ (正)Sotowa Ken-Ichiro・ (正)Tonomura Osamu	Gas-liquid segmented flow Microchannel High-speed valve	5-f	175
13:20～ 13:40	J114	Ru系光触媒を固定した高分子粒子の開発およびフロー酸化反応への応用 (九大院工) ○(正·技基)松本光・ (正)西村和也・ (正)長尾匡憲・ (正)三浦佳子	Polymer-supported catalyst Ru photocatalyst continuous-flow reaction	5-f	40
13:40～ 14:00	J115	マイクロミキサーを活用したポリマー微粒子合成 (パナソニックホールディングス) ○(正)細川淳二・高橋美枝・中村太一	Micromixer Polymer particle Emulsion polymerization	5-f	59
14:00～ 14:20	J116	多孔性ゲルに固定化した固定化触媒を用いた連続流通 (九大院工) ○(正)三浦佳子・重枝春孝・ (正·技士)松本光・ (正)長尾匡憲	Residence time distribution Continuous flow reaction Immobilized catalyst	5-f	392
14:20～ 14:40	J117	Developing automated kinetic measurement instruments for amidation reaction (AIST) ○(正)Yusniyanti Febi・ (正)Wahyudianto Benny・ Saito Takashi・ (正)Takebayashi Yoshihiro・ (正)Kataoka Sho	amide bond formation kinetic measurement solvent	5-e	172
(15:00～16:00)
15:00～ 15:20	J119	液液スラグフローの有効界面積に与える液膜の影響の解析 (阪公大院工) (学·技基)吉村太智・ (正)沖田愛利香・ (正)安田昌弘・ ○(正)堀江孝史	Liquid-liquid slug flow Microreactor Mass transfer	5-f	716
15:20～ 15:40	J120	新規メカノケミカル法を用いた古紙からのセルロースオリゴ糖の分離 (道総研工試) ○(正)森武士・ (正)小川雄太・ (明和製紙原料) 片山楓・粟井崇広・駒津慎・ (道総研工試) (正)松嶋景一郎	paper wastes mechanochemistry depolymerization	5-g	252
15:40～ 16:00	J121	電気アシストを用いた化学溶解法による炭素繊維強化プラスチックからの繊維回収 (九大院工) ○(正)大島一真・ (学)小林燎平・ (香川大工) 松田伸也・ (九大院工) (正)岸田昌浩	CFRP Recycling Electrical treatment Acid solution	5-i	8
J 会場(講義棟 4F 402) ・第 2 日(3月13日(木))
(9:20～10:20)
9:20～ 9:40	J202	ZnOおよびg-C3N4光触媒による過酸化水素製造におけるアルコール、フッ素イオンの添加効果 (長岡高専) ○(正)村上能規・佐藤希海・丸山ちひろ	Photocatalysis H2O2	5-a	54
9:40～ 10:00	J203	逆水性ガスシフト反応を加速するスパイラル形構造体触媒の幾何形状効果 (静大工) ○(正)赤間弘・ (静大院工) (学)仲澤佑真・ (正)渡部綾・ (正)福原長寿	Spiral catalyst Electroless plating Reverse water-gas shift	5-a	504
10:00～ 10:20	J204	バイオガスを直接メタン化する革新的触媒変換技術:CO₂分離不要な高濃度CH₄製造 (静大院工) ○(正)福原長寿・ (学)植田祥太・ (正)渡部綾・ (静大工) (正)赤間弘	Biogas Methanation Structured catalyst	5-a	498
(10:40～12:00)
10:40～ 11:00	J206	有機光触媒による可視光照射下での二酸化炭素の水による還元反応 (神戸大工) ○(正)市橋祐一・ (学)獅子田和樹・大石海斗	Reduction of carbon dioxide Organic photocatalyst Methanol synthesis	5-a	447
11:00～ 11:20	J207	C2H4の合成を目的としたCO2電解還元用触媒の試作と評価 (カネカ) ○(正)宇久恭司・ (法)藤村樹・ (正·技士)浅井洋介	CO2 Ethylene Electrolysis	5-a	123
11:20～ 11:40	J208	原料H2/N2比制御によるNH3合成量調整法 (豊田中研) ○(正)菊川将嗣・ (法)後藤能宏・ (法)山崎清・ (法)松本満・ (法)青木正和・ (トヨタ自) 佐藤彰倫・ (産総研) 眞中雄一・難波哲哉	NH3 synthesis Ru catalyst hydrogen carrier	5-a	89
11:40～ 12:00	J209	電場印加と水素膜分離を組み合わせたNH₃分解反応 (岐阜大工) ○(正)上宮成之・ (岐阜大院自) 鈴木達也・ (岐阜大工) (正)宮本学・ (岐阜大高等研) (正)近江靖則	NH3 decomposition Electric field Membrane reactor	5-d	398
(13:00～14:40)
13:00～ 13:20	J213	オペランドX線イメージングを利用したゼロギャップ型CO₂電解セル内部の液挙動解析 (東芝) ○(正)藤原直也・山際正和・北川良太・吉木昌彦・沖充浩・王萍・秋元陽介	CO2 electrolysis X-ray imaging operando radiography	5-a	305
13:20～ 13:40	J214	還元鉄の炭化反応における反応機構の解明および反応量の推算 (神戸製鋼所) ○(正·技基)矢田部翔多・ (法)前田基秀・ (東北大) 村上太一	Direct Reduced Iron Carbonization Boudouard Reaction	5-a	184
13:40～ 14:00	J215	メタノールからのパラキシレン合成におけるシリカライト被覆コアシェルMFI型ゼオライト触媒の開発 (川崎重工業) ○(法)米田滉司・ (法)鬼頭慎太郎・ (法)藁谷友祐・ (法)谷山教幸・ (阪大院基工) (正)三宅浩史・ (正)西山憲和	CCUS catalyst p-xylene	5-a	292
14:00～ 14:20	J216	化学ループにおけるアルカリ金属およびアルカリ土類金属の修飾によるイルメナイトの反応性と水素収率の向上 (Science Tokyo) ○(海)Sun Zhuang・ (正)Otomo Junichiro	Ilmenite modification alkali and alkaline earth metals redox kinetics	5-a	346
14:20～ 14:40	J217	ケミカルループメタン酸化におけるカルシウムフェライト酸素キャリアの相変化と反応活性 (Science Tokyo) ○(学)小坂貢之・ (正)大友順一郎	chemical looping calcium ferrite structural phase transformation	5-a	664
(15:00～16:00)
15:00～ 15:20	J219	液液スラグ流によるフルフラールの反応抽出における合流回数の影響 (岡山大院環生) ○(正)島内寿徳・ (正)山野晃平・ (慶應大理工) (正)藤岡沙都子・ (正)寺坂宏一・ (岡山大院環生) (正)木村幸敬	mixing liquid-liquid slug flow reactive extraction	5-d	662
15:20～ 15:40	J220	H2とCO2を原料とするカーボン製造技術の開発 (IHI) ○(法)乙幡拓希・ (正)中村至高・ (法)渕瀨啓太	CO2 utilization carbon synthesis hydrogen	5-a	57
15:40～ 16:00	J221	火炎噴霧熱分解法で調製したNi@SiO2コアシェル触媒におけるNi含有量の影響 (金沢大新学術) ○(正)藤原翔・ (金沢大理工) 尾形勇樹・ (北陸先端大) 東嶺孝一・ (金沢大理工) (正)大坂侑吾・ (正)辻口拓也・ (金沢大新学術) (正)児玉昭雄	Flame spray pyrolysis Ni catalysts Dry reforming of methane	5-a	137
(16:00～17:00)
16:00～ 16:20	J222	Ni-Mo2C/MgO触媒によるCH4/CO2からの水素リッチガスとCNTの合成 (京大院工) ○(海)Saconsint Supanida・ (正)佐野紀彰・ (Mahidol U.) Ratchahat Sakhon	catalyst dry reforming of methane biogas	5-a	575
16:20～ 16:40	J223	窒素及びリンを導入したメタルフリー炭素系触媒を用いたCO2電解による合成ガス生成 (阪大院基工) ○(学)高田龍司・ (鳥取大院工) 岡田拓之・ (阪大院基工) (正)三宅浩史・ (正)内田幸明・ (鳥取大院工) 辻悦治・ (阪大院基工) (正)西山憲和	CO2 electrolysis syngas metal-free electrocatalyst	5-a	41
16:40～ 17:00	J224	インライン分光を用いたZrO2触媒によるエステル直接アミド化のフロー反応解析 (産総研) ○(正)千田勤・ (正)竹林良浩・ (正)陶究・ (正)片岡祥	flow reactor in-line monitoring infrared and near-infrared spectroscopy	5-a	183
J 会場(講義棟 4F 402) ・第 3 日(3月14日(金))
11. エレクトロニクス
(10:40～11:40)
10:40～ 11:00	J306	固体高分子形燃料電池の移動現象の無次元支配因子 (京大院工) ○(正)馬楡塁・ (正)長谷川茂樹・ (正)影山美帆・ (正)河瀬元明	polymer electrolyte fuel cell mass transfer resistance electrochemical reaction engineering	11-a	458
11:00～ 11:20	J307	亜鉛空気電池電極のためのカーボンナノチューブ/活性炭複合材料 (京大院工) ○(海)Kalong Munsuree・ (正)佐野紀彰・鈴木哲夫	Zn-air battery carbon nanotube activated carbon	11-a	573
11:20～ 11:40	J308	Cuペーストの低温接合可能性の探索 -第3報- (住友金属鉱山) ○(法)鳥山隆浩・ (法)柏谷智	copper sintering complex	11-e	294
5. 反応工学
オーガナイズドセッション(反応工学部会CVD反応分科会)
(13:00～14:20)
13:00～ 13:20	J313	HF蒸気を用いた薄膜エッチングに関する実験および数値シミュレーション (Screen SPE) ○(正)寶田浩延・藤原光・滝朋恵・瀧昭彦・黒枝篤史・折坂昌幸	CFD Vapor Process Etching	5-h	306
13:20～ 13:40	J314	アルミニウム層成長によるトリメチルアルミニウムと水素の気相反応に関する密度汎関数理論研究 (京大院工) ○(学)李亜飛・ (正)河瀬元明	Aluminum deposition Density functional theory MOCVD	5-h	247
13:40～ 14:00	J315	Nb薄膜の低温プラズマ製膜プロセスの検討 (東大院工) ○(学)田中潤・ (正)山口潤・ (正)佐藤登・ (正)筑根敦弘・ (正)霜垣幸浩	niobium plasma deposition low-temperature	5-h	313
14:00～ 14:20	J316	An evaluation of high temperature processed Bi-based perovskite thin film for photovoltaic application (京大工) ○(海)楊紫光・眞榮田亮・ (正)河瀬元明	chemical vapor deposition perovskite solar cells chemical reaction engineering	5-h	564
(14:40～16:20)
14:40～ 15:00	J318	気相合成されたTiO₂、TiO₂+CuOナノ粒子薄膜の種々の反応場における光触媒性能 (広大院先進理工) Hudandini Meditha・ (ITS Surabaya) Kusdianto K.・ (広大院先進理工) (正)久保優・ ○(正)島田学	PECVD nanoporous composite aerosol deposition	5-h	268
15:00～ 15:20	J319	ニューラルネットワークポテンシャルを用いた吸脱着平衡定数・表面反応速度定数の推算 (東大院工) ○(正)佐藤登・ (学)吉田幸希・ (正)大高雄平・ (正)筑根敦弘・ (正)霜垣幸浩	machine learned potential surface kinetics	5-h	461
15:20～ 15:40	J320	ニューラルネットワークポテンシャルを用いたトリメチルアルミニウムの吸着状況の解析 (U. Tokyo) ○(学)Wu Yuxuan・ (正)山口潤・ (正)佐藤登・ (正)筑根敦弘・ (正)霜垣幸浩	ALD CVD Surface Adsorption	5-h	263
15:40～ 16:00	J321	Co-ALDにおける初期核発生と成長過程の評価 (東大院工) ○(正)玉置直樹・ (正)山口潤・ (正)佐藤登・ (正)筑根敦弘・ (正)霜垣幸浩	atomic layer deposition initial growth in-situ observation	5-h	551
16:00～ 16:20	J322	Mo(CO)₆を用いたMo原子層成長プロセス開発 (東大院工) ○(学)小原聡顕・ (正)山口潤・ (正)佐藤登・ (正)筑根敦弘・ (正)霜垣幸浩	Mo(CO)6 low resistivity good step coverage	5-h	324
16:20～ 16:40		CVD反応分科会奨励賞授賞式

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