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化学工学会 第55回秋季大会

Last modified: 2024-09-09 18:25:12

講演プログラム（会場・日程別） : C会場・第2日

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C 会場(B3棟 1階 B32) ・ 第 2 日(9月12日(木))

SY-77 | HQ-12 | SY-77

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
SY-77 [エレクトロニクス部会シンポジウム]
エレクトロニクス材料とプロセス技術
(9:00～10:00) (司会 岩本 猛)
9:00～ 9:40C201[展望講演] 半導体用レジストの動向と後工程用の厚膜i線化学増幅レジストの開発
(阪公大) 堀邊 英夫
Resist
semiconductor process
SY-7710
9:40～ 10:00C203[招待講演] ウェットプロセスによるウルトラ・ハイバリア膜技術
(山形大) 硯里 善幸
Barrier film
Wet process
SY-7711
(10:00～11:20) (司会 羽深 等)
10:00～ 10:20C204[招待講演] ダイヤモンドデバイスの最先端技術、社会実装と展望
(大熊ダイヤモンドデバイス) 星川 尚久
Diamond device
SY-7712
10:20～ 10:40休憩
10:40～ 11:20C206[展望講演] 最先端半導体に関わる北海道の最新動向
(北大) 清水 聖幸
Semiconductor Industry
SY-7720
HQ-12 女性技術者ネットワーク
(12:10～13:00) (司会 山内 紀子)
12:10～ 12:35C211[招待講演] 光機能性材料の開発とあたらしい働き方の探索
(室蘭工大) 高瀬 舞
photocatalyst
inorganic material
life-work balance
HQ-12170
12:35～ 13:00C212[招待講演] 化学工学会における男女共同参画の現状と課題
(産総研) (正)吉宗 美紀
TBD
HQ-12169
SY-77 [エレクトロニクス部会シンポジウム]
エレクトロニクス材料とプロセス技術
(13:20～14:00) (座長 岩本 猛)
13:20～ 13:40C214SiCxNyOzプラズマCVD製膜における前駆体の関わり方
(横国大) (正)羽深 等
PECVD
SiCxNyOz
SY-77203
13:40～ 14:00C215TOF-SIMSによる銅シード層を用いたシクロオレフィンポリマーと銅めっき層の密着メカニズムの調査
(ウシオ電機/岐阜大院工) ○(正)清水 昭宏・ (芝浦機械) 深田 和宏・ (岐阜大) (正)神原 信志
TOF-SIMS
copper seed layer
cycloolefin polymer
SY-77328
(14:00～14:40) (座長 羽深 等)
14:00～ 14:20C216銅ナノワイヤから作製した銅不織布電極の機械特性評価
(三井金属) ○(法)薦田 康夫・ (法)柴田 泰宏
Copper non-woven fabrics
Copper nanowire
Flexible electrodes
SY-77336
14:20～ 14:40C217パワーモジュールのアセンブリに関する技術開発
(三菱電機) (部)藤野 純司
Power module assembly
SY-77438

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化学工学会 第55回秋季大会

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