
化学工学会 第55回秋季大会
Last modified: 2024-09-19 02:24:28
講演プログラム(セッション別) : ST-25 : J213
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ST-25 [部会横断型シンポジウム]
CVD/ALD・ドライプロセス -構造・機能制御の反応工学-
オーガナイザー: | 清水 秀治(大陽日酸(株))・野田 優(早稲田大学) |
CVDやALDなどのドライプロセスはエレクトロニクス、エネルギーデバイス、機能性コーティングなど様々な分野で重要な基幹技術となっています。特に近年は産業のコメとも呼ばれる半導体産業の重要性が再認識され、メカニズムの理解に立脚したプロセスの構築と制御が増々求められています。本シンポジウムでは、ドライプロセスを利用した薄膜形成、微粒子合成、微細加工の反応メカニズムを反応工学的見地より理解し、合理的で効率的な反応プロセスや反応装置を議論します。
J 会場 ・ 第 1 日 | J 会場 ・ 第 2 日
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化学工学会 第55回秋季大会
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