English page RELOAD
SCEJ

化学工学会 第55回秋季大会

Last modified: 2024-09-19 02:24:28

講演プログラム（会場・日程別） : C会場・第2日 : C217

講演要旨を公開しました。講演番号をクリックしてください。
(参加費支払済みの参加登録者およびご招待者にメールでお知らせしたID/PWが必要です。)

C 会場(B3棟 1階 B32) ・ 第 2 日(9月12日(木))

SY-77 | HQ-12 | SY-77

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
SY-77 [エレクトロニクス部会シンポジウム]
エレクトロニクス材料とプロセス技術
(9:00～10:00) (司会 岩本 猛)
9:00～ 9:40C201[展望講演] 半導体用レジストの動向と後工程用の厚膜i線化学増幅レジストの開発
Resist
semiconductor process
SY-7710
9:40～ 10:00C203[招待講演] ウェットプロセスによるウルトラ・ハイバリア膜技術
Barrier film
Wet process
SY-7711
(10:00～11:20) (司会 羽深 等)
10:00～ 10:20C204[招待講演] ダイヤモンドデバイスの最先端技術、社会実装と展望
Diamond device
SY-7712
10:20～ 10:40休憩
10:40～ 11:20C206[展望講演] 最先端半導体に関わる北海道の最新動向
Semiconductor Industry
SY-7720
HQ-12 女性技術者ネットワーク
(12:10～13:00) (司会 山内 紀子)
12:10～ 12:35C211[招待講演] 光機能性材料の開発とあたらしい働き方の探索
photocatalyst
inorganic material
life-work balance
HQ-12170
12:35～ 13:00C212[招待講演] 化学工学会における男女共同参画の現状と課題
TBD
HQ-12169
SY-77 [エレクトロニクス部会シンポジウム]
エレクトロニクス材料とプロセス技術
(13:20～14:00) (座長 岩本 猛)
13:20～ 13:40C214SiCxNyOzプラズマCVD製膜における前駆体の関わり方
PECVD
SiCxNyOz
SY-77203
13:40～ 14:00C215TOF-SIMSによる銅シード層を用いたシクロオレフィンポリマーと銅めっき層の密着メカニズムの調査
TOF-SIMS
copper seed layer
cycloolefin polymer
SY-77328
(14:00～14:40) (座長 羽深 等)
14:00～ 14:20C216銅ナノワイヤから作製した銅不織布電極の機械特性評価
Copper non-woven fabrics
Copper nanowire
Flexible electrodes
SY-77336
14:20～ 14:40C217パワーモジュールのアセンブリに関する技術開発
Power module assembly
SY-77438

講演発表プログラム
講演プログラム一覧(横長)  (同 縦長表示)
セッション一覧
講演プログラムの検索
化学工学会 第55回秋季大会

(C) 2024 公益社団法人化学工学会 The Society of Chemical Engineers, Japan. All rights reserved.
For more information contact 化学工学会 第55回秋季大会 実行委員会
E-mail: inquiry-55fwww4.scej.org