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化学工学会 第89年会 (堺)

講演プログラム検索結果 : 原 伸生 : 4件

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発表者または座長 が『原 伸生』と一致する講演：2件該当しました。
司会・座長氏名 が『原 伸生』と一致するセッション：2件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
第 1 日
14:20～ 14:40		K117Design and Optimization of an Integrated CO2 Capture, Utilization and Storage System for Large-scale Removal of CO2 emissions
(AIST) ○(正)Nguyen Thuy・ 谷口 智・ (正)山木 雄大・ (正)原 伸生・ (正)片岡 祥
integrated CCUS system
large-scale CO2 emission sources
process design and optimization
6-b359
第 2 日
9:20～ 10:20		   座長 原 伸生
G202浸透圧補助逆浸透法(OARO)による有機溶媒水溶液の高度濃縮プロセスの数値的検討
(岡山大院自) ○(正)三野 泰志・ (神戸大先端膜工学セ) (正)熊谷 和夫・ (神戸大院工/先端膜工学セ) (正)松山 秀人
Osmotically Assisted Reverse Osmosis
Aqueous Organic Solvent
Concentration Process
4-a241
G203ポリアミド膜表面修復工学に基づく高性能有機溶媒逆浸透の研究
(Kobe U.) ○(学)Fu Wenming・ Hu Mengyang・ Matsuyama Hideto
Prganic solvent reverse osmosis
Polyamide membrane
Surface repair engineering
4-a566
G204大気圧プラズマを用いて表面改質したオルガノシリカ膜による有機溶媒水溶液の逆浸透濃縮
(広大院先進理工) ○(学)青山 舜・ (正)長澤 寛規・ (正)森山 教洋・ (正)金指 正言・ (正)都留 稔了
Reverse osmosis
membrane
plasma
4-a72
第 2 日
14:00～ 14:40		   座長 原 伸生・大石 卓弥
K216細胞特性から社会的要請までを考慮した抗体医薬品製造プロセスのモデルベースト設計フレームワーク
(東大院工) ○(学)岡村 梢・ (海)バドラ サラ・ (正)杉山 弘和
Biopharmaceuticals
Process design
IDEF0
6-g92
K217機械学習を用いた高分子の粗視化力場パラメータ最適化
(トヨタ自) ○(正)森下 哲典・ (Massachusetts Inst. Tech.) Leon Pablo・ Gomez-Bombarelli Rafael
Coarse-Grained Force Field
Machine Learning
6-g220
第 2 日
16:20～ 16:40		G223CO2膜分離プロセスの2目的最適化における所要動力と膜面積の関係
(産総研) ○(正)原 伸生・ (正)谷口 智・ (正)山木 雄大・ (正)Nguyen Thuy・ (正)片岡 祥
CCUS
Bi-objective optimization
CO2 emissions
4-a186

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