5. 反応工学

`化学工学会第89年会 (堺)`

Last modified: 2024-12-13 11:36:26

講演プログラム（セッション別） : 5. 反応工学

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F 会場・第 1 日 | F 会場・第 2 日 | F 会場・第 3 日 | G 会場・第 3 日

講演時刻	講演番号	講演題目／発表者	キーワード	分類番号	受理番号
F 会場(B3棟 2F 206) ・第 1 日(3月18日(月))
(13:00～14:20) (座長笹山知嶺)
13:00～ 13:20	F113	CH₃SHを経由したC1系化合物からのアルカン合成プロセスの評価 (静大院工) ○(正)渡部綾・ Smith Suchada・ (正)赤間弘・ (九大院工) (正)大島一真・ (正)岸田昌浩・ (静大院工) (正)福原長寿	Methanethiol Alkane synthesis Sulfur	5-a	552
13:20～ 13:40	F114	温室効果ガス(GHG)を高速変換する構造体触媒システム:Swirl flowによる変換力の加速効果 (静大工) ○(正)赤間弘・ (静大院工) (学)仲澤佑真・ (正)渡部綾・ (正)福原長寿	Structured catalyst system Methanation Reverse water gas shift	5-a	417
13:40～ 14:00	F115	[注目講演] 温室効果ガス(GHG)を高速変換する構造体触媒システム:グリーンプロセスへの展開 (静大院工) ○(正)福原長寿・ (学)内木寛人・ (静大工) (学)山田祐生・ (正)赤間弘・ (静大院工) (正)渡部綾	Structured catalyst system Dry reforming Solid carbon capture	5-a	418
14:00～ 14:20	F116	火炎噴霧熱分解法で調製したNi/CeO₂触媒におけるCO₂メタン化反応の活性サイト (金沢大新学術) (正)藤原翔	CO2 methanation Ni catalyst CeO2	5-a	493
(14:20～14:40) (座長藤原翔)
14:20～ 14:40	F117	二元機能触媒によるCO₂回収および転換に関する反応速度解析 (産総研) ○(正)小野祐耶・ (正·技基)笹山知嶺・ (正)高坂文彦・ (正)森本正人・ (正)松岡浩一・ (正)倉本浩司	dual-function materials CO2 capture and utilization reaction kinetics	5-a	612
(15:00～15:40) (座長藤原翔)
15:00～ 15:20	F119	2次元ヘテロ構造ナノチャネルを有するHNb₃O₈/g-C₃N₄ナノシート複合光触媒膜の開発 (神戸大院科技イノベ/先端膜工学セ) ○(正)中川敬三・ (神戸大院科技イノベ/) (学)井元誠志・ (国台湾科技大) Hu Chechia・ (神戸大院科技イノベ/先端膜工学セ) (正)吉岡朋久・ (神戸大院工/先端膜工学セ) (正)松岡淳・ (正)神尾英治・ (正)松山秀人	nanosheet photocatalytic membrane reactor heterostructured nanochannel	5-a	576
15:20～ 15:40	F120	遷移金属酸化物触媒上での水と酸素によるイソパラフィン気相選択酸化の反応機構と速度論 (東北大院工) ○(正)高橋厚・ (学·技基)大野誠尚・ (正)廣森浩祐・ (正)北川尚美	green oxidation metal oxide catalyst kinetic analysis	5-a	464
(15:40～17:00) (座長高橋厚)
15:40～ 16:00	F121	Co系触媒を用いたプラズマDRMにおける助触媒の検討 (農工大院工) ○(正)神谷憲児・ (農工大工) 井上琴音・ (農工大院BASE) (正)銭衛華・ (岐阜大院工) (正)小林信介	Co based catalyst Plasma catalyst CO2 capture and utilization	5-a	663
16:00～ 16:20	F122	液相光触媒プロセスにおける機械学習を利用したハイブリッド速度論モデルの開発 (長岡高専) ○(正)熱海良輔・ (学·技基)中野悠・ (学)岩井真	Photocatalyst Kinetics Machine learning	5-a	693
16:20～ 16:40	F123	Machine Learning-assisted analysis of NO adsorption and dissociation on PdRuIr ternary nanoparticle alloy (Shinshu U.) ○(正)Aspera Susan Menez・ Valadez Huerta Gerardo・ Nanba Yusuke・ Hisama Kaoru・ (正)Koyama Michihisa	machine learning nanoparticle alloy catalysis	5-a	285
16:40～ 17:00	F124	化学反応ニューラルネットワークによる反応機構探索の効率化とグリセリン酸化への適用 (信州大繊維) ○(正)嶋田五百里・ (信州大院総理工) (学)塩谷友希	chemical reaction neural network kinetic model glycerol oxidation	5-a	325
F 会場(B3棟 2F 206) ・第 2 日(3月19日(火))
オーガナイズドセッション(反応工学部会CVD反応分科会)
(9:00～10:00) (座長霜垣幸浩・清水秀治)
9:00～ 9:20	F201	化学気相成長を用いたビスマス系ペロブスカイト薄膜の反応速度式の解析 (京大工) ○(海)楊紫光・ (学)戸上敬登・ (学)田邉舞香・ (正)河瀬元明	Chemical vapor deposition Methylammonium bismuth iodide Perovskite solar cell	5-h	686
9:20～ 9:40	F202	還元性ガスを添加した反応性スパッタリングによるMAX合金薄膜の形成 (阪公大院工) ○(正)齊藤丈靖・ (学·技基)上田和貴・ (正)岡本尚樹	sputtering MAX-phase	5-h	787
9:40～ 10:00	F203	不飽和度の異なる炭化水素種からの炭素CVD速度の解析 (京大工) (学)仲野真治・ (正)藤墳大裕・ ○(正)河瀬元明	CVD carbon coking	5-h	785
(10:00～11:00) (座長河瀬元明)
10:00～ 10:20	F204	画像解析を利用した機械学習モデルによるグラフェンドメイン拡大合成条件の探索 (福岡大工) (学)田原勇弥・ ○(正)吉原直記・ (正)野田賢	Graphene Chemical vapor deposition Machine learning	5-i	302
10:20～ 10:40	F205	流体混合制御による浮遊触媒CVD法でのカーボンナノチューブの安定連続合成 (早大先進理工) ○(正)Lang Jianghua・ (正)大沢利男・ (正)野田優	carbon nanotube chemical vapor deposition continuous process	5-h	225
10:40～ 11:00	F206	SiC-CVIプロセスにおける反応モデルの簡略化 (東大院工) ○(正)佐藤登・ (東大工) (学)吉田幸希・ (東大院工) (学)大高雄平・ (IHI) (正)福島康之・ (東大院工) (正)筑根敦弘・ (正)霜垣幸浩	SiC-CVI CH3SiCl3 Reduced model	5-h	562
(11:00～12:00) (座長野田優・玉置直樹)
11:00～ 11:20	F207	化学気相含浸法によるSiCセラミックス基複合材料作製におけるSiC埋め込みの炉内均一性向上および高速性向上に関する研究 (東大工) ○(学)吉田幸希・ (東大院工) (学)大高雄平・ (学)木村俊介・ (正)佐藤登・ (正)筑根敦弘・ (IHI) (正)福島康之・ (東大院工) (正)霜垣幸浩	SiC CVI CVD	5-h	233
11:20～ 11:40	F208	高MTS分圧供給SiC-CVIにおける収率改善と副生成物抑制を目的とした排出ガス改質条件探索 (東大院工) ○(学)大高雄平・ (東大工) (学)吉田幸希・ (東大院工) (正)佐藤登・ (IHI) (正)福島康之・ (東大院工) (正)筑根敦弘・ (正)霜垣幸浩	CVI SiC Recycling	5-h	633
11:40～ 12:00	F209	SiC_f/SiC-CMC製造における最適CVIプロセス設計指針 (東大院工) ○(学)大高雄平・ (東大工) (学)吉田幸希・ (東大院工) (正)佐藤登・ (IHI) (正)福島康之・ (東大院工) (正)筑根敦弘・ (正)霜垣幸浩	CVI SiC Process design	5-h	634
(13:20～14:20) (座長村中陽介)
13:20～ 13:40	F214	Influence of binder added zeolite catalyst on hydrotreating of vegetable oil (TUAT) ○(海)Kumar Taufik・ Peng Ming Ming・ (正)Kamiya Kenji・ (正)Qian Eika W	binder vegetable oil zeolite	5-a	628
13:40～ 14:00	F215	Saccharification of Cellulose by Using Mesoporous Carbons (農工大院BASE) ○(海)佘少樺・高田俊平・ (農工大工) 渡辺ひかる・須藤雅也・ (農工大院BASE) (正)銭衛華・ (農工大院工) (正)神谷憲児	Mesoporous carbon Saccharification Cellulose	5-a	671
14:00～ 14:20	F216	高温高圧条件下での水/有機二相系のスラグ流によるリグニンの反応抽出 (岡山大院環生) ○(正)島内寿徳・ (学)小林慎・ (慶應大理工) (正)藤岡沙都子・ (正)寺坂宏一・ (岡山大院環生) (正)木村幸敬	vanilin slug flow hydrothermal reaction	5-d	714
(14:20～14:40) (司会上宮成之)
14:20～ 14:40	F217	[研究奨励賞] 自動化フローリアクターを活用した触媒反応解析 (九大先導研) (正)浅野周作	The SCEJ Award for Outstanding Young Researcher	0-c	745
(15:00～16:00) (座長浅野周作)
15:00～ 15:20	F219	機械学習手法を用いた高分子固定化触媒の開発 (九大院工) ○(正)三浦佳子・周新程・ (正·技士)松本光・ (正)長尾匡憲	Polymer Immobilized Catalyst Machine Learning Pd	5-f	717
15:20～ 15:40	F220	近赤外分光と過渡流量法を用いたクライゼン転位の速度解析 (産総研) ○(正)竹林良浩・ (正)陶究・ (正)片岡祥	automated flow reactor NIR kinetic analysis	5-f	136
15:40～ 16:00	F221	水素化反応を用いたテイラー流反応器の物質移動モデルの評価と誤差要因の解析 (三井化学) ○(法)福井拓也・ (阪公大院工) (正)堀江孝史・ (正)沖田愛利香・ (正)安田昌弘	Taylor flow Gas-Liquid reaction Mass transfer	5-f	406
(16:00～17:00) (座長三浦佳子)
16:00～ 16:20	F222	反応分子動力学法による固体高分子形燃料電池用炭素担体のメソ細孔の酸素輸送特性解析 (東北大金研) ○(学)中村哲也・森海斗・福島省吾・ (東北大NICHe) 蘇怡心・ (東北大金研) 浅野優太・大谷優介・ (京大工) 尾澤伸樹・ (東北大金研) (正)久保百司	Polymer Electrolyte Fuel Cell Catalyst Layer Reactive Molecular Dynamics Method	5-a	52
16:20～ 16:40	F223	無限個の一次並列反応の図的解法 (元京大院工) (正)三浦孝一	Kinetic analysis DAEM Activation energy	5-i	307
16:40～ 17:00	F224	Modeling of Autocatalytic Reaction by Cylindrical Particle with Finite Length (Tech U. Korea) Cho Young-Sang	cylindrical particle with finite length autocatalytic reaction reaction-diffusion equation	5-i	98
F 会場(B3棟 2F 206) ・第 3 日(3月20日(水))
(10:20～12:00) (座長島内寿徳・嶋田五百里)
10:20～ 10:40	F305	振動ディスクミルと粘土反応剤を併用したキチンオリゴ糖の高効率製造 (道総研) ○(正)森武士・ (正)小川雄太・ (正)吉田誠一郎・ (正)松嶋景一郎	chitin biorefinery mechanochemical reaction clay	5-g	164
10:40～ 11:00	F306	バイオマス燃料を用いた流動層ボイラにおけるアグロメレーションリスクの事前評価 (IHI検査計測) ○(正)田内希・宮下和大・茂田潤一	agglomeration fluidized-bed combustion biomass fuels	5-g	83
11:00～ 11:20	F307	バイオエタノールからの芳香族化合物合成触媒プロセスの開発 (産総研) ○(正)倉本浩司・ (正)高坂文彦・ (正·技基)笹山知嶺・ (正)松岡浩一・劉彦勇	Bioethanol aromatic compound catalytic process	5-g	499
11:20～ 11:40	F308	バイオマス前処理による熱分解温度低温化 (産総研) (正)細貝聡	Biomass Pyrolysis Pretreatment	5-g	544
11:40～ 12:00	F309	副生成物を利用した持続可能なギ酸/AlCl₃/塩化コリン系水溶液中レブリン酸製造プロセスの開発 (農工大院BASE) ○(学)佐藤龍・ (農工大院工) (学)平野菜奈美・ (正)伏見千尋	Levulinic acid Choline chloride Techno-economic analysis	5-g	288
G 会場(B3棟 2F 207) ・第 3 日(3月20日(水))
オーガナイズドセッション(反応工学部会CVD反応分科会)
(9:00～10:40) (座長齊藤丈靖)
9:00～ 9:20	G301	ALD用トリメチルアルミニウムの物理吸着の定量分析 (東大院工) ○(学)Wu Yuxuan・ (正)山口潤・ (正)佐藤登・ (正)筑根敦弘・ (正)霜垣幸浩	Atomic Layer Depositon Quartz Crystal Microbalance Surface Adsorption	5-h	383
9:20～ 9:40	G302	原子層堆積法を用いたZrN薄膜形成プロセスの検討 (東大院工) ○(学)田中潤・ (正)山口潤・ (正)佐藤登・ (正)筑根敦弘・ (正)霜垣幸浩	ZrN ALD TEMAZ	5-h	273
9:40～ 10:00	G303	次世代ULSI配線用Moの原子層成長プロセス開発 (東大院工) ○(学)小原聡顕・ (正)山口潤・ (正)佐藤登・ (正)筑根敦弘・ (正)霜垣幸浩	Molybdenum ALD low resistivity	5-h	123
10:00～ 10:20	G304	ヒドラジンを用いた原子層堆積法によるシリコン窒化膜評価 (大陽日酸) ○(法)和田吉史・ (法)村田逸人・ (法)清水秀治	Siicon Nitride Atomic Layer Deposition Incubation Cycle	5-h	109
10:20～ 10:40	G305	Co薄膜熱原子層エッチングプロセスの検討 (東大院工) ○(正)山口潤・ (正)佐藤登・ (正)筑根敦弘・ (正)百瀬健・ (正)霜垣幸浩	ALE atomic layer eching cobalt	5-h	516
(10:40～12:00) (座長杉目恒志・清水秀治)
10:40～ 11:00	G306	反射光強度その場観察を利用した下地選択Co-ALDプロセスの検討 (東大院工) ○(学)木村俊介・ (正)山口潤・ (正)佐藤登・ (正)百瀬健・ (正)筑根敦弘・ (正)霜垣幸浩	ALD in-situ observation reflectance	5-h	232
11:00～ 11:20	G307	ポリマー上におけるCu連続膜形成プロセスの検討 (東大院工) ○(学)中嶋佑介・ (正)山口潤・ (正)佐藤登・ (正)筑根敦弘・ (正)霜垣幸浩	Atomic Layer Depoition Copper on Polymer	5-h	531
11:20～ 11:40	G308	キセノンエキシマランプを使用したVUV-Redox法による銅表面の活性化 (阪公大院工) ○(正)遠藤真一・ (正)齊藤丈靖	VUV-Redo Surface activation	5-h	786
11:40～ 12:00	G309	CFDシミュレーションによるAlN化合物単結晶成長影響要因の検討 (京大院工) ○(学)李亜飛・村橋孝亮・ (正)河瀬元明	MOCVD CFD III-V compound	5-h	683
12:00～ 12:20		CVD反応分科会奨励賞授賞式

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