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SCEJ

化学工学会 第89年会 (堺)

Last modified: 2024-12-13 11:36:26

講演プログラム(セッション別) : 5. 反応工学

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5. 反応工学

F 会場 ・ 第 1 日 | F 会場 ・ 第 2 日 | F 会場 ・ 第 3 日 | G 会場 ・ 第 3 日

講演
時刻
講演
番号
講演題目/発表者キーワード分類
番号
受理
番号
F 会場(B3棟 2F 206)第 1 日(3月18日(月))
(13:00~14:20) (座長 笹山 知嶺)
13:0013:20F113CH3SHを経由したC1系化合物からのアルカン合成プロセス評価
Methanethiol
Alkane synthesis
Sulfur
5-a552
13:2013:40F114温室効果ガス(GHG)を高速変換する構造体触媒システム:Swirl flowによる変換力加速効果
Structured catalyst system
Methanation
Reverse water gas shift
5-a417
13:4014:00F115[注目講演] 温室効果ガス(GHG)を高速変換する構造体触媒システム:グリーンプロセスへの展開
Structured catalyst system
Dry reforming
Solid carbon capture
5-a418
14:0014:20F116火炎噴霧熱分解法調製したNi/CeO2触媒におけるCO2メタン化反応活性サイト
CO2 methanation
Ni catalyst
CeO2
5-a493
(14:20~14:40) (座長 藤原 翔)
14:2014:40F117二元機能触媒によるCO2回収および転換に関する反応速度解析
(産総研) ○(正)小野 祐耶(正·技基)笹山 知嶺(正)高坂 文彦(正)森本 正人(正)松岡 浩一(正)倉本 浩司
dual-function materials
CO2 capture and utilization
reaction kinetics
5-a612
(15:00~15:40) (座長 藤原 翔)
15:0015:20F1192次元ヘテロ構造ナノチャネルを有するHNb3O8/g-C3N4ナノシート複合光触媒膜開発
nanosheet
photocatalytic membrane reactor
heterostructured nanochannel
5-a576
15:2015:40F120遷移金属酸化物触媒上での水と酸素によるイソパラフィン気相選択酸化反応機構速度論
(東北大院工) ○(正)高橋 厚(学·技基)大野 誠尚(正)廣森 浩祐(正)北川 尚美
green oxidation
metal oxide catalyst
kinetic analysis
5-a464
(15:40~17:00) (座長 高橋 厚)
15:4016:00F121Co系触媒を用いたプラズマDRMにおける助触媒検討
Co based catalyst
Plasma catalyst
CO2 capture and utilization
5-a663
16:0016:20F122液相光触媒プロセスにおける機械学習利用したハイブリッド速度論モデル開発
(長岡高専) ○(正)熱海 良輔(学·技基)中野 悠(学)岩井 真
Photocatalyst
Kinetics
Machine learning
5-a693
16:2016:40F123Machine Learning-assisted analysis of NO adsorption and dissociation on PdRuIr ternary nanoparticle alloy
machine learning
nanoparticle alloy
catalysis
5-a285
16:4017:00F124化学反応ニューラルネットワークによる反応機構探索効率化グリセリン酸化への適用
chemical reaction neural network
kinetic model
glycerol oxidation
5-a325
F 会場(B3棟 2F 206)第 2 日(3月19日(火))
オーガナイズドセッション(反応工学部会CVD反応分科会)
(9:00~10:00) (座長 霜垣 幸浩清水 秀治)
9:009:20F201化学気相成長を用いたビスマスペロブスカイト薄膜反応速度式解析
(京大工) ○(海)楊 紫光(学)戸上 敬登(学)田邉 舞香(正)河瀬 元明
Chemical vapor deposition
Methylammonium bismuth iodide
Perovskite solar cell
5-h686
9:209:40F202還元性ガス添加した反応性スパッタリングによるMAX合金薄膜形成
(阪公大院工) ○(正)齊藤 丈靖(学·技基)上田 和貴(正)岡本 尚樹
sputtering
MAX-phase
5-h787
9:4010:00F203不飽和度の異なる炭化水素種からの炭素CVD速度解析
CVD
carbon
coking
5-h785
(10:00~11:00) (座長 河瀬 元明)
10:0010:20F204画像解析利用した機械学習モデルによるグラフェンドメイン拡大合成条件探索
Graphene
Chemical vapor deposition
Machine learning
5-i302
10:2010:40F205流体混合制御による浮遊触媒CVD法でのカーボンナノチューブ安定連続合成
carbon nanotube
chemical vapor deposition
continuous process
5-h225
10:4011:00F206SiC-CVIプロセスにおける反応モデル簡略化
SiC-CVI
CH3SiCl3
Reduced model
5-h562
(11:00~12:00) (座長 野田 優玉置 直樹)
11:0011:20F207化学気相含浸法によるSiCセラミックス基複合材料作製におけるSiC埋め込みの炉内均一性向上および高速性向上に関する研究
SiC
CVI
CVD
5-h233
11:2011:40F208高MTS分圧供給SiC-CVIにおける収率改善副生成物抑制目的とした排出ガス改質条件探索
CVI
SiC
Recycling
5-h633
11:4012:00F209SiCf/SiC-CMC製造における最適CVIプロセス設計指針
CVI
SiC
Process design
5-h634
(13:20~14:20) (座長 村中 陽介)
13:2013:40F214Influence of binder added zeolite catalyst on hydrotreating of vegetable oil
binder
vegetable oil
zeolite
5-a628
13:4014:00F215Saccharification of Cellulose by Using Mesoporous Carbons
Mesoporous carbon
Saccharification
Cellulose
5-a671
14:0014:20F216高温高圧条件下での水/有機二相系スラグ流によるリグニン反応抽出
vanilin
slug flow
hydrothermal reaction
5-d714
(14:20~14:40) (司会 上宮 成之)
14:2014:40F217[研究奨励賞] 自動化フローリアクター活用した触媒反応解析
The SCEJ Award for Outstanding Young Researcher
0-c745
(15:00~16:00) (座長 浅野 周作)
15:0015:20F219機械学習手法を用いた高分子固定化触媒開発
(九大院工) ○(正)三浦 佳子周 新程(正·技士)松本 光(正)長尾 匡憲
Polymer Immobilized Catalyst
Machine Learning
Pd
5-f717
15:2015:40F220近赤外分光過渡流量法を用いたクライゼン転位速度解析
(産総研) ○(正)竹林 良浩(正)陶 究(正)片岡 祥
automated flow reactor
NIR
kinetic analysis
5-f136
15:4016:00F221水素化反応を用いたテイラー流反応器物質移動モデル評価誤差要因解析
Taylor flow
Gas-Liquid reaction
Mass transfer
5-f406
(16:00~17:00) (座長 三浦 佳子)
16:0016:20F222反応分子動力学法による固体高分子形燃料電池用炭素担体メソ細孔酸素輸送特性解析
Polymer Electrolyte Fuel Cell
Catalyst Layer
Reactive Molecular Dynamics Method
5-a52
16:2016:40F223無限個一次並列反応図的解法
Kinetic analysis
DAEM
Activation energy
5-i307
16:4017:00F224Modeling of Autocatalytic Reaction by Cylindrical Particle with Finite Length
cylindrical particle with finite length
autocatalytic reaction
reaction-diffusion equation
5-i98
F 会場(B3棟 2F 206)第 3 日(3月20日(水))
(10:20~12:00) (座長 島内 寿徳嶋田 五百里)
10:2010:40F305振動ディスクミル粘土反応剤併用したキチンオリゴ糖の高効率製造
chitin biorefinery
mechanochemical reaction
clay
5-g164
10:4011:00F306バイオマス燃料を用いた流動層ボイラにおけるアグロメレーションリスク事前評価
agglomeration
fluidized-bed combustion
biomass fuels
5-g83
11:0011:20F307バイオエタノールからの芳香族化合物合成触媒プロセス開発
(産総研) ○(正)倉本 浩司(正)高坂 文彦(正·技基)笹山 知嶺(正)松岡 浩一劉 彦勇
Bioethanol
aromatic compound
catalytic process
5-g499
11:2011:40F308バイオマス前処理による熱分解温度低温化
Biomass
Pyrolysis
Pretreatment
5-g544
11:4012:00F309副生成物利用した持続可能なギ酸/AlCl3/塩化コリン系水溶液中レブリン酸製造プロセス開発
Levulinic acid
Choline chloride
Techno-economic analysis
5-g288
G 会場(B3棟 2F 207)第 3 日(3月20日(水))
オーガナイズドセッション(反応工学部会CVD反応分科会)
(9:00~10:40) (座長 齊藤 丈靖)
9:009:20G301ALD用トリメチルアルミニウム物理吸着定量分析
(東大院工) ○(学)Wu Yuxuan(正)山口 潤(正)佐藤 登(正)筑根 敦弘(正)霜垣 幸浩
Atomic Layer Depositon
Quartz Crystal Microbalance
Surface Adsorption
5-h383
9:209:40G302原子層堆積法を用いたZrN薄膜形成プロセス検討
(東大院工) ○(学)田中 潤(正)山口 潤(正)佐藤 登(正)筑根 敦弘(正)霜垣 幸浩
ZrN
ALD
TEMAZ
5-h273
9:4010:00G303次世代ULSI配線用Moの原子層成長プロセス開発
(東大院工) ○(学)小原 聡顕(正)山口 潤(正)佐藤 登(正)筑根 敦弘(正)霜垣 幸浩
Molybdenum
ALD
low resistivity
5-h123
10:0010:20G304ヒドラジンを用いた原子層堆積法によるシリコン窒化膜評価
Siicon Nitride
Atomic Layer Deposition
Incubation Cycle
5-h109
10:2010:40G305Co薄膜熱原子層エッチングプロセス検討
(東大院工) ○(正)山口 潤(正)佐藤 登(正)筑根 敦弘(正)百瀬 健(正)霜垣 幸浩
ALE
atomic layer eching
cobalt
5-h516
(10:40~12:00) (座長 杉目 恒志清水 秀治)
10:4011:00G306反射光強度その場観察利用した下地選択Co-ALDプロセス検討
(東大院工) ○(学)木村 俊介(正)山口 潤(正)佐藤 登(正)百瀬 健(正)筑根 敦弘(正)霜垣 幸浩
ALD
in-situ observation
reflectance
5-h232
11:0011:20G307ポリマー上におけるCu連続膜形成プロセス検討
(東大院工) ○(学)中嶋 佑介(正)山口 潤(正)佐藤 登(正)筑根 敦弘(正)霜垣 幸浩
Atomic Layer Depoition
Copper
on Polymer
5-h531
11:2011:40G308キセノンエキシマランプ使用したVUV-Redox法による銅表面活性化
VUV-Redo
Surface activation
5-h786
11:4012:00G309CFDシミュレーションによるAlN化合物単結晶成長影響要因検討
MOCVD
CFD
III-V compound
5-h683
12:0012:20CVD反応分科会奨励賞授賞式
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