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化学工学会 第90年会 (東京)

講演プログラム検索結果 : 玉置 直樹 : 2件

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発表者または座長 が『玉置 直樹』と一致する講演:1件該当しました。
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講演
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講演
番号
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番号
受理
番号
オーガナイズドセッション(反応工学部会CVD反応分科会)
第 3 日
13:0014:20
   座長 島田 学玉置 直樹
J313HF蒸気を用いた薄膜エッチングに関する実験および数値シミュレーション
CFD
Vapor Process
Etching
5-h306
J314アルミニウム層成長によるトリメチルアルミニウム水素気相反応に関する密度汎関数理論研究
Aluminum deposition
Density functional theory
MOCVD
5-h247
J315Nb薄膜低温プラズマ製膜プロセス検討
(東大院工) ○(学)田中 潤(正)山口 潤(正)佐藤 登(正)筑根 敦弘(正)霜垣 幸浩
niobium
plasma deposition
low-temperature
5-h313
J316An evaluation of high temperature processed Bi-based perovskite thin film for photovoltaic application
chemical vapor deposition
perovskite solar cells
chemical reaction engineering
5-h564
第 3 日
15:4016:00
J321Co-ALDにおける初期核発生成長過程評価
(東大院工) ○(正)玉置 直樹(正)山口 潤(正)佐藤 登(正)筑根 敦弘(正)霜垣 幸浩
atomic layer deposition
initial growth
in-situ observation
5-h551
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